耿永友
- 作品数：47 被引量：48H指数：4
- 供职机构：中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划中国科学院院地合作项目更多>>
- 相关领域：电子电信化学工程一般工业技术理学更多>>
- 光聚合在光盘存储技术中的应用
- 该文选择丙烯酸脂类光交联固化胶(简称2P胶)在特别设计的高压汞灯下进行固化,建立光固化胶膜层吸收光能模型.将光聚合用于光盘复制过程.用粘附理论对脱模过程界面力进行分析.实验测定2P胶对基片、镍印模的拉伸剪切强度.测定了P...
- 耿永友
- 关键词：光聚合光盘存储技术设计方法
- 有机无机复合激光热刻蚀薄膜和微纳图形制备的方法
- 一种有机无机复合激光热刻蚀薄膜和微纳图形制备的方法，该有机无机复合激光热刻蚀薄膜包括沉积在基片上的ZnS-SiO<Sub>2</Sub>薄膜和旋涂在ZnS-SiO<Sub>2</Sub>薄膜上的腙类金属螯合物有机薄膜。所...
- 李豪耿永友吴谊群
- 文献传递
- 激光直写有机热刻蚀材料及其制备方法
- 一种激光直写有机热刻蚀材料及其制备方法，该材料是利用2-甲基间苯二酚或1，2，3-三苯酚与醛类在酸的催化下发生缩合反应生成的。该材料用于激光直写制备凸起型微米及纳米级图形结构，不需要用飞秒激光脉冲、不需要多层膜结构，而只...
- 邓常猛耿永友吴谊群
- 一次写入型蓝光存储无机介质及其制备方法
- 一次写入型蓝光存储无机介质及其制备方法，该一次写入型蓝光存储无机介质是由锑Sb和硅Si通过反应磁控溅射法在衬底上制备的Sb-Sb<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>-SiO<Sub>2</Sub>复合薄膜，...
- 周莹耿永友顾冬红朱青蒋志
- 文献传递
- 蓝光可录存储的无机记录材料及其制备方法
- 一种蓝光可录存储的无机记录材料及其制备方法，它是一种由NiFe合金用反应磁控溅射法制备的NiFeO薄膜，其成分为NiO，Ni<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>，Fe<Sub>2</Sub>O<Sub>3<...
- 周莹耿永友顾冬红
- 文献传递
- 偶氮金属镍薄膜的折射率和吸收特性研究被引量：6
- 2004年
- 偶氮金属镍 (Ni(azo) 2 )是一类具有很大潜力的可录光盘存储介质。为了准确地获取一种偶氮金属镍薄膜的光学常数 ,用旋涂法 (Spin- coating)在单晶硅片上制备了 Ni(azo) 2 薄膜。在波长扫描和入射角可变全自动椭圆偏振光谱仪上研究了 Ni(azo) 2 薄膜的椭偏光谱。采用逼近算法获得了 Ni(azo) 2 薄膜在可见光范围内的复折射率、复介电函数、吸收系数和薄膜厚度。分析了 Ni(azo) 2 薄膜可见吸收光谱的形成机理。结果表明在波长 6 5 0 nm处薄膜的折射率为 2 .19,吸收常数为 0 .0 2 3,具有良好的吸收和反射特性 ,显示出作为高密度数字多用光盘 (DVD- R)记录介质的良好应用前景。
- 耿永友顾冬红干福熹
- 关键词：薄膜物理学薄膜光学常数椭偏光谱
- 激光光刻技术的研究与发展被引量：13
- 2012年
- 光刻技术作为制备半导体器件的关键技术之一将制约着半导体行业的发展和半导体器件的性能。随着半导体工业的发展,集成电路的特征尺寸越来越小,光刻技术将面临新的挑战。分析了激光光刻技术,包括投影式光刻和激光无掩膜光刻技术的研究现状,着重介绍了极紫外光刻(EUVL)作为下一代光刻技术的发展前景和技术难点、激光无掩膜光刻技术的发展,特别是激光近场扫描光刻、激光干涉光刻、激光非线性光刻等新技术的最新进展及其在高分辨率纳米加工领域的应用前景。
- 邓常猛耿永友吴谊群
- 2,6-二(芳香基)-蒽醌及其制备方法
- 一种2，6-二(芳香基)-蒽醌及其制备方法，是将电子给体或电子受体基团在2，6位连接在蒽醌环两侧，将2，6-二溴蒽醌类衍生物和含有乙烯基的取代基团在醋酸钯和三-O-甲氧基磷的催化作用下，在碱性条件下发生赫克(Heck R...
- 李亮吴谊群耿永友
- 文献传递
- Si掺杂Ag基超分辨薄膜读出性能研究被引量：4
- 2012年
- 超分辨薄膜是一种能够实现突破光学衍射极限的功能薄膜,它在超分辨近场光存储技术中起到至关重要的作用。采用磁控溅射共溅的方式制备了Ag掺杂一定量Si的超分辨复合薄膜,测试了其作为掩膜层的超分辨光盘读出性能,并获得了最佳的薄膜制备条件,即当Ag溅射功率为55 W,Si为95 W,溅射时间为80s,薄膜厚度为39nm时,超分辨光盘的读出信号载噪比(CNR)最高为28dB。用X射线光电子能谱测量了上述薄膜的组成,用扫描电子显微镜观察了薄膜微区形貌,并用椭圆偏振光谱仪测量了薄膜的光学常数和厚度。超分辨复合薄膜的读出机理可以用Ag的散射型机理解释。光盘在持续读出10万次以后读出信号基本没有下降。
- 赵石磊耿永友施宏仁
- 关键词：光存储载噪比稳定性
- 多层透明导电薄膜的制备方法
- 一种多层透明导电薄膜的制备方法，所述的多层透明导电薄膜的结构包括衬底，在该衬底上依次是ZnS-SiO<Sub>2</Sub>层、Ag层和ZnS-SiO<Sub>2</Sub>层，制备方法包括如下：磁控溅射方法在玻璃衬底或...
- 龙国云耿永友
- 文献传递
