姚汉民
- 作品数：175 被引量：244H指数：8
- 供职机构：中国科学院光电技术研究所更多>>
- 发文基金：中国科学院知识创新工程国家自然科学基金国家重点实验室开放基金更多>>
- 相关领域：电子电信机械工程理学自动化与计算机技术更多>>
- 一种逆向照明接近接触纳米光刻装置
- 一种逆向照明接近接触纳米光刻装置包括：基片、光刻胶、金属掩模版和均匀准直照明系统；在基片上面涂有光刻胶，在光刻胶接近接触放置金属掩模版，当均匀准直照明系统逆向照明，从基片侧向入射到基片上，在光刻胶和金属掩模版之间由于介电...
- 杨勇胡松姚汉民唐小萍邢薇赵立新张春梅严伟
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- 一种无掩模纳米图形制作方法及其制作装置
- 一种无掩模纳米图形制作方法及其制作装置，由真空室、亚稳态原子发生器、漏勺、平板电极、光阑、激光束、平面反射镜和工件台等构成，它利用带有小孔的光阑对亚稳态原子流进行准直，形成平行原子束，利用激光驻波场使亚稳态原子束形成横向...
- 陈献忠姚汉民陈旭南石建平李展高洪涛陈元培
- 文献传递
- 0.1μm线宽主流光刻设备—193nm(ArF)准分子激光光刻被引量：4
- 2002年
- 阐述了可实现 0 1μm线宽器件加工的几种候选光刻技术 ,对 193nm(ArF)准分子激光光刻技术作了较为详细的论述 ,指出其在 0 1μm技术段的重要作用 ,并提出了研制 193nm(ArF)光刻设备的一些设想。
- 陈兴俊胡松姚汉民刘业异
- 关键词：光学光刻光刻设备
- 投影光刻成像相移滤波装置
- 本发明是一种投影光刻成像相移滤波装置,由照明光源、聚光镜组、成像物镜及硅片等构成,其特征是在投影光刻物镜的光瞳面位置,放置对成像光可进行相移滤波的完全透光相移滤波板,既保证成像光不受阻挡,又能提高像对比度,进一步挖掘短波...
- 陈旭南罗先刚姚汉民李展康西巧
- 文献传递
- 相移滤波提高超微细图形成像光刻分辨力研究
- 为进一步提高大数值孔径投影成像系统的光刻分辨力和焦深,同时针对振幅型滤波光能量利用率低的缺点,详细研究了相移滤波高分辨力大焦深的基本理论,给出相移滤波数理模型,进行模拟计算分析,根据不同的掩模图形设计制作不同的最优相移滤...
- 陈旭南康西巧罗先刚石建平姚汉民李展
- 关键词：光能利用率分辨力焦深
- 文献传递
- 一种消除光学元件干涉采样数据中随机误差的方法
- 一种消除光学元件干涉采样数据中随机误差的方法，涉及一种针对圆形口径光学元件面形误差检测方法的改进。利用信息处理技术对干涉仪所获取的光学元件的面形检测数据进行处理，采取改进的最小二乘方法确定检测数据的圆心位置，根据误差理论...
- 陈伟姚汉民伍凡范斌万勇建朋汉林
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- 深紫外深度光刻蚀在LIGA工艺中的应用被引量：8
- 2002年
- 随着MEMS在各个领域的运用,人们也开始探讨低成本、操作方便的LIGA工艺。本文重点介绍了一种用于深紫外光深度光刻实验装置的设计,并将该实验装置成功地应用于LIGA工艺的深度光刻中,光刻实验结果表明深紫外光深度光刻具有很大的实用意义。
- 余国彬姚汉民胡松陈兴俊
- 关键词：微型机电系统微细加工
- 激光驻波原子透镜的像差分析
- 2004年
- 用激光驻波构成的原子透镜对原子束实现nm量级的聚焦,由于原子束的速度扩散、束扩散和原子的波动特性等因素的影响,原子透镜存在像差。建立了两种描述原子透镜的理论模型,用半经典模型分析原子透镜的球差、色差及由原子束的发散角引起的像差,用量子模型分析原子透镜的衍射像差。模拟结果表明原子束的发散角是产生像差的主要因素,衍射像差大于球差和色差。提出了优化实验参数、增加束掩模和利用刻蚀技术三种改善原子光刻实验的方法。
- 陈献忠姚汉民陈旭南石建平张春梅
- 关键词：激光驻波场光刻技术
- 一种基于惯性动量作用的微压电泵被引量：2
- 2006年
- 提出一种新的微压电泵工作机理,采用环形流道式泵腔与两个无运动件阀,形成双级惯性动量作用机制。通过减小腔内回流比例、增大正反方向流阻差,提高泵液效率与输出泵压、减小输出脉动。仿真结果表明该工作机理是可行的。
- 王皓姚汉民杜春雷
- 关键词：压电陶瓷微机电系统
- 影响二维空气圆柱型光子晶体完全禁带的主要因素研究被引量：8
- 2004年
- 研究了晶格结构、填充比、介电常数比三个主要因素对二维空气圆柱型光子晶体完全禁带的影响。利用Bandsolve软件分别优化计算得到不同晶格结构、不同介电常数比的最大完全禁带,以及对应结构参数之间的关系。对于相同介电常数比,六边形晶格可获得较宽的完全禁带;而对于相同晶格结构,介电常数比越大,完全禁带宽度越大。
- 张晓玉安卫军张磊杜春雷姚汉民
- 关键词：光子晶体晶体
