邓常猛
- 作品数：7 被引量：18H指数：2
- 供职机构：中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：电子电信理学更多>>
- 激光热刻蚀有机光刻胶及其制备方法
- 一种激光热刻蚀有机光刻胶及其制备方法，该光刻胶是由4、6、10、12、16、18、22、24、25、26、27、28-十二羟基杯[4]芳烃类衍生物构成的，其制备方法是利用间苯三酚与醛类在酸的催化下发生缩合反应生成的。本发...
- 邓常猛耿永友吴谊群
- 文献传递
- 激光光刻技术的研究与发展被引量：13
- 2012年
- 光刻技术作为制备半导体器件的关键技术之一将制约着半导体行业的发展和半导体器件的性能。随着半导体工业的发展,集成电路的特征尺寸越来越小,光刻技术将面临新的挑战。分析了激光光刻技术,包括投影式光刻和激光无掩膜光刻技术的研究现状,着重介绍了极紫外光刻(EUVL)作为下一代光刻技术的发展前景和技术难点、激光无掩膜光刻技术的发展,特别是激光近场扫描光刻、激光干涉光刻、激光非线性光刻等新技术的最新进展及其在高分辨率纳米加工领域的应用前景。
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- 激光直写有机热刻蚀材料及其制备方法
- 一种激光直写有机热刻蚀材料及其制备方法，该材料是利用2-甲基间苯二酚或1，2，3-三苯酚与醛类在酸的催化下发生缩合反应生成的。该材料用于激光直写制备凸起型微米及纳米级图形结构，不需要用飞秒激光脉冲、不需要多层膜结构，而只...
- 邓常猛耿永友吴谊群
- 激光热刻蚀有机光刻胶及其制备方法
- 一种激光热刻蚀有机光刻胶及其制备方法，该光刻胶是由4、6、10、12、16、18、22、24、25、26、27、28-十二羟基杯[4]芳烃类衍生物构成的，其制备方法是利用间苯三酚与醛类在酸的催化下发生缩合反应生成的。本发...
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- GeSbTe相变薄膜的激光热刻蚀性质研究
- GeSbTe是一种广泛研究用于光存储和电存储的相变材料,其在激光辐照产生的热效应的作用下可以发生晶态与非晶态之间的相互转化。这种相态之间的变化会引起物理化学性质的变化。在合适的刻蚀液中,两相的刻蚀速率会表现出差别,基于这...
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- 关键词：相变材料湿法刻蚀
- 文献传递
- 激光直写有机热刻蚀材料及其制备方法
- 一种激光直写有机热刻蚀材料及其制备方法，该材料是利用2-甲基间苯二酚或1，2，3-三苯酚与醛类在酸的催化下发生缩合反应生成的。该材料用于激光直写制备凸起型微米及纳米级图形结构，不需要用飞秒激光脉冲、不需要多层膜结构，而只...
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- 文献传递
- 极紫外光刻材料研究进展被引量：5
- 2014年
- 极紫外光刻是微电子领域有望用于下一代线宽为22nm及以下节点的商用投影光刻技术,光刻材料的性能与工艺是其关键技术之一。为我国开展极紫外光刻材料研究提供参考,综述了最近几年来文献报道的研究成果,介绍了极紫外光刻技术发展历程、现状、光刻特点及对光刻材料的基本要求,总结了极紫外光刻材料的研究领域和具体分类,着重阐述了主要光刻材料的组成、光刻原理,光刻性能所达到的水平和存在的主要问题,最后探讨了极紫外光刻材料未来的主要研究方向。
- 耿永友邓常猛吴谊群
- 关键词：极紫外光刻
