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黄桥

作品数:6 被引量:132H指数:3
供职机构:西南科技大学环境与资源学院矿物材料及应用研究所更多>>
发文基金:博士科研启动基金国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学一般工业技术更多>>

文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 3篇一般工业技术
  • 3篇理学

主题

  • 6篇氧化石墨
  • 6篇石墨
  • 4篇石墨烯
  • 3篇性能研究
  • 3篇氧化还原法
  • 2篇氧化石墨烯
  • 2篇湿敏
  • 1篇导电
  • 1篇导电性能
  • 1篇电导
  • 1篇电导率
  • 1篇电学
  • 1篇电子能
  • 1篇电子能谱
  • 1篇电阻
  • 1篇谱学
  • 1篇谱学表征
  • 1篇晶体
  • 1篇晶体结构
  • 1篇拉曼

机构

  • 6篇西南科技大学

作者

  • 6篇黄桥
  • 5篇孙红娟
  • 4篇彭同江
  • 2篇杨勇辉
  • 2篇万臣
  • 1篇林舜嘉

传媒

  • 2篇无机化学学报
  • 1篇物理化学学报
  • 1篇纳米科技

年份

  • 1篇2014
  • 3篇2012
  • 2篇2011
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
不同氧化程度氧化石墨烯的制备及湿敏性能研究
基于氧化石墨烯具有多种含氧官能团和极大的比表面积,研究了不同氧化程度氧化石墨烯的湿敏性能。采用改进的Hummers法制备不同氧化程度的氧化石墨,经过超声分散制备氧化石墨烯水相分散液后,制成氧化石墨烯薄膜湿敏元件.采用X射...
万臣彭同江孙红娟黄桥
关键词:氧化石墨烯比表面积光电子能谱
氧化石墨的谱学表征及分析被引量:56
2011年
采用改进的Hummers法,通过改变氧化剂用量获得不同氧化程度的氧化石墨,用X射线衍射(XRD)、红外光谱(FTIR)和拉曼光谱(Raman)对产物进行结构和谱学特性的表征,并结合数学分析软件对部分红外和拉曼数据进行分峰拟合。结果表明,石墨经氧化后形成了含有C-OH、-COOH和C-O-C等官能团的石墨层间化合物;氧化剂用量较少时,石墨片层插层氧化不完全,产物的结构中仍存在未被氧化的原石墨周期性结构;随着氧化剂用量的增加,氧化石墨产物的XRD图中原石墨(002)衍射峰逐渐消失,结构中含氧官能团的量逐渐增加,产物的亲水性也逐渐增强;通过对红外光谱的拟合发现,氧化石墨样品在3198 cm-1附近有一个红外吸收峰,应归属于C-OH中OH的伸缩振动;随着氧化剂用量的增加,所得氧化石墨产物的拉曼光谱中D峰与G峰的强度积分比R(ID/IG)逐渐增大,产物结构中sp2平面域的平均尺寸逐渐减小。
黄桥孙红娟杨勇辉
关键词:氧化石墨XRD红外光谱拉曼光谱
石墨烯薄膜及中间产物的结构及导电性能研究
2014年
采用氧化还原法真空抽滤制备不同还原程度的石墨烯薄膜,用X射线衍射(XRD)、红外光谱(FTIR)、拉曼光谱(Raman)、四探针电阻率测试仪对石墨烯样品及中间产物表征。结果表明,石墨经氧化后结构层键合上多种含氧官能团,层间距增大,其拉曼光谱表现为D峰宽化且增强,C峰宽化并向高波数方向偏移,且导电性能急剧减弱。通过改变还原阶段的反应时间可对石墨烯的电学性能进行有效调控。
孙红娟林舜嘉彭同江黄桥
关键词:氧化石墨氧化还原法电导率
不同氧化程度氧化石墨烯的制备及湿敏性能研究被引量:34
2012年
基于氧化石墨烯具有多种含氧官能团和极大的比表面积,研究了不同氧化程度氧化石墨烯的湿敏性能。采用改进的Hummers法制备不同氧化程度的氧化石墨,经过超声分散制备氧化石墨烯水相分散液后,制成氧化石墨烯薄膜湿敏元件。采用X射线衍射、原子力显微镜、红外光谱、拉曼光谱和X射线光电子能谱对实验样品的结构和谱学特性进行表征。结果表明:石墨经氧化后,底面间距增大为0.9 nm左右;随氧化剂用量的增加,氧化石墨中石墨的衍射峰逐渐消失,石墨相微晶尺寸逐渐减小,O/C原子比逐渐增大,氧化程度逐渐升高;氧化石墨烯在水相分散液中可达单层分散,单层氧化石墨烯厚度约为1.3 nm;氧化石墨烯表面接有-OH、C-O-C、C=O和COOH官能团,且官能团含量随氧化程度的升高而增大;氧化石墨烯薄膜元件在室温下对湿度的响应时间约3 s,灵敏度达99%;在11.3%-93.6%相对湿度范围内,元件的电阻随湿度升高显著减小,较高氧化程度的氧化石墨烯薄膜的电阻对数与相对湿度呈线性变化;氧化程度越高,元件灵敏度越高,响应时间越短。
万臣彭同江孙红娟黄桥
关键词:氧化石墨烯
石墨烯薄膜的制备和结构表征被引量:51
2011年
采用氧化还原法制备了石墨烯胶状悬浮液,通过真空抽滤获得了石墨烯薄膜.利用X射线衍射(XRD)、傅里叶变换红外(FTIR)光谱、拉曼(Raman)光谱、粒度分析和扫描探针显微镜(SPM)等研究了石墨烯薄膜制备过程中各阶段产物的晶体结构、粒度及分子光谱特征变化.FTIR分析结果表明,石墨在氧化过程中结构层键合大量含氧官能团,还原后结构层表面仍残存有部分稳定的含氧官能团.XRD结果表明,石墨氧化后衍射峰向小角度偏移、宽化,原有石墨峰消失.在成膜过程中氧化石墨烯形成凝聚体,而石墨烯形成絮凝体.粒度分析和SPM测试分析结果表明,氧化石墨烯在水中粒径分布呈拖尾峰形,分布范围较宽.石墨烯在水中的粒径成单峰分布,分布范围较窄、对称性较好且平均粒径较小.Raman测试结果表明,石墨在氧化和还原过程中,D、G峰逐渐宽化,ID/IG逐渐增强,样品无序度增加.在以上分析的基础上对石墨烯制备过程的结构特征进行了归纳总结.
杨勇辉孙红娟彭同江黄桥
关键词:石墨氧化石墨石墨烯氧化还原法晶体结构
石墨在氧化还原过程中结构的演变及电学性能研究
采用氧化还原法制备了石墨烯,并对石墨烯制备过程中各阶段产物的结构变化以及导电性能进行研究。基于Hummers法,通过改变工艺因素参数制备不同氧化程度的氧化石墨;氧化石墨通过超声剥离和高速离心处理制备了水相条件下稳定分散的...
黄桥
关键词:石墨氧化石墨石墨烯氧化还原法导电性能
文献传递
共1页<1>
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