许宁
- 作品数：3 被引量：6H指数：2
- 供职机构：西北工业大学材料学院更多>>
- 发文基金：中国航空科学基金更多>>
- 相关领域：一般工业技术电子电信更多>>
- 射频磁控溅射法制备氧化镱薄膜被引量：4
- 2007年
- 利用射频磁控溅射法,以高纯氧化镱(Yb_2O_3)为靶材,成功地制备出了Yb_2O_3薄膜,并对薄膜的沉积速率、成分、结构和光学性能进行了研究。结果表明,制备的薄膜中Yb和O元素结合形成了Yb_2O_3化合物;薄膜为具有立方结构的多晶体;在波长0.8μm以上薄膜的折射率约为1.66,吸收很小。
- 许宁刘正堂刘文婷沈雅明
- 关键词：射频磁控溅射氧化镱
- HfO2薄膜的制备与光学性能
- 采用射频磁控反应溅射法,以高纯热压 HfO 陶瓷为靶材,在 Si 衬底上成功制备出 HfO薄膜．系统研究了工艺参数对薄膜沉积速率的影响规律,并对薄膜的光学性能进行了研究．结果表明,射频功率对薄膜沉积速率的影响最为明显,O...
- 刘文婷刘正堂许宁鹿芹芹闫锋
- 关键词：磁控反应溅射HFO2薄膜沉积速率光学性能
- 文献传递
- HfO2薄膜的制备与光学性能被引量：2
- 2007年
- 采用射频磁控反应溅射法，以高纯热压HfO2陶瓷为靶材，在Si衬底上成功制备出HfO2薄膜。系统研究了工艺参数对薄膜沉积速率的影响规律，并对薄膜的光学性能进行了研究。结果表明，射频功率对薄膜沉积速率的影响最为明显，O2／Ar流量比和衬底温度对沉积速率的作用不明显，所制备薄膜的折射率较高在近红外波段趋于1．95，在500-1650nm波段范围内薄膜几乎无吸收，透过率较高。
- 刘文婷刘正堂许宁鹿芹芹闫锋
- 关键词：磁控反应溅射HFO2薄膜沉积速率光学性能
