孙舒宁
- 作品数：7 被引量：3H指数：1
- 供职机构：山东建筑大学更多>>
- 发文基金：山东省自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术电子电信金属学及工艺更多>>
- 氧氩比对铒镱掺杂氧化锌薄膜的结构和光波导特性的影响
- 2013年
- 氧化锌作为一种良好的发光材料广泛应用于太阳能电池、气敏传感器、紫外探测器、光电器件、透明电极等诸多领域。文章应用磁控溅射技术制备铒镱掺杂的氧化锌薄膜,利用X射线(XRD)和棱镜耦合技术,分析研究了氧氩比对铒镱掺杂的氧化锌薄膜的结构和光波导特性的影响。结果表明:氧氩比对薄膜的结构和光波导特性有重要影响,当氧氩比为2:16时,薄膜的衍射峰的强度较大,半高宽(FWHM)较窄,有效折射率接近ZnO薄膜的折射率,降低氧氩比有利于增强薄膜的c轴择优取向。
- 宋红莲王凤翔陈志华孙舒宁
- 关键词：磁控溅射技术
- 一种掺铒氮化锌薄膜光波导及制备方法
- 本发明涉及一种半导体材料光波导的制备方法，尤其涉及一种掺铒氮化锌薄膜光波导及制备方法。本发明首次在氮化锌这种新型半导体材料薄膜层尝试进行铒离子掺杂，并证明离子辐照技术制备掺铒氮化锌光波导是可行的，为氮化锌光波导的发展前景...
- 王凤翔孙舒宁付刚陈志华李双
- 文献传递
- 溅射气压对TiO_2薄膜结构性质的影响被引量：3
- 2012年
- 用射频磁控溅射技术在双面抛光的石英玻璃(SiO2)基底上沉积Er3+/Yb3+掺杂的TiO2薄膜,利用RBS背散射分析技术和X射线衍射技术研究溅射压强对薄膜结构性质的影响。结果表明:随着压强增加,成膜速率缓慢下降,且压强增大到一定数值之后对成膜速率的影响会逐渐减弱;随着压强增加,薄膜晶粒变大,晶粒间界变小,晶化质量提高。当溅射压强2.0Pa时,晶粒尺寸最大为64nm;适当降低溅射压强有利于提高薄膜的沉积速率,但是压强值也不能过小,否则会影响薄膜的晶粒尺寸大小,降低薄膜的结晶质量。
- 陈志华王凤翔宋红莲张秀全孙舒宁
- 关键词：TIO2薄膜溅射压强沉积速率晶粒尺寸
- 反应磁控溅射法制备Zn_3N_2薄膜的工艺研究
- 2015年
- 制备和研究高质量的Zn3N2薄膜有助于拓展新型薄膜材料体系。文章采用反应磁控溅射技术,研究不同的溅射功率、N2-Ar流量比、衬底类型和衬底温度等沉膜工艺对Zn3N2薄膜结晶质量的影响;采用XRD、SEM和AFM等测试手段,分析Zn3N2薄膜的微结构和表面形貌。结果表明:几种衬底上,以石英玻璃作衬底沉积的Zn3N2薄膜晶粒尺寸较大,衍射峰较强,且为多晶向薄膜;当N2-Ar流量比提高时,Zn3N2薄膜为单一择优取向的结晶薄膜;衬底温度升高后,Zn3N2薄膜晶粒尺寸减小,但是单一择优取向不变;溅射功率提高后,薄膜晶粒尺寸增大,择优取向改变,由单一晶向变为多晶向,以<100>晶向单晶硅作衬底可获得单一晶向Zn3N2薄膜,而以<111>单晶硅作衬底制备的Zn3N2薄膜经XRD测试,未检测到Zn3N2晶体。
- 孙舒宁王凤翔陈志华付刚张秀全
- 关键词：磁控溅射技术衬底
- Er^(3+)/Yb^(3+)掺杂的ZnO薄膜光波导的特性研究
- 2013年
- 以Er3+/Yb3+掺杂的ZnO烧结陶瓷为靶材,利用射频磁控溅射技术在石英玻璃上制备了高度c轴取向的纳米Er3+/Yb3+掺杂的ZnO薄膜,利用X射线衍射、棱镜耦合、卢瑟福背散射等技术研究了所沉积薄膜的结构和光波导特性,结果表明:薄膜中均出现(002)衍射峰,且随着温度的增加,衍射峰半高宽减小,强度增大,(100)晶面逐渐消失。600℃时出现(004)晶面,薄膜的模有效折射率接近ZnO晶体的折射率。
- 宋红莲王凤翔陈志华孙舒宁
- 关键词：磁控溅射纳米
- 一种掺铒氮化锌薄膜光波导及制备方法
- 本发明涉及一种半导体材料光波导的制备方法，尤其涉及一种掺铒氮化锌薄膜光波导及制备方法。本发明首次在氮化锌这种新型半导体材料薄膜层尝试进行铒离子掺杂，并证明离子辐照技术制备掺铒氮化锌光波导是可行的，为氮化锌光波导的发展前景...
- 王凤翔孙舒宁付刚陈志华李双
- Zn3N2薄膜的制备及光学特性研究
- 在科学技术日新月异的当今社会，半导体薄膜材料以其优异的半导体特性和特殊的小尺寸效应已经成为了科技材料研究的热点。目前研究比较广泛的是锌类和氮族化合物，而Zn3N2正是兼属于这两类材料的特殊化合物。因此，近年来Zn3N2薄...
- 孙舒宁
- 关键词：反应磁控溅射透过率光学特性
- 文献传递
