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洪伟

作品数：4 被引量：4H指数：1
供职机构：中国航天科工集团公司更多>>
发文基金：教育部重点实验室开放基金更多>>
相关领域：理学一般工业技术化学工程电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 2篇理学
  • 1篇化学工程
  • 1篇机械工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 4篇金刚石膜
  • 4篇类金刚石
  • 4篇类金刚石膜
  • 2篇气相沉积
  • 2篇化学气相
  • 2篇化学气相沉积
  • 2篇END
  • 2篇HALL
  • 1篇热压
  • 1篇硫化
  • 1篇硫化锌
  • 1篇基底
  • 1篇红外
  • 1篇红外窗口
  • 1篇DLC
  • 1篇磁存储

机构

  • 4篇中国航天科工...
  • 3篇南开大学
  • 1篇天津市道路桥...

作者

  • 4篇洪伟
  • 3篇赵友博
  • 3篇张铁群
  • 1篇季一勤

传媒

  • 1篇光学仪器
  • 1篇南开大学学报...
  • 1篇光电技术应用
  • 1篇2003年全...

年份

  • 1篇2008
  • 1篇2007
  • 1篇2006
  • 1篇2003
共 4 条 记 录，以下是 1-4
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排序方式：
采用End-Hall源沉积类金刚石膜被引量：3
2006年
介绍了两种普遍采用的类金刚石(DLC)膜沉积方法。在此基础上叙述了采用End-H all源沉积DLC膜的方法,在简单说明其工作原理的同时给出了实验的各项技术参数;通过对实验结果和DLC膜样品的分析,可看出用End-H all源沉积方式能够消除RFCVD沉积方式所带来的边缘效应。
洪伟赵友博张铁群
关键词：类金刚石膜
类金刚石膜的沉积技术、性能和应用
综述了类金刚石膜的需求背景,并结合物理气相沉积和化学气相沉积两方面介绍了国内外技术发展状况,文中主要侧重讨论射频等离子体放电化学气相沉积、离子束化学气相沉积和脉冲激光物理气相沉积三种方法.其中前两种方法在国外已经相当成熟...
洪伟宋洪君季一勤
关键词：类金刚石膜DLC红外窗口磁存储化学气相沉积
文献传递
End—Hall源沉积类金刚石膜的实验
2008年
介绍了采用 End-Hall 源沉积 DLC 膜的方法,在简单说明其工作原理的同时给出了实验的各项技术参数;通过对实验结果和 DLC 膜样品的分析,可看出用 End-Hall 源沉积方式能够消除 RFCVD 沉积方式所带来的边缘效应.
洪伟赵友博张铁群
关键词：类金刚石膜
热压硫化锌基底上类金刚石膜的设计与实现被引量：1
2007年
讨论了在ZnS窗口和整流罩上实现DLC膜的方法，给出了膜系和实验结果．从测试结果可以看出。ZnS基片、Si膜和DLC膜在7-10μm的平均透过率比以往的双面减反射膜有了明显的提高，不仅满足了技术指标的要求，而且也有利于DLC膜应用领域的进一步拓展．
洪伟赵友博张铁群隋承林
关键词：硫化锌类金刚石膜化学气相沉积热压
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