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朱衡

作品数：26 被引量：14H指数：3
供职机构：成都精密光学工程研究中心更多>>
发文基金：国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域：电子电信机械工程金属学及工艺文化科学更多>>

合作作者

文献类型

  • 22篇专利
  • 3篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 4篇电子电信
  • 2篇金属学及工艺
  • 2篇机械工程
  • 2篇文化科学

主题

  • 19篇光学
  • 15篇抛光
  • 6篇离轴
  • 6篇面形
  • 6篇光学元件
  • 4篇非球面
  • 3篇调节机构
  • 3篇填充层
  • 3篇抛光工艺
  • 3篇光学制造
  • 3篇反射镜
  • 3篇非球面光学
  • 3篇干涉仪
  • 2篇导轨
  • 2篇研磨
  • 2篇应力
  • 2篇应力分布
  • 2篇射流
  • 2篇声波
  • 2篇时间响应特性

机构

  • 26篇成都精密光学...

作者

  • 26篇朱衡
  • 24篇鄢定尧
  • 23篇马平
  • 20篇鲍振军
  • 17篇蔡红梅
  • 11篇李智钢
  • 11篇黄金勇
  • 10篇赵恒
  • 8篇张贤红
  • 8篇周衡
  • 7篇胡庆
  • 7篇王刚
  • 6篇何曼泽
  • 6篇周佩璠
  • 6篇黄颖
  • 5篇高胥华
  • 5篇吕亮
  • 4篇谢磊
  • 4篇张明骁
  • 4篇何祥

传媒

  • 2篇强激光与粒子...
  • 1篇中国激光

年份

  • 1篇2021
  • 3篇2020
  • 2篇2019
  • 4篇2018
  • 6篇2017
  • 5篇2016
  • 2篇2015
  • 2篇2014
  • 1篇2013
共 26 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
光学球罩同心度检测装置
本实用新型公开了一种光学球罩同心度检测装置，属于光学元件检测技术领域。它包括底板、工件架、定位块、上千分表、下千分表和立柱，工件架上通过定位轴和锁紧螺母连接有定位块，定位块上设有弧形定位面，定位块经压紧螺栓连接有压紧块，...
鲍振军马平鄢定尧朱衡蔡红梅李智钢张贤红周衡
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抛光胶制备装置
本实用新型公开了一种抛光胶制备装置，属于光学加工技术领域。它包括桶体、桶内层及二者之间的保温层及上部的桶盖，桶体上部设有上支架，上支架上安装有电机、减速器及搅拌桨叶，桶体下部设有支撑脚，桶体底部设有出料管及出料阀；桶体中...
赵恒蔡超王刚马平鄢定尧谢磊何祥朱衡鲍振军
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一种抛光机
本申请公开了一种抛光机，包括气缸、移动导轨、抛光模基座、底座、抛光模和填充层。所述抛光模粘附在所述抛光模基座上的、表面面积与抛光器件表面面积大小相同、且与所述抛光器件表面贴合；所述填充层为高于一温度时呈液态、常温下成固态...
蔡红梅鄢定尧马平鲍振军朱衡胡江川赵恒樊飞颜子钦何曼泽周佩璠黄颖胡庆高胥华杨佳张贤红周恒史亚俊智
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一种用于双转子数控抛光机的异形抛光盘设计与制作方法
本发明公开了一种用于双转子数控抛光机的异形抛光盘设计与制作方法，涉及光学制造与光学材料加工领域。该方法包括：(1)首先确定抛光盘特征参数；(2)对抛光盘进行环带分割，并计算环带去除函数h<Sub>i</Sub>；(3)根...
吕亮黄金勇胡庆蒲云体马平鄢定尧张明骁朱衡刘杰
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离轴非球面光学加工装置
本实用新型公开了一种离轴非球面光学加工装置，属于光学元件加工技术领域。它包括加工平台、变频电机、驱动轴和摆动轴；驱动轴依次与摆幅调节机构、驱动臂连接；摆动轴上设有摆臂座；摆臂座上设有摆臂；驱动臂经关节轴承与连杆连接，连杆...
马平鄢定尧鲍振军蔡红梅朱衡樊非何曼泽赵恒周佩璠黄金勇黄颖
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一种平面光学元件及其加工方法
本申请公开了一种平面光学元件及其加工方法，包括研磨待加工平面光学元件的第一表面，使研磨后第一表面的反射面形误差数据小于第一面形误差阈值，得到第一平面光学元件；抛光研磨后第一表面，使抛光后第一表面的反射面形误差数据小于第二...
朱衡吴迪龙鲍振军周衡李智钢蔡红梅鄢定尧
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光学球罩同心度检测装置
本发明公开了一种光学球罩同心度检测装置，属于光学元件检测技术领域。它包括底板、工件架、定位块、上千分表、下千分表和立柱，工件架上通过定位轴和锁紧螺母连接有定位块，定位块上设有弧形定位面，定位块经压紧螺栓连接有压紧块，工件...
鲍振军马平鄢定尧朱衡蔡红梅李智钢张贤红周衡
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一种熔石英光学元件的酸射流刻蚀方法和酸射流刻蚀装置
本发明公开了一种熔石英光学元件的酸射流刻蚀方法和酸射流刻蚀装置，包括酸液输运单元、搅拌混合单元、抛光液输运单元和喷头，采用方法为将熔石英元件在特定浓度的氢氟酸稀溶液中浸泡5～10min，去除表面污染物与抛光再沉积层；根据...
吕亮马平鄢定尧朱衡黄金勇蒲云体蔡超王刚张明骁
离轴抛物面反射镜的离轴量和焦距测量装置
本发明公开了一种离轴抛物面反射镜的离轴量和焦距测量装置，属于光学技术领域。它包括底座、转盘，弧形导轨、调节螺栓和支架，转盘置于底座的一端，弧形导轨固定于底座的另一端，其弧线与转盘同圆心，调节螺栓经螺栓座与底座连接，支架两...
鲍振军朱衡蔡红梅李智钢鄢定尧马平刘杰张贤红周衡
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水射流抛光去除函数对面形误差修正的影响被引量：4
2016年
研究了水射流抛光条件下的去除函数特征,根据去除函数的一维轮廓特征采用分段解析函数拟合方法建立了去除函数的解析表达式。根据解析表达式采用Matlab数值模拟方法对不同参数条件下的去除函数进行了一维叠加去除模拟,引入波纹度均方根值Wrms指标,对均匀去除与线性去除条件下不同参数对去除函数一维误差修正的影响进行了讨论。通过两轮水射流抛光实验,使F50 mm熔石英玻璃面形峰谷值λPV由0.148λ收敛至0.062λ,90%与75%口径范围分别收敛至0.048λ与0.032λ。面形均方根值λrms由18.86 nm收敛至4.87 nm,90%与75%口径范围内分别收敛至3.67 nm与3.15 nm。
吕亮马平朱衡黄金勇王刚
关键词：光学制造去除函数熔石英
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