朱选敏
- 作品数：4 被引量：20H指数：2
- 供职机构：武汉理工大学更多>>
- 相关领域：化学工程电子电信理学更多>>
- 电子束蒸发沉积ZAO薄膜正交试验被引量：12
- 2005年
- 采用电子束真空蒸发沉积薄膜的方法(EBED)制备了ZnO:A1(ZAO)透明导电薄膜。用正交试验法设计试验,并分析了制备ZAO薄膜的主要影响因素(沉积厚度、沉积速率、基片温度)对薄膜性能(透射率、电阻率)的作用。试验结果表明:采用EBED法沉积制备ZAO薄膜时,沉积速率控制为1nm/s、沉积厚度为800nm、基片温度为250℃,镀膜系统工作稳定,沉积薄膜的性能较好。
- 郭爱云薛亦渝夏志林朱选敏葛春桥
- 关键词：ZAO薄膜正交试验
- 以低价态钛氧化物制备TiO_2薄膜研究被引量：2
- 2005年
- 试验以Ti2O3,Ti3O5和TiO2作为初始膜料,在ZZS700-6／G型真空镀膜机上采用O2-离子束辅助蒸发制备氧化钛 薄膜。用XRD检测方法确定各种膜料和薄膜的相成分,并全面地分析了各种膜料的蒸发特性和薄膜;用分光光度计测量薄 膜的透射率,并分析薄膜的光学性能。试验表明,在采用Ti2O3,Ti3O5和TiO2作为蒸发制备氧化钛薄膜时,钛的氧化物中存 在Ti3O5固态同一蒸发相;各种膜料在蒸发时,发生分解,熔池中的物质成分逐渐转变成同一蒸发相成分,最终完全转变成同 一蒸发相。
- 郭爱云薛亦渝朱选敏胡小峰
- 关键词：TIO2氧化钛薄膜
- 金刚石表面化学镀镍沉积速度影响因素分析被引量：2
- 2006年
- 研究了以硼氢化钠为还原剂的金刚石表面化学镀N i工艺,重点探讨了镀液主要工艺参数对沉积速度的影响,获得了最佳工艺条件:硼氢化钠1.0 g/L;氯化镍30 g/L;乙二胺60 g/L;温度85℃;pH值13,并用JSM-5610LV型扫描电镜观察了原始金刚石和镀覆后的形貌。
- 朱选敏刘桂珍郭爱云
- 关键词：预处理化学镀镍
- 微米金刚石化学镀Ni-B及Ni-Mo-B工艺研究
- 本文为微米金刚石化学镀Ni-B及Ni-Mo-B工艺研究.金刚石具有高导热率、低介电系数、高禁带宽度、超高硬度、低摩擦系数等性质，在国民经济的许多部门得到了广泛的应用。但在目前应用的金刚石工具中，人们通常选用低熔点金属(C...
- 朱选敏
- 关键词：金刚石正交实验化学镀
- 文献传递
