您的位置: 专家智库 > >

佐藤一雄

作品数:3 被引量:12H指数:2
供职机构:名古屋大学更多>>
发文基金:中国博士后科学基金更多>>
相关领域:金属学及工艺电子电信机械工程更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 2篇金属学及工艺
  • 1篇机械工程
  • 1篇电子电信

主题

  • 2篇微机电系统
  • 2篇机电系统
  • 2篇电系统
  • 1篇单晶
  • 1篇单晶硅
  • 1篇湿法刻蚀
  • 1篇坡莫合金
  • 1篇微电子
  • 1篇微电子机械
  • 1篇微电子机械系...
  • 1篇力学性能
  • 1篇刻蚀
  • 1篇活性剂
  • 1篇机械性能
  • 1篇各向异性
  • 1篇MEMS
  • 1篇MEMS薄膜
  • 1篇表面活性
  • 1篇表面活性剂
  • 1篇力学性

机构

  • 3篇名古屋大学
  • 2篇上海交通大学
  • 1篇中国工程物理...

作者

  • 3篇佐藤一雄
  • 2篇安藤妙子
  • 2篇丁桂甫
  • 2篇式田光宏
  • 2篇李雪萍
  • 1篇陈颖慧
  • 1篇唐彬
  • 1篇彭勃
  • 1篇袁明权

传媒

  • 1篇传感技术学报
  • 1篇微纳电子技术
  • 1篇传感器与微系...

年份

  • 1篇2013
  • 1篇2007
  • 1篇2006
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
单晶硅各向异性湿法刻蚀的研究进展被引量:10
2013年
单晶硅各向异性湿法刻蚀是制作硅基微电子机械系统(MEMS)器件的重要步骤之一,由于具有刻蚀均匀性好、批量大、成本低的优点而深受关注。首先回顾了单晶硅各向异性湿法刻蚀的刻蚀机理,比较了三种常用各向异性刻蚀液的刻蚀性质,讨论了刻蚀形状的控制技术。然后着重介绍了表面活性剂修饰的单晶硅各向异性湿法刻蚀速率和刻蚀表面光滑度等特性,以及面向MEMS应用的基于该刻蚀技术的各种微纳新结构;分析了表面活性剂分子在刻蚀过程中的作用,强调了表面活性剂分子在单晶硅表面的吸附性对改变刻蚀表面的物理性质的重要性。最后在此基础上,归纳了单晶硅各向异性湿法刻蚀的发展情况,探讨了其未来的发展方向。
唐彬袁明权彭勃佐藤一雄陈颖慧
关键词:单晶硅湿法刻蚀各向异性表面活性剂
一种MEMS薄膜材料的力学性能测试方法被引量:2
2007年
介绍了一种用于MEMS薄膜材料力学特性测试的单轴拉伸试验方法。其特点是微小试件两端固定,且与加载机构集成在基片上,从而可减少操作工作量,提高对准精度。整个机构以微细加工方法制成,硅类试件以干法蚀刻成型,金属类试件以电镀方法成型,其余加载机构以湿法刻蚀制成。试验表明:使用此机构可以简单且高精度地对薄膜试件进行拉伸试验,获得多项力学性能参数,从而为MEMS器件设计和分析提供可靠的理论基础。
李雪萍丁桂甫安藤妙子式田光宏佐藤一雄
关键词:微机电系统力学性能
一种用于测试坡莫合金薄膜机械性能的拉伸模型
2006年
坡莫合金(Ni80Fe20)薄膜是微机电系统常用的磁性材料之一.介绍了一种用于测试其机械性能的单轴拉伸试验模型.此模型的特点是微小试件两端固定、且与加载机构集成在基片上,从而可减少操作工作量、提高对准精度.整个机构以微细加工方法制成:坡莫合金拉伸试件以光刻和电镀技术成型,其余的加载机构以湿法蚀刻制成.实验表明:使用此机构可以简单且高精度地对薄膜试件进行拉伸试验,获得多项力学性能参数,从而为MEMS器件设计和分析提供可靠的理论基础.
李雪萍丁桂甫安藤妙子式田光宏佐藤一雄
关键词:微机电系统机械性能坡莫合金
共1页<1>
聚类工具0