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高鸿楷

作品数:45 被引量:85H指数:6
供职机构:中国科学院西安光学精密机械研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:电子电信理学电气工程机械工程更多>>

文献类型

  • 38篇期刊文章
  • 3篇科技成果
  • 2篇会议论文
  • 2篇专利

领域

  • 33篇电子电信
  • 12篇理学
  • 8篇电气工程
  • 2篇机械工程
  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 21篇砷化镓
  • 15篇光电阴极
  • 11篇透射
  • 11篇透射式
  • 11篇光电
  • 10篇透射式GAA...
  • 8篇MOCVD
  • 7篇电池
  • 7篇半导体
  • 6篇GAAS
  • 5篇射线衍射
  • 5篇太阳电池
  • 5篇镓铝砷
  • 5篇镓铝砷化合物
  • 5篇X射线衍射
  • 5篇GAAS/G...
  • 4篇光阴极
  • 4篇LP-MOC...
  • 3篇液相外延
  • 3篇外延层

机构

  • 43篇中国科学院
  • 2篇吉林大学
  • 2篇西北大学
  • 2篇中国科学院长...
  • 2篇中国科学院长...
  • 1篇西安电子科技...
  • 1篇中国科学院研...

作者

  • 45篇高鸿楷
  • 20篇侯洵
  • 13篇赛小锋
  • 11篇张景文
  • 11篇汪韬
  • 11篇何益民
  • 10篇李晓峰
  • 8篇李晓婷
  • 8篇张济康
  • 8篇李宝霞
  • 5篇朱李安
  • 5篇龚平
  • 4篇赵家龙
  • 4篇李辉
  • 4篇高瑛
  • 4篇王海滨
  • 3篇张冰阳
  • 3篇云峰
  • 3篇赛小峰
  • 2篇张书明

传媒

  • 27篇光子学报
  • 3篇Journa...
  • 2篇稀有金属
  • 1篇半导体技术
  • 1篇光学学报
  • 1篇红外与毫米波...
  • 1篇分析测试学报
  • 1篇光电子技术
  • 1篇高速摄影与光...
  • 1篇中国有色金属...

年份

  • 1篇2010
  • 1篇2009
  • 2篇2005
  • 6篇2003
  • 12篇2002
  • 3篇2001
  • 1篇1998
  • 2篇1997
  • 4篇1996
  • 3篇1995
  • 1篇1994
  • 3篇1993
  • 4篇1992
  • 1篇1990
  • 1篇1989
45 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
金属有机化学气相沉积GaAs/Si外延层中的深能级发光对温度的依赖关系
1995年
本文测量了用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)方法在Si衬底上生长的GaAs外延层中的深能级发光光谱对温度的依赖关系,系统地研究了1.13和1.04eV发光带的发光强度,峰值位置和半宽度随着温度的变化关系,获得了它们的热激活能,Huang-Rhys因子,振动声子能量和Frank-Condon位移,并讨论其来源.
赵家龙高瑛刘学彦苏锡安梁家昌高鸿楷龚平王海滨
关键词:砷化镓外延层MOCVD温度
高效太阳能电池研究
高鸿楷赛小锋何益民李宝霞李辉
InGaP/GaAs/Ge级联电池保留了其它电池的全部优点,具有转换效率高,功率/面积比大,耐辐照,重量轻,机械强度好等优点,是一种在太空中使用的比较理想的太阳电池。该项目研制的级联电池将吸收不同波段的光的单结电池通过底...
关键词:
关键词:太阳能电池
MOCVD法透射式GaAs光阴极材料生长及性能研究被引量:1
1993年
应用常压 MOCVD 装置制备了透射式 GaAs 光电阴极材料。p 型 GaAs 发射层掺杂浓度为10(?)~10^(19)cm^(-3),少子扩散长度为4.02μm。Al_xGa_(1-x)As 层的铝组份含量达0.83光谱吸收波长范围与设计值基本符合。用此方法生成的材料进行了阴极激活实验,制成了透射式 GaAs 光电阴极。
高鸿楷张济康云峰
关键词:砷化镓光电阴极MOCVD
GaAs/Ge的MOCVD生长研究被引量:5
1996年
用常压MOCVD在Ge衬底上外延生长了GaAs单晶层,研究了GaAs和6e的极性与非极性材料异质外延生长,获得了质量优良的GaAs/Ge外延片,GaAs外延层X射线双晶衍射回摆曲线半高宽达16弧秒。10K下PL谱半峰宽为7meV.讨论了极性与非极性外延的界面反相畴问题和GaAs-Ge界面的Ga、Ge原子互扩散问题。
高鸿楷赵星何益民杨青朱李安
关键词:MOCVD砷化镓
NEA GaAs光电阴极激活工艺研究
1996年
本文报道了 GaAs 反射式光电阴极的激活工艺过程和结果.通过实验确定了 GaAs表面的热清洁温度,利用钼丝热辐射加热方法达到了比较理想的清洁效果,采用铯分子源和高纯氧作氧源获得了高于1000μA/1m 的激活积分灵敏度.
张书明孙长印朱李安赛小峰程昭何益民高鸿楷侯洵
关键词:光电阴极砷化镓
高分辨率多晶多反射X射线衍射仪在半导体材料分析中的应用被引量:1
1997年
用高分辨率多晶多反射X射线衍射仪进行衍射空间的二维扫描是目前非损伤性表征半导体材料质量的手段之一.不同质量的材料在二维衍射空间中的衍射图形状不同.本文以GaAS/AlGaAs为例,展示了如何利用X射线的二维衍射空间图的形状来定性地分析半导体单晶样品的宏观弯曲、微观倾斜、组分梯度、应变、弛豫以及平行于界面的连续性等问题.所得结果同样适用于其它半导体材料.
朱李安高鸿楷何益民贺丽赛小锋侯洵
关键词:X射线衍射仪倒易空间半导体晶体
负电子亲合势GaAs光电阴极稳定性的研究
1998年
本文采用在超高真空系统中引入少量Ar气及在激活到最高灵敏度时维持一定Cs蒸气压的方法,改进了激活系统的环境气氛,使阴极在台内的寿命得到极大地延长,为封管提供了足够的时间文中还探讨了影响阴极稳定性的重要因素。
米侃张景文赛小峰何益民高鸿楷侯洵
关键词:光电阴极稳定性砷化镓
一种新型砷化镓抛光工艺的研究
1989年
在半导体制造工艺中,首先要获得一个平滑、光亮、无损伤层的表面.半导体晶片的抛光,国际上主要采用化学机械混合同时抛光.该种方法抛光的晶片,表面平整度、光洁度好,机械损伤小.据报道,目前用于砷化镓材料的抛光液配方已有一些,但都不理想.例:2Br-98CH_3OH抛光液,该抛光液存在抛光质量不稳定,有老化现象,毒性大;
刘苏平张国琦高鸿楷张济康
关键词:砷化镓抛光晶片
全文增补中
透射式GaAs光电阴极AlGaAs窗层Al组份的X射线衍射分析被引量:1
2002年
研究了 Al Ga As窗层中 Al组份的 X射线衍射分析原理和计算方法 。
李晓峰张景文高鸿楷侯洵
关键词:GAASALGAAS光电阴极镓铝砷化合物
透射式GaAs光电阴极AlGaAs/GaAs外延层X射线衍射摇摆曲线研究
2002年
利用透射式 Ga As光电阴极 Al Ga As/ Ga As外延层的结构特点及其 X射线衍射摇摆曲线分析方法 ,解释了 Al Ga As/ Ga
李晓峰张景文高鸿楷侯洵
关键词:ALGAASX射线衍射光电阴极镓铝砷化合物摇摆曲线
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