吕波
- 作品数：8 被引量：41H指数：3
- 供职机构：东华理工大学更多>>
- 发文基金：江西省高等学校教学改革研究课题江西省自然科学基金江西省教育厅科学技术研究项目更多>>
- 相关领域：文化科学理学机械工程电子电信更多>>
- Matlab与大学物理波动光学教学整合的研究被引量：8
- 2010年
- 文章分析了Matlab的特点,阐述了在大学物理波动光学教学中引入Matlab的必要性和可行性,就四个典型的光学实验编制了Matlab程序,给出了仿真的结果。
- 吕波黄靖钧
- 关键词：MATLAB大学物理波动光学仿真
- 牛顿环多光束干涉仿真被引量：2
- 2017年
- 用多光束法对牛顿环干涉问题进行了研究,建立了牛顿环多光束干涉的理论模型.通过对多光束相干光波的复振幅相加,得出了牛顿环多光束干涉反射光和透射光的强度公式.通过数值计算,描绘了不同反射率下的反射光和透射光的相对强度分布曲线,仿真了不同反射率下的反射光和透射光的干涉条纶分布图样.结果表明,采用多光束法研究适用于不同反射率下的牛顿环干涉,在实际应用中多采用透射光干涉,同时要求反射率适中.
- 吕波
- 关键词：多光束干涉牛顿环反射率仿真
- 基于任意形状衍射屏的光学夫琅禾费衍射仿真被引量：3
- 2018年
- 通过Matlab编程或作图软件,生成任意形状的衍射屏.将菲涅耳衍射积分化为含快速傅里叶变换的积分,求解出其在观察屏上的光场分布,输出任意形状衍射屏的夫琅禾费衍射的衍射花样.结果表明,通过计算机对任意形状衍射屏夫琅禾费衍射的仿真,有助于理解不同结构衍射屏下的夫琅禾费衍射花样的分布特征,是对光学衍射的理论分析和实验研究的有益补充.
- 吕波许志军
- 关键词：MATLAB夫琅禾费衍射仿真傅里叶变换
- 退火对两种硅基薄膜的结构及发光影响被引量：1
- 2013年
- 采用双离子束共溅射沉积方法制备了两种复合硅基薄膜SiOxCy和SiOxNy薄膜,对两种薄膜进行后退火处理,并分别对样品进行PL、FTIR、XPS谱测试分析,比较退火前后的发光及结构的变化。两种样品的光致发光测试谱(PL)表明:退火前后都有两个发光峰位-都存在470nm的发光峰位,它来自于硅基薄膜中中性氧空位缺陷(O3≡Si-Si≡O3),是由于氧原子配位的二价硅的单态-单态之间的跃迁所致,其发光强度随退火温度的升高而变化。进一步的FTIR和XPS的测试谱表明另外一个发光峰位420nm(SiOxCy薄膜)和400nm(SiOxNy薄膜)分别来自于掺杂杂质(C和N)与硅基薄膜中的Si、O组成的复合结构。而两种样品经过退火处理后掺杂所引起的发光峰位强度随退火温度的升高而增强,说明退火温度的升高有利于发光机制的形成。
- 李群徐小华吕波方诚
- 关键词：掺杂硅基退火光致发光
- 基于Matlab的光学衍射仿真被引量：21
- 2010年
- 光学衍射是光学的重要内容,对光学衍射的研究,做传统的光学衍射实验,对实验仪器和实验场所要求苛刻,但是实验效果却并不一定理想。计算机技术的引入为光学衍射研究提供了崭新的思路。就光学中的单缝衍射和光栅衍射建立了数学模型,利用强大的数值计算和图像处理功能软件Matlab,编制了Matlab仿真程序,输出了仿真图样。仿真结果表明,仿真图样清晰逼真,仿真结论和理论是吻合的。研究表明,借助计算机进行光学实验仿真,可以不受实验仪器和实验场所的限制,可以极大地促进光学的研究。
- 吕波
- 关键词：MATLAB光学衍射仿真
- 大学物理实验规范教学被引量：1
- 2020年
- 物理实验教学的规范对人才培养有重要的影响.阐述了从实验教案的编写、实验板书的设计、实验操作的规范以及实验评分标准等方面进行规范教学的意义,并以迈克尔逊干涉仪实验为例讲述了规范实验教学的具体实施方法.研究表明,规范物理实验教学,能有效提高教学质量,促进人才培养.
- 吕波彭凤梅邱庆顺饶黄云徐小华
- 关键词：物理实验迈克尔逊干涉仪规范教学
- 大学物理教学中融入数值计算与模拟技术的研究被引量：6
- 2013年
- 数值计算与模拟技术应用在大学物理教学中是计算机辅助大学物理教学的一种新形式。文章讨论了大学物理教学中融入数值计算与模拟技术的必要性与可行性,分析了大学物理教学中存在的问题,探索了在大学物理教学中融入数值计算与模拟技术的实施途径。
- 吕波饶黄云
- 关键词：大学物理教学创新能力培养
- 衬底温度对掺杂硅基薄膜结构的影响
- 2014年
- 采用双离子束溅射沉积法制备的掺杂硅基Si-Si O2和Al-Si-Si O2薄膜,实验中通过改变基片温度获得不同条件下的样品。测试发现,当基片温度低于450℃时,两种薄膜的XRD谱图中并未有明显的晶态峰存在,说明薄膜中并未形成晶态结构,样品的选区电子衍射花样的TEM测试结果也证明如此;当基片温度高于450℃时,XRD谱图中才呈现出几个微弱的晶态峰,说明薄膜中可能有Si或Al的晶粒出现。样品的XPS测试结果表明,Si-Si O2薄膜在温度较低时表现为欠氧富硅的结构Si Ox(x<2),薄膜中的Si主要是以氧化物的形式存在,当基片温度高于450℃时,根据Si的XPS特征峰的硅双峰结构能够确定薄膜中的硅形成了较显著的硅的原子团簇。而对于Al-Si-Si O2薄膜,Al主要是以单质铝的形式存在,Si是以氧化物的形式存在,实验中可以通过改变靶材中铝片的面积大小,改变薄膜中的铝和硅的含量。
- 徐小华何娟美尧莉吕波李群
- 关键词：基片硅基
