楚信谱
- 作品数：6 被引量：14H指数：2
- 供职机构：大连理工大学材料科学与工程学院三束材料改性教育部重点实验室更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术更多>>
- 射频辉光放电自偏压对类金刚石碳膜结构和性能的影响被引量：2
- 2006年
- 采用高压探头示波器系统研究了射频辉光放电参数对自偏压的影响规律.结果发现自偏压随着射频功率平方根而线性增加,随纯Ar和Ar,C2H2混合气体气压的降低而降低,自偏压随C2H2的比率增大而增加,而且,射频输入功率在500和700 W下,由射频辉光放电所制备的类金刚石薄膜分别通过Raman光谱和纳米压痕技术测试,研究了这些薄膜的微观结构和机械性能.功率500 W制备的类金刚石薄膜(ID/IG为0.66)较700W制备的类金刚石薄膜(ID/IG为1.44)具有较高的硬度和sp3键含量,表明在500 W功率下制备的类金刚石薄膜中有高含量的sp3键.
- 楚信谱苟伟李国卿柳翠
- 关键词：射频放电类金刚石碳膜RAMAN光谱
- 等离子体增强化学气相沉积DLC膜的研究
- 本文首先使用射频等离子体增强化学气相沉积/(RF-PECVD/)法制备了含氢碳膜，Raman光谱研究表明，当射频功率从500W上升到700W时，I/_D／I/_G从0.66增加到1.14，sp~2团簇尺寸变大；纳米压痕分...
- 楚信谱
- 关键词：PECVD类金刚石碳膜RAMAN光谱等离子体
- 文献传递
- 脉冲辉光PECVD制备DLC薄膜的结构和性能研究
- 类金刚石薄膜以其优异的性能,诸如高电阻率、高硬度、低摩擦系数、良好的光学特性等,显示出良好的应用前景越来越受到人们的关注。本文利用脉冲辉光 PECVD 在不同的气体比例和不同的脉冲偏压下均成功的制备了 DLC 薄膜。采用
- 楚信谱苟伟李剑锋张礼平李国卿
- 脉冲辉光PECVD制备DLC薄膜的结构和性能研究被引量：7
- 2008年
- 类金刚石碳膜以其优异的性能,诸如高电阻率、高硬度、低摩擦系数、良好的光学特性等显示出良好的应用前景,越来越受到人们的关注。本文利用脉冲辉光PECVD在不同的脉冲电压下成功地制备了DLC薄膜。采用拉曼光谱仪、原子力显微镜、纳米压痕仪等设备对薄膜的相结构、表面形貌和力学性能进行了综合分析。
- 苟伟李剑锋楚信谱张礼平李国卿
- 关键词：脉冲放电类金刚石碳膜RAMAN光谱表面形貌
- PECVD系统的等离子体诊断及DLC膜的结构和性能研究
- 2008年
- 类金刚石碳膜以其优异的性能,诸如高电阻率、高硬度、低摩擦系数、良好的光学特性等显示出良好的应用前景,越来越受到人们的关注。本文首先利用朗谬耳探针对基底附近的等离子体特性进行了诊断,考察了离子电流密度与脉冲电压和工作气压的关系。然后在不同的气体比例下成功的制备出了DLC薄膜。采用拉曼光谱仪、原子力显微镜、纳米压痕仪等设备对薄膜的相结构、表面形貌和机械性能进行了综合分析,并研究了镀膜工艺与薄膜特性的关系。
- 楚信谱苟伟李剑锋张礼平吕世功李国卿
- 关键词：等离子体诊断PECVDDLC膜RAMAN光谱表面形貌
- 射频辉光放电自偏压对类金刚石碳膜结构和性能的影响
- 采用高压探头示波器系统研究了射频辉光放电参数对自偏压的影响规律。结果发现自偏压随着射频功率平方根而线性增加,随纯Ar和Ar,C2H2混合气体气压的降低而降低,自偏压随C2H2的比率增大而增加,而且,射频输入功率在500和...
- 楚信谱苟伟李国卿柳翠
- 关键词：射频放电类金刚石碳膜RAMAN光谱
- 文献传递
