朱军
- 作品数：102 被引量：196H指数：9
- 供职机构：上海交通大学更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划国家自然科学基金国家重点实验室开放基金更多>>
- 相关领域：电子电信自动化与计算机技术机械工程化学工程更多>>
- S型MEMS平面微弹簧的制备和表征研究被引量：2
- 2004年
- 微弹簧是一种重要的微电子机械系统 ( MEMS)器件 ,它可以为微传感器和微执行器提供弹性驱动力。我们采用 UV- LIGA技术制备出 S型镍平面微弹簧 ,并使用 ANSYS对微弹簧的力学性能进行了模拟。为测试微弹簧的力学性能 ,研制了 1台微弹簧力学性能测试装备。测试结果表明 ,微弹簧可以满足设计需要。另外 ,通过比较得出 :ANSYS对微弹簧力学性能的模拟结果是较为准确的 ,可以作为进一步优化微弹簧设计的基础 ,以满足 MEMS的需要。
- 石磊李建华陈迪倪智萍朱军
- 关键词：微电子机械系统力学性能
- 直径1mm电磁型微电机
- 张琛丁桂甫赵小林杨春生蔡炳初周狄冯建智朱军唐晓宁毛海平倪智平
- 直径1mm电磁型微电机的技术原理是以直径2mm电磁型微电机微基础，并根据实际情况对磁极的个数作了适当调整，另外在电机绕组的匝数，绕组的层数作了相应的调整， 该项目的主要技术创造是在直径1mm之后，完成9只绕组和12极磁性...
- 关键词：
- 关键词：微电机电磁型
- 基于表面微细加工工艺的异平面空心微针及其制备方法
- 本发明公开一种基于表面微细加工工艺的异平面空心微针及其制备方法，所述方法采用基于湿法刻蚀工艺、UV-LIGA工艺和浇铸工艺，湿法刻蚀用于形成微针针尖结构，UV-LIGA用于实现微针针体部分，然后利用浇铸，形成一个内部中空...
- 李以贵廖哲勋朱军
- 文献传递
- 圆锥形顶部的空心微针阵列制备方法
- 一种微针制备领域的圆锥形顶部的空心微针阵列制备方法，以不同光敏剂浓度的光刻胶混合后制备单个或多个光敏剂浓度的系列光刻胶，只要在应用时满足上层光刻胶光敏性高于下层光刻胶，利用两者在曝光剂量上的差异，通过精确控制曝光剂量上层...
- 朱军
- 文献传递
- 异平面中空金属微针阵列的制备方法
- 一种适用于医疗仪器技术领域的异平面中空金属微针阵列的制备方法，通过倾斜旋转曝光与传统曝光组合运用获得带有小圆柱的光刻胶凹锥结构阵列。利用PDMS的优良图形复制能力，通过两次PDMS转模得到带有小圆柱的PDMS凹锥结构阵列...
- 朱军蒋宏民陈翔
- 文献传递
- SU-8胶及其在MEMS中的应用被引量：26
- 2003年
- SU 8胶是一种负性、环氧树脂型、近紫外线光刻胶。它适于制超厚、高深宽比的MEMS微结构。SU 8胶在近紫外光范围内光吸收度低 ,故整个光刻胶层所获得的曝光量均匀一致 ,可得到具有垂直侧壁和高深宽比的厚膜图形 ;它还具有良好的力学性能、抗化学腐蚀性和热稳定性 ;SU 8胶不导电 ,在电镀时可以直接作为绝缘体使用。由于它具有较多优点 ,被逐渐应用于MEMS的多个研究领域。本文主要分析SU 8胶的特点 ,介绍其在MEMS的一些主要应用 ,总结了我们研究的经验 ,以及面临的一些问题 。
- 刘景全蔡炳初陈迪朱军赵小林杨春生
- 关键词：SU-8胶MEMS微机电系统
- SU-8胶及其在MEMS中的应用
- SU-8胶是一种负性、环氧树脂型、近紫外线光刻胶.它适于制超厚、高深宽比的MEMS微结构.SU-8胶在近紫外光范围内光吸收度低,故整个光刻胶层所获得的曝光量均匀一致,可得到具有垂直侧壁和高深宽比的厚膜图形;它还具有良好的...
- 刘景全蔡炳初陈迪朱军赵小林杨春生
- 关键词：微机电系统光刻胶热稳定性
- 文献传递
- 基于工作流技术的证券资产服务系统的设计与实现
- 近些年来，伴随着全球化带来的金融活动日益频繁，各种金融产品推陈出新，不断地推动着投资银行业务的发展。证券资产服务业务作为投资银行的一种主要业务，目的在于及时、有效地与投资者交换更新证券市场最新的证券信息，帮助他们进行理性...
- 朱军
- 关键词：软件开发投资银行工作流技术
- 文献传递
- 三维微弹簧型MEMS探卡的设计和制备
- 随着IC器件上的I/O尺寸减小和密度增加,与之通过接触来进行电性能测试的探卡密度也要相应增加,传统手工制作的环氧树脂针形探卡难以满足使用要求,使用MEMS技术制作探卡成为发展的趋势,但是当前MEMS探卡的主要问题是不能承...
- 靖向萌陈迪张晔张保增刘景全陈翔朱军
- 关键词：MEMSIC器件
- 文献传递
- 用SU-8胶制高深宽比微结构的试验研究被引量：16
- 2002年
- SU 8胶是一种负性、环氧树脂型、近紫外线光刻胶 ,它适于超厚、高深宽比的MEMS微结构制造。但SU 8胶对工艺参数很敏感。采用正交试验设计方法对其工艺进行分析。采用三个因素进行试验 ,对试验进行了分析。以 2 0 0 μm厚的SU 8为例进行试验研究 ,得到的光刻胶图形侧壁陡直 ,分辨率高 ,与基底附着性强 ,深宽比大于 2 0。
- 刘景全朱军丁桂甫赵小林蔡炳初
- 关键词：微结构SU-8胶高深宽比微机电系统光刻
