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苗怀坤

作品数：6 被引量：4H指数：1
供职机构：华中科技大学更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：理学机械工程自动化与计算机技术电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 4篇专利
  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 1篇机械工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇理学

主题

  • 4篇极紫外
  • 4篇光学
  • 3篇表面污染
  • 2篇电磁
  • 2篇电磁力
  • 2篇液态
  • 2篇液态金属
  • 2篇液体金属
  • 2篇振动棒
  • 2篇涡轮分子泵
  • 2篇污染
  • 2篇污染控制
  • 2篇模拟装置
  • 2篇金属
  • 2篇金属靶
  • 2篇光学表面
  • 2篇发生器
  • 2篇分子泵
  • 2篇插板阀
  • 1篇真空系统

机构

  • 6篇华中科技大学

作者

  • 6篇苗怀坤
  • 5篇李小平
  • 2篇雷敏
  • 2篇陈学东
  • 2篇方宇翔
  • 1篇雷敏

传媒

  • 1篇激光与光电子...

年份

  • 2篇2014
  • 3篇2013
  • 1篇2012
共 6 条 记 录，以下是 1-6
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排序方式：
极紫外光学表面污染控制技术的研究进展被引量：4
2013年
极紫外(EUV)光刻机中光学元件的污染和采用的污染控制策略是影响光刻机性能的重要因素,其中污染主要包括光学表面碳沉积和光学表面氧化,污染控制技术包括智能气体混合技术、保护层技术和污染物清洁技术。着重论述了上述两种主要污染形式和三种污染控制技术的研究进展,对EUV光刻机中污染研究的前景进行了展望,并指出其发展面临的挑战及有待解决的关键技术。
雷敏李小平苗怀坤
关键词：光学制造极紫外光刻污染控制
无振动棒的金属靶发生器
本发明公开了一种无振动棒的金属靶发生器，其包括：筒体，该筒体内容置有液态金属（6），用于产生金属靶靶；微孔（10），开设在筒体底部，金属液体可通过该微孔（10）流出；其特征在于，该金属靶发生器还包括电磁线圈（9，15，3...
李小平苗怀坤陈学东
文献传递
一种极紫外光照射下的光学表面污染与清洁模拟装置
本发明公开了一种极紫外光照射下的光学表面污染与清洁模拟装置，包括：氢原子发生器接口、电子枪、电子枪室、电子枪接口、曝光腔、冷却毛细管、试样台、试样台接口、气体引入设备、涡轮分子泵、前级泵、RGA、RGA接口、插板阀、放气...
李小平方宇翔苗怀坤雷敏
文献传递
Design and Simulation of EUVL Contamination Control Equipment
极紫外光刻技术采用波长为13.5nm的极紫外光作为曝光光源,具有更高的分辨率,但极紫外光学表面极易被污染,其污染及控制技术是制约极紫外光刻技术大规模生产应用的关键因素之一。极紫外光学元件表面污染控制技术的研究主要包括理论...
苗怀坤
关键词：污染控制真空系统
文献传递
一种极紫外光照射下的光学表面污染与清洁模拟装置
本发明公开了一种极紫外光照射下的光学表面污染与清洁模拟装置，包括：氢原子发生器接口、电子枪、电子枪室、电子枪接口、曝光腔、冷却毛细管、试样台、试样台接口、气体引入设备、涡轮分子泵、前级泵、RGA、RGA接口、插板阀、放气...
李小平方宇翔苗怀坤雷敏
无振动棒的金属靶发生器
本发明公开了一种无振动棒的金属靶发生器，其包括：筒体，该筒体内容置有液态金属（6），用于产生金属靶靶；微孔（10），开设在筒体底部，金属液体可通过该微孔（10）流出；其特征在于，该金属靶发生器还包括电磁线圈（9，15，3...
李小平苗怀坤陈学东
文献传递
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