您的位置: 专家智库 > >

贺仲卿

作品数:5 被引量:4H指数:1
供职机构:复旦大学物理学系应用表面物理国家重点实验室更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信理学更多>>

文献类型

  • 5篇中文期刊文章

领域

  • 4篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 2篇氮化镓
  • 1篇氮源
  • 1篇电子结构
  • 1篇电子能量损失...
  • 1篇多孔硅
  • 1篇砷化镓
  • 1篇子结构
  • 1篇温度相关
  • 1篇温度效应
  • 1篇相互作用
  • 1篇离子
  • 1篇离子化
  • 1篇离子束
  • 1篇离子源
  • 1篇分子束
  • 1篇分子束外延
  • 1篇分子束外延生...
  • 1篇XPS
  • 1篇
  • 1篇GAN薄膜

机构

  • 5篇复旦大学

作者

  • 5篇贺仲卿
  • 5篇丁训民
  • 4篇侯晓远
  • 3篇王迅
  • 2篇郝平海
  • 1篇卢学坤
  • 1篇沈孝良

传媒

  • 3篇物理学报
  • 1篇Journa...
  • 1篇物理

年份

  • 1篇1995
  • 1篇1994
  • 1篇1993
  • 2篇1992
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
P与GaAs(100)表面相互作用的温度效应
1992年
本文采用原位X射线光电子能谱、紫外光电子能谱、高分辨率电子能量损失谱和低能电子衍射技术,研究了温度对P与GaAs(100)表面相互作用的影响。结果表明,经退火后,室温下淀积于GaAs表面的非晶P大部分脱附,仅剩下少量无规分布于表面的P集团。集团中部分P与衬底Ga原子成键,另一部分P则以单质形式存在,继续提高温度退火,将使P集团中的P全部与衬底发生反应生成GaAsP薄层。在高温GaAs衬底上淀积P,将得到GaAsP固溶体薄层。这一薄层有望成为GaAs表面理想的钝化膜。
卢学坤郝平海贺仲卿侯晓远丁训民
关键词:砷化镓相互作用温度相关
GaN异质外延的离子化氮源方法被引量:2
1994年
用电离N_2产生的离子束作为外延生长氮化物的N源已获得成功,在GaAs(100)衬底上长出了具有立方结晶的GaN薄膜,其(200)x射线衍射峰宽仅23’。并用高分辨率电子能量损失谱测到立方GaN的表面光学声子出现在损失能量为82meV处.
贺仲卿丁训民侯晓远王迅沈孝良
关键词:氮化镓离子源离子束
分子束外延生长GaN薄膜的新方法
1993年
贺仲卿丁训民王迅
关键词:分子束外延氮化镓
GaSb(100)的表面再构被引量:1
1992年
用低能电子衍射(LEED),光电子能谱(XPS和UPS)研究GaSb(100)表面的各种再构:c(2×6),(1×3)和(2×3)。所有这三种再构表面都以有失列的Sb原子结尾。在Sb气氛中退火可使分子束外延(MBE)制备的、表面Sb原子形成二聚物的c(2×6)再构和离子轰击加退火(IBA)制备的、表面存在Ga岛的(2×3)再构均变为简单的(1×3)再构。
贺仲卿侯晓远丁训民
关键词:表面再构LEEDXPS
用高分辨电子能量损失谱和紫外光电子谱研究多孔硅的电子结构被引量:1
1995年
本文首次使用分辨电子能量损失谱(HREELS)和紫外光电子能谱(UPS)研究新腐蚀的多孔硅样品(PS)的电子结构.实验结果发现,从HREELS谱中能量损失阈值测得的多孔硅的能隙最可几值移到2.9eV左右,与文献报道的光激发谱(PLE)的结果相近.UPS结果发现多孔硅费米能级到价带顶的距离不同于单晶硅,结合HREELS和UPS结果可以初步得出多孔硅与硅界面的能带排列.
郝平海侯晓远丁训民贺仲卿蔡卫中王迅
关键词:多孔硅电子结构电子能量损失谱
共1页<1>
聚类工具0