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李飞

作品数：23 被引量：11H指数：3
供职机构：中国科学院光电技术研究所更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：理学一般工业技术机械工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 20篇专利
  • 3篇期刊文章

领域

  • 2篇理学
  • 1篇机械工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 13篇金属
  • 12篇纳米
  • 11篇金属纳米
  • 8篇刻蚀
  • 6篇湿法腐蚀
  • 5篇阵列
  • 5篇阵列结构
  • 5篇绝缘硅
  • 5篇光刻
  • 4篇真空蒸镀
  • 4篇消光
  • 4篇金属膜
  • 4篇激光
  • 4篇激光直写
  • 4篇干法刻蚀
  • 3篇氮化硅
  • 3篇等离子体共振
  • 3篇透镜
  • 3篇透镜阵列
  • 3篇微透镜

机构

  • 23篇中国科学院
  • 1篇湖南师范大学
  • 1篇中国科学院研...

作者

  • 23篇李飞
  • 16篇罗先刚
  • 10篇潘丽
  • 9篇岳衢
  • 9篇邱传凯
  • 8篇杜春雷
  • 8篇杨欢
  • 7篇李国俊
  • 6篇周崇喜
  • 5篇胡承刚
  • 4篇张铁军
  • 3篇刘娟意
  • 3篇朱少丽
  • 3篇邓启凌
  • 3篇马文英
  • 2篇姚军
  • 1篇董小春
  • 1篇饶学军
  • 1篇余翔
  • 1篇唐东升

传媒

  • 1篇光子学报
  • 1篇光学与光电技...
  • 1篇纳米技术与精...

年份

  • 2篇2014
  • 2篇2013
  • 5篇2012
  • 3篇2011
  • 4篇2010
  • 3篇2009
  • 2篇2008
  • 2篇2007
共 23 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
一种有机气体传感方法
本发明公开了一种有机气体传感方法，其特征在于包含步骤如下：根据透射波长的需要选择合适型号的传感芯片基底，对基底进行清洗、干燥；在基底上制作金属纳米结构阵列，即得到传感芯片；根据所要检测的气体种类，在上述金属纳米结构阵列上...
马文英杨欢刘娟意姚军李飞
文献传递
一种基于聚二甲基硅氧烷模板的微透镜阵列元件制作方法
本发明是一种基于聚二甲基硅氧烷模板的微透镜阵列元件制作方法，包括如下步骤，S1：制作目标结构掩模板；S2：把目标结构掩模板图形转印到玻璃基板上，得到光刻胶微透镜阵列模版；S3：将聚二甲基硅氧烷与固化剂混合后浇注于光刻胶微...
李飞邱传凯李国俊潘丽岳衢
文献传递
复合金属纳米结构检测金黄色葡萄球菌肠毒素的方法
复合金属纳米结构检测金黄色葡萄球菌肠毒素的方法，包括以下步骤：(1)选择基片并清洗，在其上自组装一层聚苯乙烯纳米球；(2)用制作的聚苯乙烯纳米球自组装层做模具，通过真空蒸镀的方式，在自组装层上蒸镀银、金两种金属膜；(3)...
杨欢李飞罗先刚
文献传递
一种基于平面金属条的光波导及其制备方法
本发明提供一种基于平面金属条的光波导及其制备方法，其结构特征包括掺杂硅层及其上加工的平面金属条。制作流程包括：选择合适的绝缘硅(SOI)，在掺杂硅表面沉积一层金属膜，再在金属膜表面涂覆抗蚀剂，利用紫外纳米压印技术在抗蚀剂...
李国俊潘丽胡承刚邱传凯李飞罗先刚周崇喜岳衢
文献传递
基于负性光刻胶和掩膜移动曝光工艺的微透镜阵列制备方法
本发明提供一种基于负性光刻胶和掩膜移动曝光工艺的微透镜阵列制备方法，其主要工艺流程包括：选取基片，涂覆负性光刻胶，对基片先进行无掩膜曝光，再进行掩膜移动曝光、后烘和显影工艺获得微透镜阵列的光刻胶图形，最后采用干法刻蚀将光...
岳衢李国俊潘丽邱传凯周崇喜李飞
文献传递
基于负性光刻胶和掩膜移动曝光工艺的微透镜阵列制备方法
本发明提供一种基于负性光刻胶和掩膜移动曝光工艺的微透镜阵列制备方法，其主要工艺流程包括：选取基片，涂覆负性光刻胶，对基片先进行无掩膜曝光，再进行掩膜移动曝光、后烘和显影工艺获得微透镜阵列的光刻胶图形，最后采用干法刻蚀将光...
岳衢李国俊潘丽邱传凯周崇喜李飞
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一种可调谐三角形金属纳米粒子阵列结构的制作方法
一种可调谐三角形金属纳米粒子阵列结构的制作方法，步骤：(1)根据透射波长的需要选择合适型号的基底，对基底进行清洗、亲水化处理；(2)在基底表面均匀的自组装一层纳米球；(3)采用反应离子刻蚀机RIE工艺对制作的纳米球自组装...
高平杨欢李飞罗先刚
文献传递
一种基于SOI和电铸技术的金属纳米线阵及其制备方法
本发明提供一种基于绝缘硅(SOI)和电铸技术的金属纳米线阵及其制备方法，该金属纳米线阵的各金属线之间由掺杂硅介质材料填充，其制备流程包括：选取SOI，并在其上下表面各沉积一层氮化硅薄膜；采用光刻及干法刻蚀，在SOI下底面...
潘丽岳衢胡承刚张铁军李飞罗先刚邱传凯周崇喜
文献传递
一种用于LSPR传感的纳米金属列阵制作方法被引量：5
2007年
提出利用光刻定位自组装填充的方法制作纳米金属列阵.在平面基板上通过光刻手段制作具有列阵微区的定位模板,再利用单分散聚苯乙烯纳米球在微区里进行自组装,得到单层规则排布的纳米球结构;进一步沉积金属后,通过去牺牲层工艺去除球体,可得到呈六角形分布的纳米金属列阵结构;最后对获得的纳米金属列阵结构的形貌和光学性能进行分析,给出金属纳米列阵结构的电子显微镜照片和消光谱.
李飞罗先刚朱少丽杜春雷邓启凌
光刻定位自组装填充方法
光刻定位自组装填充方法，其特征在于包括下列步骤：(1)设计列阵型微区掩模，根据设计结果采用激光直写机制作出列阵型微区掩模板，每个微区均用坐标值定位；(2)选取镀铬玻璃板作为基底材料，应用曝光、显影、溶液腐蚀等微细加工的方...
李飞朱少丽杜春雷罗先刚
文献传递
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