杨健
- 作品数：2 被引量：25H指数：2
- 供职机构：中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
- 相关领域：电子电信理学更多>>
- 应用于投影显示系统的偏振分光镜的设计和制备被引量：21
- 2002年
- 讨论了应用于投影显示系统的满足宽光谱范围、大的入射角、高的消光比的偏振分光镜的设计和制备。提出了一种偏振分光镜的新的设计方法 :采用多对迈克尼尔对组合来满足宽入射角范围的要求 ,采用多个中心波长不同的λ 4膜堆来满足宽光谱范围。设计的偏振分光镜在 42 0nm～ 6 70nm的波段范围内 ,在 41.34°～ 48.6 6°的入射角范围内 ,达到p偏振光的平均透过率大于 85 % ,p偏振光的平均透过率与s光的平均透过率之比大于 10 0 0。
- 姚李英易葵杨健汤兆胜邵建达范正修
- 关键词：大屏幕显示
- HfO_2中ZrO_2含量对266nmHfO_2/SiO_2多层膜反射率的影响被引量：4
- 2004年
- 用两种不同纯度的HfO2 材料与同一纯度的SiO2 材料组合 ,沉积λ/ 4规整膜系 (HL) 11H形成 2 6 6nm的紫外反射镜 ,发现反射率相差 0 .7%左右。用X光电子能谱法分析了高反膜中表层HfO2 中的成分 ,发现ZrO2 的含量相差一个数量级左右。为确定形成这种差别的原因 ,用辉光放电质谱法测定了这两种HfO2 材料中锆 (Zr)及其钛(Ti)、铁 (Fe)的含量 ,发现Zr是其中的最主要的杂质 ,两种HfO2 材料中Zr含量有一个数量级的差别。说明在 2 6 6nm波段 ,HfO2 中ZrO2 的含量会对HfO2 /SiO2 高反膜的反射率造成影响。根据HfO2 单层膜的光谱曲线 ,推算出了这两种材料的消光系数的差别 ,并用Tfcalc膜系设计软件进行理论和镀制结果的模拟 ,得到与实验测试一致的结果。
- 袁景梅范瑞瑛杨健邵建达范正修
- 关键词：光学性质辉光放电质谱法激光薄膜
