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冯伯编
作品数:
1
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供职机构:
中国科学院光电技术研究所
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发文基金:
国家重点实验室开放基金
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相关领域:
电子电信
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合作作者
范建兴
中国科学院光电技术研究所
陈芬
中国科学院光电技术研究所
张锦
中国科学院光电技术研究所
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作者
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张锦
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陈芬
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冯伯编
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范建兴
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微细加工技术
年份
1篇
1998
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微光刻中的驻波效应研究
1998年
本文阐述了驻波效应的成因及其对微细图形光刻,特别是对深亚微米和亚半微米光刻的影响;分析了驻波强度分布;根据抗蚀剂的物理和化学机制,建立了抗蚀剂显影过程的数学和物理模型,并开展了计算机模拟和光刻曝光实验;研究了减小驻波效应的方法;给出了部分模拟和实验结果。
冯伯编
张锦
范建兴
陈芬
关键词:
光刻技术
集成电路
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