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马坤华

作品数:11 被引量:0H指数:0
供职机构:电子科技大学更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 8篇专利
  • 2篇会议论文
  • 1篇学位论文

领域

  • 4篇电子电信

主题

  • 9篇晶体管
  • 8篇肖特基
  • 8篇肖特基接触
  • 7篇氮化镓
  • 7篇势垒
  • 5篇异质结
  • 5篇异质结场效应...
  • 5篇场效应
  • 5篇场效应晶体管
  • 4篇电子迁移率
  • 4篇欧姆接触
  • 4篇迁移率
  • 4篇铝镓氮
  • 4篇高电子迁移率
  • 4篇高电子迁移率...
  • 2篇载流子
  • 2篇载流子输运
  • 2篇势垒层
  • 2篇铟镓氮
  • 2篇泄漏电流

机构

  • 11篇电子科技大学

作者

  • 11篇马坤华
  • 10篇赵子奇
  • 10篇尹江龙
  • 9篇于奇
  • 8篇杜江锋
  • 8篇张新川
  • 4篇罗谦
  • 2篇杜江峰

传媒

  • 2篇四川省电子学...

年份

  • 2篇2016
  • 3篇2014
  • 1篇2013
  • 5篇2012
11 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
背势垒缓冲层AlGaN/GaNHEMT耐压机理和新结构
GaN材料具有禁带宽度宽、击穿电场大以及电子饱和速度高等优良的物理特性,并且在AlGaN/GaN异质结界面处会形成高浓度、高电子迁移率的2DEG。这就使得GaN材料非常适合于功率电子器件方面的应用。但是GaN电子器件中背...
马坤华
关键词:GAN材料泄漏电流
一种具有纵向复合缓冲层的氮化镓基高电子迁移率晶体管
本发明公开了一种晶体管,属于半导体器件领域,尤其是一种具有纵向复合缓冲层的氮化镓基高电子迁移率晶体管。该晶体管包括衬底、氮化铝成核层、氮化镓沟道层、氮化铝插入层、铝镓氮势垒层、p型掺杂氮化镓、源极、漏极以及和p型掺杂氮化...
杜江锋尹江龙马坤华张新川赵子奇于奇
文献传递
具有pn结复合缓冲层的大功率AlGaN/GaN HEMTs器件研究
对具有pn结复合缓冲层的AlGaN/GaN HEMT器件进行了仿真研究.首先,对pn结复合缓冲层减小泄漏电流的原理进行了说明.其次,对Lgd=6μm的AlGaN/GaN HEMT器件的特性进行了分析,包括输出特性、转移特...
尹江龙杜江锋马坤华张新川赵子奇于奇
关键词:高电子迁移率晶体管击穿电压
文献传递
一种具有背电极结构的氮化镓基异质结场效应晶体管
本发明公开了一种具有背电极结构的氮化镓基异质结场效应晶体管, 从下至上依次主要由衬底,氮化铝成核层,P型铝铟镓氮缓冲层,氮化镓沟道层,氮化铝插入层及铝铟镓氮势垒层组成,在势垒层上形成有源极、漏极和栅极,源极及漏极与势垒层...
杜江峰赵子奇尹江龙张新川马坤华罗谦于奇
一种具有横向p-n结复合缓冲层结构的氮化镓基异质结场效应晶体管
本发明公开了一种具有横向p-n结复合缓冲层结构的氮化镓基异质结场效应晶体管,属于半导体器件领域。其结构从下到上主要包括有衬底,氮化铝(AlN)成核层,氮化镓(GaN)沟道层,氮化铝(AlN)插入层,势垒层以及势垒层上形成...
杜江锋赵子奇马坤华尹江龙张新川罗谦于奇
文献传递
一种具有复合缓冲层的氮化镓基高电子迁移率晶体管
一种具有复合缓冲层的氮化镓基高电子迁移率晶体管,属于半导体器件领域。该晶体管包含衬底(108),氮化铝成核层(107),氮化镓沟道层(201),氮化铝插入层(105),铝镓氮势垒层(104)以及势垒层上形成的源极(101...
杜江锋赵子奇马坤华尹江龙于奇
文献传递
一种具有纵向复合缓冲层的氮化镓基高电子迁移率晶体管
本发明公开了一种晶体管,属于半导体器件领域,尤其是一种具有纵向复合缓冲层的氮化镓基高电子迁移率晶体管。该晶体管包括衬底、氮化铝成核层、氮化镓沟道层、氮化铝插入层、铝镓氮势垒层、p型掺杂氮化镓、源极、漏极以及和p型掺杂氮化...
杜江锋尹江龙马坤华张新川赵子奇于奇
文献传递
一种具有横向p-n结复合缓冲层结构的氮化镓基异质结场效应晶体管
本发明公开了一种具有横向p-n结复合缓冲层结构的氮化镓基异质结场效应晶体管,属于半导体器件领域。其结构从下到上主要包括有衬底,氮化铝(AlN)成核层,氮化镓(GaN)沟道层,氮化铝(AlN)插入层,势垒层以及势垒层上形成...
杜江锋赵子奇马坤华尹江龙张新川罗谦于奇
文献传递
一种具有背电极结构的氮化镓基异质结场效应晶体管
本发明公开了一种具有背电极结构的氮化镓基异质结场效应晶体管, 从下至上依次主要由衬底,氮化铝成核层,P型铝铟镓氮缓冲层,氮化镓沟道层,氮化铝插入层及铝铟镓氮势垒层组成,在势垒层上形成有源极、漏极和栅极,源极及漏极与势垒层...
杜江峰赵子奇尹江龙张新川马坤华罗谦于奇
文献传递
一种具有复合缓冲层的氮化镓基高电子迁移率晶体管
一种具有复合缓冲层的氮化镓基高电子迁移率晶体管,属于半导体器件领域。该晶体管包含衬底(108),氮化铝成核层(107),氮化镓沟道层(201),氮化铝插入层(105),铝镓氮势垒层(104)以及势垒层上形成的源极(101...
杜江锋赵子奇马坤华尹江龙于奇
共2页<12>
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