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雷敏

作品数：1 被引量：4H指数：1
供职机构：华中科技大学机械科学与工程学院数字制造与装备技术国家重点实验室更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：理学机械工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇机械工程
  • 1篇理学

主题

  • 1篇紫外光刻
  • 1篇污染
  • 1篇污染控制
  • 1篇控制技术
  • 1篇极紫外
  • 1篇极紫外光刻
  • 1篇光刻
  • 1篇光学
  • 1篇光学制造
  • 1篇表面污染

机构

  • 1篇华中科技大学

作者

  • 1篇李小平
  • 1篇苗怀坤
  • 1篇雷敏

传媒

  • 1篇激光与光电子...

年份

  • 1篇2013
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
极紫外光学表面污染控制技术的研究进展被引量：4
2013年
极紫外(EUV)光刻机中光学元件的污染和采用的污染控制策略是影响光刻机性能的重要因素,其中污染主要包括光学表面碳沉积和光学表面氧化,污染控制技术包括智能气体混合技术、保护层技术和污染物清洁技术。着重论述了上述两种主要污染形式和三种污染控制技术的研究进展,对EUV光刻机中污染研究的前景进行了展望,并指出其发展面临的挑战及有待解决的关键技术。
雷敏李小平苗怀坤
关键词：光学制造极紫外光刻污染控制
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共1页<1>
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