马平
- 作品数：44 被引量：54H指数：4
- 供职机构：中国科学院光电技术研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：电子电信理学机械工程自动化与计算机技术更多>>
- 纳米光刻中莫尔对准模型与应用被引量：4
- 2008年
- 在纳米光刻中,采用周期相差不大的两光栅分别作为掩模和硅片上的对准标记。当对准光路通过这两个标记光栅时受到两次调制,发生双光栅衍射及衍射光的干涉等复杂现象,最后形成有规律、且呈一定周期分布的莫尔条纹。周期相对光栅周期被大幅度放大,条纹移动可表征两标记的相对位移,具有很高探测灵敏度,可用于纳米级高精度对准。从傅里叶光学角度分析推导了对准应用中,两频率接近的光栅重叠时莫尔条纹振幅空间近似分布规律。并设计了一组对准标记,能继续将灵敏度提高一倍。通过仿真分析,从大致上定量地验证条纹复振幅分布的近似数学模型以及光刻对准应用中的条纹对准过程。
- 周绍林陈旺富杨勇唐小萍胡松马平严伟张幼麟
- 关键词：纳米光刻
- 一种动镜轴向卸载装置
- 本发明公开了一种动镜轴向卸载装置，所述装置包括:卸载装置基座、外壳、卸载弹簧、柱状球头；卸载弹簧与柱状球头垂向安装在基座和外壳之间；其中，卸载弹簧上端与柱状球头底部连接，卸载弹簧下端与基座连接；柱状球头的顶端透过外壳上端...
- 陈磊赵立新马平胡松
- 文献传递
- 一种光刻机掩模刀口移动装置
- 一种光刻机掩模刀口移动装置，采用双层单元、两组独立组件结构，由结构相同的X向狭缝刀口移动装置和Y向狭缝刀口移动装置组成，X向狭缝刀口移动装置实现X方向左右独立平动，Y向狭缝刀口移动装置实现Y方向上下独立平动；X向狭缝刀口...
- 邢薇胡松赵立新罗正全马平徐文祥
- 纳米光刻对准方法及其原理被引量：1
- 2008年
- 对准技术对光刻分辨力的提高有着重要作用。45nm节点以下的光刻技术如纳米压印等,对相应的对准技术提出了更高的要求。对光刻技术发展以来主要用于接近接触式和纳米压印光刻的对准技术做总结分类,为高精度的纳米级光刻对准技术提供理论研究基础和方向。经过分析,从原理上将对准技术分为几何成像对准、波带片对准、干涉光强度对准、外差干涉对准及莫尔条纹等五种对准方法。最后结论得出基于条纹空间相位的对准方法具有最好的抗干扰能力且理论上能达到最高的对准精度,而其他基于光强的对准方法的精度更易受到工艺涂层的影响。因此,基于干涉条纹空间相位对准的方法在纳米级光刻对准中具有很好的理论前景。
- 周绍林唐小萍胡松马平陈旺富杨勇严伟
- 关键词：纳米光刻
- 一种步进扫描投影光刻机掩模台硅片台扫描运动同步误差校正系统
- 本发明公开了一种适用于步进扫描投影光刻机的掩模台硅片台扫描运动同步误差校正系统，包括运动轨迹规划模块、运动控制模块、运动执行模块、同步误差校正模块。本发明的优点是，采用轨迹规划模块对扫描曝光过程中硅片台及掩模台的加速度、...
- 李兰兰胡松赵立新马平刘旗李金龙钟玲娜
- 文献传递
- 一种光刻机的调平系统
- 本发明是一种光刻机的调平系统，该系统用于接近接触式光刻机中实现样片与掩模版的调平。该系统以掩模夹和掩模版为水平基准，利用升降驱动机构带动三点弹性支撑机构、球碗气浮机构、承片台及样片上升，与基准掩模版贴紧后，通过气动及控制...
- 马平胡松杨春利
- 文献传递
- 4500W超高压汞灯光源控制系统研究
- 2010年
- 简要介绍了用于超大面积光刻设备汞灯光源控制系统的总体控制方案,重点阐述了该控制系统信号放大电路、灯室温度采样放大电路及信号反馈控制方法。
- 马平胡志成胡松徐文祥
- 关键词：超高压汞灯信号放大温度采样
- 一种大行程高速双重驱动纳米定位系统
- 本发明公开了一种大行程高速双重驱动纳米定位系统，该纳米定位系统包括运动轨迹指令系统(101)、主控计算机(102)、PMAC运动控制板卡(103)、伺服运动控制系统(104)、定位平台和测量控制系统(107)，其中，定位...
- 刘旗马平胡松李兰兰盛壮朱江平
- 文献传递
- 双面深度光刻机控制系统设计
- 2003年
- 介绍了当今世界光刻技术的发展趋势,重点阐述了双面深度光刻机控制系统的功能、组成及各组成部分的软、硬件设计,最后简要总结了控制系统的特点。
- 马平唐小萍罗正全
- 关键词：光刻机控制系统步进电机电磁阀
- 一种控制和解析PI微动台的装置
- 本发明公开了一种控制和解析PI微动台的装置，该装置主要用于光刻机中纳米定位工件台子系统。上位机将网口数据作为PI微动台的控制输入，送往网口数据接收发送模块处理；该装置中的数据处理模块将网口数据中的ASCII Comman...
- 陈磊胡松马平严伟
- 文献传递
