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陈雷英

作品数:6 被引量:0H指数:0
供职机构:河北工业大学更多>>
发文基金:河北省自然科学基金河北省科学技术研究与发展计划项目更多>>
相关领域:电子电信一般工业技术更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 3篇会议论文

领域

  • 4篇电子电信
  • 2篇一般工业技术

主题

  • 4篇氮化镓
  • 4篇数值模拟
  • 4篇气相外延
  • 4篇氢化物气相外...
  • 4篇值模拟
  • 2篇有限体积
  • 2篇有限体积法
  • 2篇透射电子显微...
  • 2篇温场
  • 2篇流场
  • 2篇TEM
  • 2篇GAN材料

机构

  • 6篇河北工业大学

作者

  • 6篇李养贤
  • 6篇陈贵锋
  • 6篇陈雷英
  • 6篇赵勇明
  • 6篇马晓薇
  • 6篇白云娜

传媒

  • 3篇半导体技术

年份

  • 6篇2008
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
垂直式HVPE生长GaN材料的数值模拟
建立了HVPE的GaN流体动力学模型。基于CFD理论在三维空间内模拟了垂直式HVPE反应室生长GaN材料的流场、生成物的分布及沉积速率等重要物理参数。通过变化衬底距离出气口的距离、NH出气口尺寸、衬底旋转等模型,分别进行...
赵勇明陈贵锋陈雷英马晓薇白云娜李养贤
关键词:氮化镓氢化物气相外延
文献传递
垂直式HVPE反应器温场的数值模拟
基于CFD理论得出了不同条件下的温场分布,研究了流速变化对HVPE反应器温场的影响。在模拟计算中,流场数值模拟基于非交错网格系统的SIMPLE算法,用有限体积方法对控制方程进行离散,并采用改进的压力速度耦合方法进行求解温...
赵勇明陈贵锋陈雷英马晓薇白云娜李养贤
关键词:氢化物气相外延温场有限体积法流场
文献传递
GaN薄膜材料TEM样品的制备
2008年
研究了采用机械研磨和离子减薄技术制备透射电镜用薄膜样品的方法,介绍了GaN截面TEM样品的制备,发展了供透射电子显微镜(TEM)分析用的"三明治"半导体样品制样技术,并利用扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜进行观测,获得了有关半导体GaN材料横截面的薄区图像,加以分析整理从而寻求到了一种透射电镜截面样品的最佳制备工艺。
陈雷英陈贵锋赵勇明白云娜马晓薇李养贤
关键词:氮化镓透射电子显微镜
垂直式HVPE反应器温场的数值模拟
2008年
基于CFD理论得出了不同条件下的温场分布,研究了流速变化对HVPE反应器温场的影响。在模拟计算中,流场数值模拟基于非交错网格系统的SIMPLE算法,用有限体积方法对控制方程进行离散,并采用改进的压力-速度耦合方法进行求解温场通过与具体实验结合选择合适的温度传输模型,分别改变石墨环几何尺寸、流量等条件,得到反应器流场、温场的相应变化。根据对模拟结果进行分析,流场对温场的影响是重要的影响因素,流量的大小直接关系到温场的分布,并把数值模拟结果与实验进行了对比验证。
赵勇明陈贵锋陈雷英马晓薇白云娜李养贤
关键词:氢化物气相外延温场有限体积法流场
垂直式HVPE生长GaN材料的数值模拟
2008年
建立了HVPE的GaN流体动力学模型。基于CFD理论在三维空间内模拟了垂直式HVPE反应室生长GaN材料的流场、生成物的分布及沉积速率等重要物理参数。通过变化衬底距离出气口的距离、NH3出气口尺寸、衬底旋转等模型,分别进行数值模拟,模拟结果显示,衬底距离出气口的距离及NH3出气口尺寸是影响GaCl与NH3在衬底上的均匀分布和沉寂速率均匀性的重要因素。衬底不同转速则对本反应室中的GaCl与NH3在衬底上的均匀分布、沉寂速率的均匀性影响不大。通过数值模拟发现反应室存在的缺陷,并利用模拟结果对反应室进行了优化。
赵勇明陈贵锋陈雷英马晓薇白云娜李养贤
关键词:氮化镓氢化物气相外延
GaN薄膜材料TEM样品的制备
研究了采用机械研磨和离子减薄技术制备透射电镜用薄膜样品的方法,介绍了GaN截面EM样品的制备,发展了供透射电子显微镜(EM)分析用的"三明治"半导体样品制样技术,并利用扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜进行观测,获...
陈雷英陈贵锋赵勇明白云娜马晓薇李养贤
关键词:氮化镓透射电子显微镜
文献传递
共1页<1>
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