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张俊平

作品数：3 被引量：12H指数：3
供职机构：中国科学院长春光学精密机械研究所更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：理学机械工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 3篇理学
  • 2篇机械工程

主题

  • 3篇多层膜
  • 3篇软X射线多层...
  • 2篇软X射线
  • 1篇正入射
  • 1篇入射
  • 1篇碳化硼
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射法
  • 1篇溅射法制备
  • 1篇光学
  • 1篇薄膜光学
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 3篇中国科学院长...

作者

  • 3篇马月英
  • 3篇张俊平
  • 2篇高宏刚
  • 2篇曹健林
  • 2篇吕俊霞
  • 1篇王占山
  • 1篇裴舒
  • 1篇曹健林
  • 1篇陈星旦

传媒

  • 2篇光学学报
  • 1篇光学精密工程

年份

  • 1篇1998
  • 1篇1995
  • 1篇1994
共 3 条 记 录，以下是 1-3
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排序方式：
软X射线多层膜色散元件被引量：4
1994年
介绍研制软Ｘ射线多层膜色散元件的初步结果．结合Ｍ_０／Ｓ_１、Ｗ／Ｓｉ色散元件的研制实例，讨论了包括设计、性能模拟计算、镀膜工艺、检测等在内的制备过程．这些元件将在Ｘ射线光学和Ｘ射线光谱学的有关研究工作中得到应用．
曹健林马月英张俊平高宏刚王占山裴舒陈星旦
关键词：软X射线
用磁控溅射法制备软X射线多层膜被引量：4
1995年
本文介绍用直流－射频平面磁控溅射法制备软ｘ射线多层膜的初步实验结果。在一定工艺条件下，采用计算机定时控制膜厚的方法，严格按照设计周期制备了多层膜样品，并给出了Ｘ射线衍射仪小角衍射的检测结果。
张俊平马月英高宏刚陈斌裴舒吕俊霞曹健林
关键词：磁控溅射软X射线多层膜
正入射Mo/B_4C软X射线多层膜被引量：4
1998年
采用Ｍｏ／Ｂ４Ｃ材料在短波长波段（λ＜１０．０ｎｍ）进行软Ｘ射线多层膜实验研究。在指定波长（８．０ｎｍ附近）处对多层膜进行结构设计，并制备出了周期结构准确的Ｍｏ／Ｂ４Ｃ多层膜样品。
吕俊霞马月英张俊平曹健林
关键词：软X射线多层膜正入射薄膜光学
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