齐向东
- 作品数：268 被引量：393H指数：12
- 供职机构：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家重大技术装备创新研制项目国家重大科学仪器设备开发专项更多>>
- 相关领域：机械工程理学电子电信自动化与计算机技术更多>>
- 一种平面双闪耀光栅的制备方法
- 本发明实施例提供了一种制作平面双闪耀光栅的方法，制作具有第一闪耀角的第一平面闪耀光栅以及具有第二闪耀角的第二平面闪耀光栅，其中第一闪耀角和第二闪耀角不同，将所述第一平面闪耀光栅和所述第二平面闪耀光栅放置于拼接机构，调整所...
- 糜小涛丛敏于海利吉日嘎兰图杨国军李晓天齐向东巴音贺希格唐玉国
- 文献传递
- 多个光栅刻刀并行干涉控制式光栅刻划方法
- 多个光栅刻刀并行干涉控制式光栅刻划方法属于平面衍射光栅制作领域，目的在于解决现有技术存在的难以实现米级以上大尺寸光栅的精密刻划和光栅刻划效率低的问题。本发明以下步骤：步骤一：将n套刻划系统以相等的间距D并行安装于主机座上...
- 李晓天卢禹先于海利唐玉国马振予齐向东糜小涛于宏柱张善文巴音贺希格
- 文献传递
- 一种具有简化小结构的凹面光栅单色仪
- 本实用新型属于光谱仪器中的光栅单色仪领域。这种单色仪由于其入射光和出射光线间夹角很大,通常都有结构复杂、体积大的缺点。本实用新型设计出双筒式入、出缝结构;电机经弹性联轴节与丝杠相连,正弦杆在O波长时与丝杠不垂直,简化紧凑...
- 郝德阜齐向东
- 文献传递
- 光栅刻划机300mm行程工作台研制及其自适应控制方法被引量：9
- 2014年
- 光栅刻划机工作台性能及其控制算法是直接影响大面积光栅刻划精度的重要原因。为了提高光栅刻划机运行精度,研制了采用压电陶瓷进行微定位控制的300mm行程宏微两级工作台,建立了微定位工作台数学模型,仿真分析了工作台参数对系统动态性能的影响。采用反向传播(BP)神经网络比例-积分-微分(PID)算法对微定位工作台进行闭环控制。仿真分析表明通过增大内外台连接刚度或内外台之间阻尼在总体趋势上均可改善与光栅质量密切相关的微定位工作台动态性能。工作台定位实验表明,在以双频激光干涉仪为纳米位移测量基准的情况下,进行刻线密度为35line/mm以上常用光栅空运刻划时,BP神经网络PID算法可实现宏微两级工作台定位误差3σ值不大于5.0nm。以上研究为大尺寸光栅刻划机宏微两级工作台结构设计及控制算法的选择提供了理论及技术指导。
- 李晓天于海利齐向东朱继伟于宏柱巴音贺希格
- 关键词：光栅光栅刻划机PID控制自适应控制
- 一种光栅拼接装置
- 本发明公开了一种光栅拼接装置，包括基体和待拼接的至少两个光栅，所述基体和所述光栅之间设有用以将所述光栅固定于所述基体的若干第一固紧机构，所述基体和所述光栅之间还设有可研磨的调整机构。上述光栅拼接装置通过研磨来减小拼接误差...
- 糜小涛张善文齐向东林雨江思博周敬萱杨国军
- 基于精密刻划及薄膜沉积技术的光盘分束光栅研制
- 2009年
- 给出了采用光栅刻划和镀膜技术相结合研制光盘分束光栅的方法。采用光栅刻划机在金属膜上刻制占宽比为0.5的黑白光栅,并由黑白光栅翻制出制作光盘分束光栅的掩模版。通过掩模版对涂覆在K9玻璃基底上的光刻胶实施曝光和显影形成光刻胶矩形浮雕光栅,在理论设计的误差允许范围内,对此浮雕光栅沉积SiO2薄膜,去除残余光刻胶后得到SiO2矩形光栅母版,再经复制工艺制作了环氧树脂光盘分束光栅。测试结果表明,利用光盘分束光栅的纵向和横向加工误差的互补性,可以将光栅辅助光束与读写主光束强度之比的误差控制在±0.03之内。
- 吴娜张善文宋可平巴音贺希格齐向东高键翔
- 关键词：光学头精密刻划镀膜技术
- 平面全息光栅制作中光栅基底的零级光定位方法
- 平面全息光栅制作中光栅基底的零级光定位方法，属于光谱技术领域中涉及的一种光栅基底的定位方法。要解决的技术问题是提供一种平面全息光栅制作中光栅基底的零级光定位方法。技术方案为：步骤一，配备一套平面全息光栅曝光装置，该装置与...
- 孔鹏李文昊巴音贺希格齐向东唐玉国
- 一种移动光楔型傅里叶光谱仪
- 一种移动光楔型傅里叶光谱仪属于光谱技术领域，目的在于解决现有移动光楔型傅里叶光谱技术存在的光谱分辨率低的问题。本发明的光源系统出射的光线穿过小孔至准直镜，经准直镜反射的光线再经光阑分为三束相同孔径的平行光；平行光经移动光...
- 齐向东马振予唐玉国李晓天于海利崔继承
- 文献传递
- 凹面全息光栅制作中光栅基底的双光束定位方法
- 凹面全息光栅制作中光栅基底的双光束定位方法，属于光谱技术领域中涉及的一种光栅基底的定位方法。要解决的技术问题是提供一种凹面全息光栅制作中光栅基底的双光束定位方法。技术方案为：步骤一，配备一套凹面全息光栅曝光装置；步骤二，...
- 孔鹏李文昊巴音贺希格齐向东唐玉国
- 一种大面积光栅刻划刀架系统
- 一种大面积光栅刻划刀架系统，涉及光栅刻划技术领域，解决现有的滑块与刀架安装板之间的连接方式为合页结构，由于合页结构转动轴与轴套之间存在轴隙误差，难以保证刻刀运行的长期稳定性的问题，包括玻璃导轨；沿玻璃导轨滑动的滑块，滑块...
- 李晓天于海利唐玉国杨超齐向东
- 文献传递
