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吴臣国

作品数:5 被引量:26H指数:3
供职机构:复旦大学更多>>
发文基金:上海市教育委员会重点学科基金国家自然科学基金“上海-应用材料研究与发展”基金更多>>
相关领域:理学电子电信轻工技术与工程更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇专利

领域

  • 3篇理学
  • 2篇电子电信
  • 1篇轻工技术与工...

主题

  • 3篇导电薄膜
  • 3篇透明导电
  • 3篇透明导电薄膜
  • 2篇等离子体
  • 2篇亚胺
  • 2篇氧化锌
  • 2篇酰亚胺
  • 2篇聚酰亚胺
  • 2篇溅射
  • 2篇
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇氧化物薄膜
  • 1篇直流反应磁控...
  • 1篇时域光谱
  • 1篇水性
  • 1篇太赫兹
  • 1篇太赫兹时域
  • 1篇太赫兹时域光...
  • 1篇透明导电氧化...

机构

  • 5篇复旦大学
  • 1篇上海大学

作者

  • 5篇吴臣国
  • 4篇沈杰
  • 3篇王三坡
  • 2篇吴佩璇
  • 2篇马进
  • 1篇李栋
  • 1篇杨锡良
  • 1篇章壮健
  • 1篇马国宏

传媒

  • 2篇真空科学与技...
  • 1篇物理学报

年份

  • 2篇2010
  • 3篇2009
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
掺钼ZnO透明导电薄膜的太赫兹电磁波传输性质被引量:4
2009年
采用直流磁控反应溅射方法,通过调节氧分压在玻璃基底上制备了不同载流子浓度的掺Mo的ZnO(ZMO)透明导电薄膜.应用太赫兹电磁波时域光谱技术研究了ZMO导电膜的太赫兹电磁波透射性质及介电响应,得到了与频率相关的电导率、能量吸收和薄膜折射率,实验结果与经典Drude模型相符很好.ZMO导电膜的太赫兹电磁波脉冲透射性质表明,通过调节ZMO薄膜的载流子浓度,该导电膜可作为应用于衬底和光学器件等太赫兹电磁波频率范围的宽带抗反射涂层.
吴臣国沈杰李栋马国宏
关键词:透明导电薄膜
一种聚酰亚胺表面等离子体轰击效果的检测方法
本发明属于挠性印制电路板技术领域,具体涉及一种聚酰亚胺表面等离子体轰击效果的检测方法。具体以等离子体放电,轰击基板架上经过洗涤剂、去离子水、分析纯酒精清洁的聚酰亚胺膜,然后用接触角测量仪测量聚酰亚胺膜上水滴的接触角并取其...
沈杰马进吴臣国王三坡吴佩璇
文献传递
掺钼氧化锌透明导电薄膜光学性质研究被引量:12
2010年
采用直流磁控反应溅射制备了掺钼氧化锌透明导电薄膜。研究了掺钼氧化锌薄膜的结构、表面形貌及其光学和电学性能。原子力显微镜扫描显示薄膜表面较为平整致密。制备出的掺钼氧化锌薄膜最低电阻率为9.4×10-4Ω.cm,相应载流子迁移率为27.3cm2V-1s-1,载流子浓度为3.1×1020cm-3。在可见光区域的平均透射率大于85%,折射率(550nm)为1.853,消光系数为7.0×10-3。通过调节氧分压可以调节薄膜载流子浓度,禁带宽度随载流子浓度的增加由3.37增大到3.8eV,薄膜的载流子有效质量m*为0.33倍的电子质量。
吴臣国沈杰王三坡章壮健杨锡良
关键词:透明导电薄膜磁控溅射光学性质
等离子体轰击致聚酰亚胺表面亲水性研究被引量:10
2009年
等离子体轰击聚酰亚胺表面会提高挠性印制电路板中溅射铜膜与聚酰亚胺基板的附着力,同时聚酰亚胺表面亲水性随之改变。本文通过改变轰击等离子体种类、轰击电流、轰击时间和轰击气压等条件,研究这些工艺参数与聚酰亚胺表面亲水性的相互关系。在等离子体轰击处理后的聚酰亚胺上磁控溅射镀铜并电镀加厚,利用剥离强度测试仪测量铜膜与聚酰亚胺基板的附着力,并分析亲水性与附着力之间的关系。研究发现,等离子体轰击可以增强聚酰亚胺的亲水性及聚酰亚胺基板与铜膜的附着力,且亲水性越好的样品,溅射镀铜后铜膜与基板的附着力也越好,并得到了等离子体轰击参数与亲水性的关系;研究表明可以把测量亲水性作为聚酰亚胺表面等离子体轰击效果的一种评价方法。
马进吴臣国吴佩璇王三坡沈杰
关键词:等离子体表面改性聚酰亚胺亲水性
新型ZnO基透明导电氧化物薄膜的研究
本文采用直流磁控反应溅射金属镶嵌靶Zn/Mo和Zn/W制备了高价态差掺钼氧化锌(ZnO:Mo,ZMO)和掺钨氧化锌(ZnO:W,ZWO)透明导电薄膜,研究了掺杂浓度、氧分压、溅射电流、基板温度等制备参数对ZMO和ZWO的...
吴臣国
关键词:透明导电薄膜直流反应磁控溅射太赫兹时域光谱
文献传递
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