陈本敬
- 作品数：14 被引量：20H指数：4
- 供职机构：湖南大学材料科学与工程学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学电子电信化学工程一般工业技术更多>>
- 金刚石薄膜的应用被引量：7
- 1995年
- 简要介绍了金刚石薄膜的发展史,着重叙述了金刚石膜在机械、光学、声学和半导体方面的一些应用,指出了金刚石膜在今后的研究和商品化过程中所要遇到的一些问题。
- 苏堤陈本敬
- 关键词：金刚石薄膜
- CVD金刚石厚膜晶格缺陷分析
- 应用X射线衍射仪的薄膜附件对热丝化学气相沉积金刚石厚膜的成核面和生长面进行分析,结果表明,金刚石厚膜的晶格常数从生长面到形核面沿深度方向是逐渐变小的.化学气相沉积金刚石初期生长的晶体存在大量的空位等缺陷,晶格松弛,在金刚...
- 孙心瑗周灵平林良武李得意李绍禄陈本敬
- 关键词：CVD金刚石膜X射线衍射耐磨性能
- 文献传递
- 热丝CVD法高速生长金刚石膜研究被引量：4
- 1996年
- 使用热丝ＣＶＤ法研究了碳源种类、氧气含量、灯丝温度、基底与灯丝间距离及异常辉光放电等对金刚石膜生长速度的影响，在此研究的基础上，优化工艺参数，使热丝ＣＶＤ法生长金刚石膜的速度提高到２０μｍ／ｈ。
- 赵立华杨巧勤李绍禄苏玉长陈本敬杜海清
- 关键词：化学气相沉积金刚石膜
- 金刚石薄膜CVD生长及物性测试
- 苏堤陈本敬
- 关键词：薄膜生长物理性能成核
- 金刚石薄膜研究的进展
- 1992年
- 一、概况金刚石墨膜可以充分发挥金刚石优异的性能,可广泛应用于力学、热学、电子学、光学等多项尖端技术领域,如刀具、集成电路和激光的散热片,红外窗口、高温半导体等,是一种很有发展前途的新型的功能材料。由于在许多不同材料上可以以气相沉积金刚石薄膜,这种涂覆技术的进展更激起了大家的兴趣,具有各种形态和不同物理性质的金刚石薄膜已经获得成功,在某些情况下。
- 陈本敬苏玉长李绍禄杨巧勤王秀琼
- 关键词：金刚石
- CVD人造金刚石薄膜生长机理探讨被引量：6
- 1993年
- 本文依据实验数据,提出了 CVD 金刚石薄膜生长机理方面的几点看法。认为甲烷的充分离解不利于金刚石生长,生长金刚石的活性物质主要是活性络合物(H…H…CH_3)~*。
- 苏堤陈本敬王秀琼苏玉长杨巧勤
- 关键词：金刚石薄膜活性基团络合物CVD
- 热解法生长金刚石薄膜的形貌分析被引量：2
- 1990年
- 本文利用扫描电镜对热解化学汽相沉积法生长的金刚石薄膜组织进行了观察分析,看到了九种不同形貌的金刚石薄膜组织,讨论了这些组织的特点。
- 陈本敬王秀琼杨巧勤苏玉长
- 关键词：热解法化学气相沉积金刚石
- CVD金刚石厚膜晶格缺陷分析
- 应用X射线衍射仪的薄膜附件对热丝化学气相沉积金刚石厚膜的成核面和生长面进行分析,结果表明,金刚石厚膜的晶格常数从生长面到形核面沿深度方向是逐渐变小的.化学气相沉积金刚石初期生长的晶体存在大量的空位等缺陷,晶格松弛,在金刚...
- 孙心瑗周灵平林良武李得意李绍禄陈本敬
- 关键词：CVD金刚石膜X射线衍射耐磨性能
- 文献传递
- CVD金刚石薄膜热稳定性分析
- 1993年
- 应用 TG-DTA 热分析仪,对不同结构致密程度和结晶完好程度的热丝 CVD 金刚石薄膜样品进行热稳定性分析,并讨论了影响金刚石薄膜抗氧化能力的因素。
- 苏堤陈本敬王秀琼
- 关键词：金刚石薄膜热重分析
- CVD金刚石厚膜晶格缺陷分析
- 2004年
- 应用X射线衍射仪的薄膜附件对热丝化学气相沉积金刚石厚膜的成核面和生长面进行分析,结果表明,金刚石厚膜的晶格常数从生长面到形核面沿深度方向是逐渐变小的.化学气相沉积金刚石初期生长的晶体存在大量的空位等缺陷,晶格松弛,在金刚石膜持续生长过程中,形核面和膜内部在高温下发生长时间的自退火,缺陷浓度下降,晶格松弛现象消除,晶格常数变小并趋于理论值.试验表明,经长时间高温自退火的金刚石厚膜比薄膜具有更高的耐磨性.
- 孙心瑗周灵平林良武李得意李绍禄陈本敬
- 关键词：CVD金刚石膜X射线衍射耐磨性能
