杨雪娜
- 作品数：8 被引量：54H指数：4
- 供职机构：山东大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家重点实验室开放基金更多>>
- 相关领域：理学电子电信环境科学与工程更多>>
- 光催化材料的最新研究进展被引量：7
- 2004年
- 综述了最近几年TiO2改性的研究,简要介绍了其他光催化材料的研究进展,并结合本课题组的工作,介绍了对一种新型光催化材料Bi-Ti-O系列材料研究的最新进展.指出:今后光催化材料的发展方向仍以TiO2改性的研究为主导;以钛酸铋(Bi4Ti3O12、Bi12TiO20)为代表的新型光催化材料,有着催化效率高,低能隙等突出的优点,有着广阔的应用前景.
- 周静涛王弘黄柏标许效红姚伟峰张寅杨雪娜
- 关键词：光催化材料TIO2钛酸铋
- High-k材料研究进展与存在的问题被引量：4
- 2004年
- 随着集成电路的飞速发展,SiO2作为传统的栅介质将不能满足MOSFET器件高集成度的要求,需要一种新型High-k材料来代替传统的SiO2,这就要综合考虑以下几个方面问题:(1)介电常数和势垒高度;(2)热稳定性;(3)薄膜形态;(4)界面质量;(5)与Si基栅兼容;(6)工艺兼容性;(7)可靠性。本文综述了几类High-k栅介质材料的研究现状及存在的问题。目前任何一种有望替代SiO2的栅介质材料都不能完全满足上述几点要求。但是,科学工作者们已经发现了几种有希望的High-k候选材料。
- 杨雪娜王弘张寅姚伟峰尚淑霞周静涛刘延辉
- 关键词：介电常数势垒高度热稳定性栅介质材料半导体材料
- 纳米晶体光催化剂降解染料废水的最新研究进展被引量：22
- 2004年
- 本文综述了近期光催化降解染料废水的研究进展,从光催化剂、反应条件、光降解反应产物及光催化降解染料废水的应用性四个方面介绍了其研究现状,指出今后的研究方向将集中在新型光催化剂的开发及光催化剂表面改性、光催化体系、光催化降解染料的反应机理及光催化剂与其它水处理技术的结合。
- 周静涛王弘黄伯标许效红姚伟峰张寅杨雪娜
- 关键词：废水降解染料废水表面改性
- 掺镧（钐）Bi_2Ti_2O_7薄膜的制备及其性能研究
- 随着微电子技术的飞速发展,半导体器件的特征尺寸按摩尔定律不断缩小,SiO_2作为MOSFET(metal-oxide-semiconductorfieldeffecttransistor)的栅介质材料在几年之内将不能满足...
- 杨雪娜
- 关键词：镧
- (La_xBi_(1-x))_2Ti_2O_7薄膜X射线光电子能谱研究
- 2005年
- 采用化学溶液沉积(CSD)工艺在Si(100)衬底上制备了Bi2Ti2O7(BTO(和(LaxBi1-x)2Ti2O7(BLT(铁电薄膜,薄膜的X射线衍射(XRD)结果显示其具有较好的结晶性,运用X射线光电能谱仪(XPS)对薄膜的结构进行了研究,分析结果表明,薄膜中氧空位的出现影响了其相的稳定性,通过掺La可以改善其性能。
- 张寅王弘杨雪娜姚伟峰尚淑霞刘维民
- 退火温度对(Bi0.8La0.2)2Ti2O7薄膜物理和电学性质的影响
- 2004年
- 采用化学溶液沉积法,在Si[100]衬底上制备了掺La的(Bi0.8La0.2)2Ti2O7薄膜,研究了退火温度对薄膜结晶性及电学性能的影响.研究发现,随着退火温度的升高,样品的结晶性越来越好;漏电流密度随之降低,表明绝缘性逐渐增强.实验证明该薄膜具有良好的绝缘性和较高的介电常数.
- 杨雪娜黄柏标尚淑霞
- 关键词：退火温度X射线衍射电学性质
- 化学溶液沉积法制备掺镧Bi_2Ti_2O_7薄膜及其特性的研究被引量：3
- 2004年
- 采用化学溶液沉积法 ,在Si(10 0 )衬底上制备了 (Bi0 .92 5La0 .0 75) 2 Ti2 O7薄膜。通过对其X射线衍射图谱分析表明 :用一定量的La3+ 来代替部分Bi3+ ,提高了Bi2 Ti2 O7相薄膜的稳定性。研究发现 :经过高温 (85 0℃ )退火处理后 ,该薄膜的结晶性和取向性都很好 ,[111]方向取向率为 90 %。根据XRD谱图中的 (4 4 4)衍射峰 ,计算出晶格常数a≈ 2 0 .66 。薄膜的电流电压和电容电压特性的测量结果表明 ,该薄膜具有良好的绝缘性和较高的介电常数。
- 杨雪娜王弘尚淑霞姚伟峰张寅刘延辉周静涛
- 关键词：化学溶液沉积法X射线衍射
- 原子力显微镜及其在各个研究领域的应用被引量：16
- 2003年
- 刘延辉王弘孙大亮王民姚伟峰杨雪娜
- 关键词：原子力显微镜生物大分子晶体生长
