卢维强
- 作品数：34 被引量：69H指数：6
- 供职机构：北京理工大学光电学院更多>>
- 发文基金：国家部委预研基金北京市自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学电子电信一般工业技术机械工程更多>>
- 厚膜电致发光显示器件
- 为了适应军用装备平板显示器的需要,厚膜电致发光显示器(TDEL)被研制和发展,整个器件结构为陶瓷基板/内电极/厚膜绝缘层/发光层/薄膜绝缘层/ITO透明电极.本文给出了亮度与频率、亮度与电压的关系,并对器件的击穿和老化特...
- 喻志农薛唯蒋玉蓉卢维强
- 关键词：陶瓷厚膜绝缘层电致发光平板显示器
- 文献传递
- 薄膜绝缘层对陶瓷厚膜电致发光显示器件的影响被引量：1
- 2005年
- 采用丝网印刷技术,在Al_2O_3陶瓷板上印刷、高温烧结内电极及绝缘层制备出陶瓷厚膜基板,进而制备了新型厚膜电致发光显示器(TDEL),整个器件结构为陶瓷基板/内电极/厚膜绝缘层/发光层/薄膜绝缘层/ITO透明电极。对用不同薄膜绝缘材料制备的显示器件的特性进行测试、比较、分析,结果表明薄膜绝缘介质层对器件的阈值电压、发光亮度均有一定的影响,以复合绝缘层的性能最优。最后对器件的衰减特性进行了初步分析。
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- 关键词：陶瓷厚膜丝网印刷技术
- 全介质宽波段消偏振分光镜被引量：2
- 1991年
- 应用受抑全反射原理提出了一种全介质宽波段消偏振分光镜的设计方法,推导了获得消偏振的条件和获取各种分光比消偏振分光镜的设计结论,实验证实了理论的正确性。
- 林永昌江绍基卢维强
- 关键词：分光镜全介质偏振效应
- ZnS:Mn沉积温度对薄膜电致发光器件亮度的影响被引量：1
- 2006年
- 采用丝网印刷技术,在Al2O3陶瓷基板上印刷、高温烧结内电极及绝缘层,制备出陶瓷厚膜基板,进而制备了新型厚膜电致发光显示器(TDEL)。整个器件结构为陶瓷基板/内电极/厚膜绝缘层/发光层/薄膜绝缘层/ITO透明电极。研究不同基板沉积温度对发光层性能的影响,并对器件的亮度-电压、亮度-频率进行测量。结果显示较高的ZnS:Mn沉积温度明显提高了无机发光器件的发光亮度。其原因主要是由于高的沉积温度提高了ZnS:Mn的成膜质量,提高膜层微晶尺寸大小,从而发光亮度提高。但是我们发现温度继续提高的同时,器件发光亮度趋于饱和,分析原因是由于掺杂Mn浓度过高,影响了发光效果。
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- 关键词：ZNS:MNTDEL电致发光
- 新型立体摄影的光学记录头
- 一种新型立体摄影光学记录头，可使成像产生立体效果，由镜框、分色镜及全反射镜组成，分色镜及全反射镜分别组装在镜框的中部和右部，全反射镜可靠调节旋转调节俯仰和倾斜两个自由度，观者只要带上既定的双色滤光镜就可欣赏拍摄形成的立体...
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- 文献传递
- Filmaster-S膜系设计软件在建筑镀膜玻璃上的应用
- Filmaster-S膜系设计软件是国内第一个研发的具有自主知识产权的适用于建筑镀膜玻璃行业的软件。本文介绍了软件的功能，以及在阳光控制膜和Low-E膜设计时初始结构的建立、统计数据、允差分析、优化等方面的应用。该软件通...
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- 关键词：建筑玻璃光学特性镀膜玻璃镀膜工艺
- 文献传递
- 一种基于哈特曼传感器的薄膜应力测量装置
- 本发明涉及一种基于哈特曼传感器的薄膜应力测量装置，属于物理领域里的光学分领域。该装置包括自准直成像系统和哈特曼传感器；自准直成像系统由分光棱镜、物镜、中继透镜构成。分光棱镜为消偏振分光直角棱镜，棱镜的；物镜和中继透镜均为...
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- 文献传递
- 基片材料与沉积参数对薄膜应力的影响被引量：13
- 2010年
- 采用哈特曼-夏克传感器的薄膜应力在线测量仪测量了利用离子辅助电子束蒸发的Si O2,Ti O2,Ta2O5,Al2O3与ITO薄膜在不同厚度时的应力值,并深入研究了基片材料与沉积参数对Si O2,Ti O2薄膜应力的影响。研究结果表明,在成膜的初始阶段,薄膜应力与薄膜厚度基本上呈线性函数,当达到一定厚度时薄膜应力基本趋于一个定值;薄膜与基片的热失配将引起薄膜热应力,通过选择合适的基片材料可以使其降低;对Ti O2薄膜而言,当基片温度低于150℃时,热应力起主要作用,当基片温度高于150℃时,薄膜致密引起的压应力占主导地位,但Si O2薄膜其热应力始终占主导地位;当真空室压强低于1.7×10-2Pa时,Si O2薄膜的张应力主要是由离子辅助溅射效应而引起,当真空室压强高于1.7×10-2Pa时,Si O2薄膜的张应力随着压强的增大而增大,但折射率减小。
- 李玉琼喻志农王华清卢维强薛唯丁瞾
- 关键词：薄膜光学薄膜应力离子辅助沉积
- 基于哈特曼原理的薄膜应力在线测量系统被引量：1
- 2009年
- 介绍了一种基于哈特曼传感器的薄膜应力在线检测系统。哈特曼透镜阵列将待测量表面划分成若干小区域,通过测量每个小区域成像光斑的相对位置变化来获得整个测量表面的变形量,将测得的变形量代入到薄膜应力与基板表面变形的关系式中,求得薄膜应力。通过对影响光斑质心探测精度的各种因素进行分析,提出使用加阈值的一阶矩法,精确计算光斑质心,结合高灵敏度的CMOS探测器,使系统的面形测量精度达到15.7nm,应力测量灵敏度优于3.3MPa,实现了薄膜应力测量的高灵敏度与在线测量的统一。最后通过对TiO2,SiO2单层膜的在线测量,验证了系统的灵敏度与稳定性,能够完全满足薄膜应力分析的需要。
- 王华清薛唯卢维强李夏张楠
- 关键词：薄膜应力哈特曼传感器
- 基于宽光谱监控的光学薄膜自动控制技术被引量：12
- 2004年
- 单波长监控很难精确控制宽波段上的光学特性 若采用宽光谱扫描可以在很宽的波长范围内监控薄膜特性 ,则控制既直观又准确 虽然宽光谱监控的思想很早就提出了 ,但这项技术的实用性一直不高 开发了一套宽光谱监控系统 ,使用线阵CCD配合计算机 ,可以实现光谱快速扫描 通过采用一些特殊的方法 ,系统可以达到较高的精度 配合改进的光学薄膜监控软件 。
- 张诚卢维强王涌天
- 关键词：自动控制膜厚监控在线监控光学薄膜
