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杨海峰

作品数:2 被引量:5H指数:2
供职机构:中国检验检疫科学研究院更多>>
发文基金:中国科学院知识创新工程重要方向项目国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:电气工程更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电气工程

主题

  • 2篇电池
  • 1篇电极
  • 1篇多晶
  • 1篇多晶硅
  • 1篇多晶硅太阳能...
  • 1篇选择性刻蚀
  • 1篇太阳电池
  • 1篇太阳能电池
  • 1篇金属
  • 1篇金属电极
  • 1篇晶体硅
  • 1篇晶体硅太阳电...
  • 1篇刻蚀
  • 1篇硅太阳电池
  • 1篇硅太阳能电池
  • 1篇反射谱
  • 1篇SINX
  • 1篇SIO
  • 1篇H

机构

  • 2篇中国科学院
  • 2篇中国检验检疫...
  • 1篇北京太阳能研...

作者

  • 2篇王文静
  • 2篇李涛
  • 2篇刘振刚
  • 2篇周春兰
  • 2篇杨海峰
  • 1篇励旭东
  • 1篇许颖
  • 1篇赵雷

传媒

  • 1篇物理学报
  • 1篇化学学报

年份

  • 2篇2011
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
SiO_2/SiNx:H选择性刻蚀改善光诱导化学镀/电镀多晶硅太阳能电池过镀现象被引量:2
2011年
自对准的光诱导化学镀/电镀技术以其栅线宽度小、工艺快捷高效等优点,成为制备选择性发射极太阳能电池的理想选择.然而,该技术的前序需要HF溶液有效去除重掺杂区表面SiO2的同时,避免在SiNx:H掩模上刻蚀出微孔而露出衬底的硅,否则金属镍和银会在光诱导化学镀/电镀工艺中沉积在微孔中,导致过镀现象.这就要求预处理溶液对SiO2/SiNx:H有很高的选择性刻蚀.本工作根据实验结果分析了产生过镀现象的原因,研究了进行SiO2/SiNx:H选择性刻蚀的可行性.依据HF刻蚀SiO2和SiNx:H的机理,通过调节HF缓释溶液的pH值,改善了多晶硅太阳能电池的过镀现象.
李涛周春兰宋洋张磊惠俊杨海峰郜志华段野李友忠励旭东许颖赵雷刘振刚王文静
关键词:选择性刻蚀多晶硅太阳能电池
晶体硅太阳电池金属电极光学损失的理论分析与实验研究被引量:3
2011年
本文基于丝网印刷和丝网印刷后光诱导电镀太阳电池,分析了太阳电池前表面金属电极引起的光学损失的各种情况.考虑到空气-玻璃界面和金属电极两侧边缘区域的反射,通过将金属电极截面近似为半椭圆形模拟了电极的光学损失,计算得到的有效宽度比约为金属电极几何宽度的40%.通过对不同类型样品反射谱的测量计算,同时在理论模拟和实验测量上得到了太阳电池前表面金属电极的光学损失,相应的理论与实验结果相符合.
李涛周春兰宋洋杨海峰郜志华段野李友忠刘振刚王文静
关键词:反射谱
共1页<1>
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