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吴文刚

作品数:111 被引量:53H指数:3
供职机构:北京大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划国家技术创新计划更多>>
相关领域:电子电信自动化与计算机技术机械工程一般工业技术更多>>

文献类型

  • 89篇专利
  • 16篇期刊文章
  • 5篇会议论文
  • 1篇科技成果

领域

  • 24篇电子电信
  • 8篇自动化与计算...
  • 6篇机械工程
  • 6篇一般工业技术
  • 3篇电气工程
  • 1篇建筑科学
  • 1篇环境科学与工...
  • 1篇文化科学

主题

  • 28篇刻蚀
  • 24篇纳米
  • 16篇衬底
  • 14篇光刻
  • 9篇氮化镓
  • 8篇悬臂
  • 8篇悬臂梁
  • 8篇各向异性刻蚀
  • 7篇淀积
  • 7篇英文
  • 7篇微光
  • 7篇离子刻蚀
  • 7篇离子束
  • 7篇聚焦离子束
  • 7篇超材料
  • 6篇阵列
  • 6篇MEMS
  • 5篇电极
  • 5篇微电子
  • 5篇芯片

机构

  • 111篇北京大学
  • 8篇天津大学
  • 4篇东南大学
  • 1篇华中科技大学
  • 1篇浙江大学
  • 1篇中国电子科技...
  • 1篇中国科学院电...
  • 1篇中国科学院力...

作者

  • 111篇吴文刚
  • 47篇郝一龙
  • 24篇王阳元
  • 21篇陈庆华
  • 16篇王金延
  • 13篇王茂俊
  • 12篇闫桂珍
  • 11篇张海霞
  • 10篇朱佳
  • 10篇毛海央
  • 10篇杜博超
  • 9篇徐哲
  • 9篇于民
  • 9篇樊姣荣
  • 8篇王子千
  • 7篇栗大超
  • 7篇谢冰
  • 6篇王诣斐
  • 6篇贾鲲鹏
  • 6篇夏雨

传媒

  • 7篇Journa...
  • 2篇纳米技术与精...
  • 1篇仪器仪表学报
  • 1篇中国机械工程
  • 1篇电子显微学报
  • 1篇传感技术学报
  • 1篇微纳电子技术
  • 1篇中国材料进展
  • 1篇科技纵览
  • 1篇第八届中国微...
  • 1篇中国微米纳米...
  • 1篇中国微米、纳...

年份

  • 5篇2023
  • 4篇2022
  • 2篇2021
  • 2篇2020
  • 6篇2019
  • 1篇2018
  • 8篇2017
  • 11篇2016
  • 4篇2015
  • 5篇2014
  • 10篇2013
  • 8篇2012
  • 5篇2011
  • 10篇2010
  • 4篇2009
  • 7篇2008
  • 2篇2007
  • 8篇2006
  • 5篇2005
  • 2篇2003
111 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
一种纳米柱森林的加工方法
本发明涉及一种纳米柱森林的加工方法,其步骤包括:1)准备并清洗所选用的衬底;2)在衬底的表面上旋涂光刻胶,并对光刻胶依次进行前烘、曝光和显影,最后形成光刻胶图形;3)对光刻胶图形进行氧等离子体干法刻蚀,在衬底上形成一层图...
毛海央吴文刚吴迪郝一龙王阳元
文献传递
硅微机械扭转微镜的研究进展
硅微机械扭转微镜在国防和民用领域都有着重要的应用。根据致动机理的不同,从压电驱动方式、电磁驱动方式、电热驱动方式和静电驱动方式等方面系统地阐述了硅微机械扭转微镜的研究现状与发展方向,同时重点讨论了硅微机械扭转微镜在医疗成...
栗大超吴文刚闫桂珍傅星郝一龙胡小唐
关键词:MEMS压电驱动电磁驱动电热驱动静电驱动
文献传递
一种加工周期性纳米结构器件的方法
本发明公开了一种加工周期性纳米结构器件的方法。本发明所提供的加工周期性纳米结构器件的方法,包括如下步骤:1)准备并清洗所选用的衬底,在衬底上图形化出结构层;2)选择与所述结构层材料不同的另一种材料,在所述结构层的侧面进行...
吴文刚韩翔郝一龙王阳元
文献传递
一种基于表面等离子体耦合结构的全息成像膜
本发明公开了一种基于表面等离子体耦合结构的全息成像膜。采用电子束光刻,制备非对称的纳米结构层。该纳米加工技术采用Bosch工艺反应离子刻蚀工艺,利用SF<Sub>6</Sub>进行刻蚀,用C<Sub>4</Sub>F<S...
吴文刚樊姣荣朱佳
文献传递
一种制备悬浮纳米结构的方法
本发明公开了一种制备悬浮纳米结构的方法。该方法,包括如下步骤:用聚焦离子束扫描两端固定在保护层上的悬臂梁,得到所述悬浮纳米结构。该方法不受常规光刻条件的限制,对设备的聚焦精度以及扫描精度等要求相对传统的刻蚀方式较低,更有...
李灿吴文刚丁珂徐军郝一龙王阳元
表面镀铜悬浮厚单晶硅螺线MEMS电感(英文)
2006年
报道了一种由悬浮在玻璃衬底上的表面镀铜平面单晶硅螺线构成的新型MEMS电感,可消除衬底损耗及减小电阻损耗.采用一种硅玻璃键合深刻蚀成型释放工艺并结合无电镀技术制作该电感,形成厚约40μm的硅螺线,在硅螺线表面镀有高保形厚铜镀层,在铜镀层表面镀有起钝化保护作用的薄镍镀层.该电感的自谐振频率超过15GHz,在11.3GHz下,品质因子达到约40,电感值超过5nH.基于该电感的简化等效电路模型,采用一种特征函数法进行了参数提取,模拟结果与测量结果符合得很好.
吴文刚李轶黄风义韩翔张少勇李志宏郝一龙
关键词:品质因子射频
用于MEMS的单晶硅上无电镀铜、镀镍工艺被引量:10
2005年
开发了单晶硅上的选择性无电镀铜、镀镍工艺,形成了较为优化的施镀流程,实现了保形性、均镀性较好的铜、镍及其复合镀层.其中针对单晶硅表面的特点,采取了浓酸处理和氧等离子轰击两种表面预处理方法,优化了氯化钯对表面的激活时间,使得镀层质量得到提高.提出了以镍作为中间层以减小镀层应力的方法,施镀后获得的铜镀层的电阻率为2. 1μΩ·cm,铜/镍复合镀层的方块电阻为0. 19Ω/□.在单晶硅MEMS电感结构上实现了较好的无电镀铜,使得该元件的品质因数超过25.
韩翔李轶吴文刚闫桂珍郝一龙
关键词:单晶硅品质因数
一种相位梯度超表面及其制备方法和应用
本发明公开一种相位梯度超表面及其制备方法和应用,属于纳米光子学领域。本发明相位梯度超表面包括三层材料,底层是厚金属层,可以把入射光全部反射,避免透射损失;中间层是透明介质层,把上下两层金属隔离开;顶层是金属材质的平面阵列...
吴文刚李立业金生霄胡森勇
基于自停止刻蚀的氮化镓基器件隔离的制备方法
本发明公开了一种基于自停止刻蚀的氮化镓基器件隔离的制备方法,隔离区利用自停止氧化湿法腐蚀技术制备,消除了等离子体对有源区边缘及隔离区表面的损伤,可以有效降低泄漏电流,而隔离区仅势垒层被刻蚀掉,相对于ICP刻蚀来说台阶高度...
刘靖骞王金延徐哲王茂俊谢冰于民吴文刚张进城马晓华郝跃
文献传递
一种图形化纳米颗粒自组装制造方法
本发明涉及一种图形化纳米颗粒自组装制造方法,其步骤包括:采用单面抛光单晶硅衬底,通过化学气相淀积方法在硅衬底表面淀积出一层聚对二甲苯薄膜;通过传统光刻方法,在硅衬底表面制作所需的光刻胶掩模图形;采用氧等离子体刻蚀方法,刻...
吴文刚杨增飞钱闯王诣斐
文献传递
共12页<12345678910>
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