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马坤华
作品数:
11
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供职机构:
电子科技大学
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相关领域:
电子电信
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合作作者
尹江龙
电子科技大学
赵子奇
电子科技大学
于奇
电子科技大学
张新川
电子科技大学
杜江锋
电子科技大学
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四川省电子学...
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1篇
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2012
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背势垒缓冲层AlGaN/GaNHEMT耐压机理和新结构
GaN材料具有禁带宽度宽、击穿电场大以及电子饱和速度高等优良的物理特性,并且在AlGaN/GaN异质结界面处会形成高浓度、高电子迁移率的2DEG。这就使得GaN材料非常适合于功率电子器件方面的应用。但是GaN电子器件中背...
马坤华
关键词:
GAN材料
泄漏电流
一种具有纵向复合缓冲层的氮化镓基高电子迁移率晶体管
本发明公开了一种晶体管,属于半导体器件领域,尤其是一种具有纵向复合缓冲层的氮化镓基高电子迁移率晶体管。该晶体管包括衬底、氮化铝成核层、氮化镓沟道层、氮化铝插入层、铝镓氮势垒层、p型掺杂氮化镓、源极、漏极以及和p型掺杂氮化...
杜江锋
尹江龙
马坤华
张新川
赵子奇
于奇
文献传递
具有pn结复合缓冲层的大功率AlGaN/GaN HEMTs器件研究
对具有pn结复合缓冲层的AlGaN/GaN HEMT器件进行了仿真研究.首先,对pn结复合缓冲层减小泄漏电流的原理进行了说明.其次,对Lgd=6μm的AlGaN/GaN HEMT器件的特性进行了分析,包括输出特性、转移特...
尹江龙
杜江锋
马坤华
张新川
赵子奇
于奇
关键词:
高电子迁移率晶体管
击穿电压
文献传递
一种具有背电极结构的氮化镓基异质结场效应晶体管
本发明公开了一种具有背电极结构的氮化镓基异质结场效应晶体管, 从下至上依次主要由衬底,氮化铝成核层,P型铝铟镓氮缓冲层,氮化镓沟道层,氮化铝插入层及铝铟镓氮势垒层组成,在势垒层上形成有源极、漏极和栅极,源极及漏极与势垒层...
杜江峰
赵子奇
尹江龙
张新川
马坤华
罗谦
于奇
一种具有横向p-n结复合缓冲层结构的氮化镓基异质结场效应晶体管
本发明公开了一种具有横向p-n结复合缓冲层结构的氮化镓基异质结场效应晶体管,属于半导体器件领域。其结构从下到上主要包括有衬底,氮化铝(AlN)成核层,氮化镓(GaN)沟道层,氮化铝(AlN)插入层,势垒层以及势垒层上形成...
杜江锋
赵子奇
马坤华
尹江龙
张新川
罗谦
于奇
文献传递
一种具有复合缓冲层的氮化镓基高电子迁移率晶体管
一种具有复合缓冲层的氮化镓基高电子迁移率晶体管,属于半导体器件领域。该晶体管包含衬底(108),氮化铝成核层(107),氮化镓沟道层(201),氮化铝插入层(105),铝镓氮势垒层(104)以及势垒层上形成的源极(101...
杜江锋
赵子奇
马坤华
尹江龙
于奇
文献传递
一种具有纵向复合缓冲层的氮化镓基高电子迁移率晶体管
本发明公开了一种晶体管,属于半导体器件领域,尤其是一种具有纵向复合缓冲层的氮化镓基高电子迁移率晶体管。该晶体管包括衬底、氮化铝成核层、氮化镓沟道层、氮化铝插入层、铝镓氮势垒层、p型掺杂氮化镓、源极、漏极以及和p型掺杂氮化...
杜江锋
尹江龙
马坤华
张新川
赵子奇
于奇
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一种具有横向p-n结复合缓冲层结构的氮化镓基异质结场效应晶体管
本发明公开了一种具有横向p-n结复合缓冲层结构的氮化镓基异质结场效应晶体管,属于半导体器件领域。其结构从下到上主要包括有衬底,氮化铝(AlN)成核层,氮化镓(GaN)沟道层,氮化铝(AlN)插入层,势垒层以及势垒层上形成...
杜江锋
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一种具有背电极结构的氮化镓基异质结场效应晶体管
本发明公开了一种具有背电极结构的氮化镓基异质结场效应晶体管, 从下至上依次主要由衬底,氮化铝成核层,P型铝铟镓氮缓冲层,氮化镓沟道层,氮化铝插入层及铝铟镓氮势垒层组成,在势垒层上形成有源极、漏极和栅极,源极及漏极与势垒层...
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一种具有复合缓冲层的氮化镓基高电子迁移率晶体管
一种具有复合缓冲层的氮化镓基高电子迁移率晶体管,属于半导体器件领域。该晶体管包含衬底(108),氮化铝成核层(107),氮化镓沟道层(201),氮化铝插入层(105),铝镓氮势垒层(104)以及势垒层上形成的源极(101...
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