苟伟
- 作品数：17 被引量：66H指数：5
- 供职机构：大连理工大学材料科学与工程学院三束材料改性教育部重点实验室更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：一般工业技术金属学及工艺理学更多>>
- 射频辉光放电自偏压对制备类金刚石薄膜结构和性能的影响
- 本文采用高压探头示波器系统研究了射频辉光放电参数对自偏压的影响规律,在纯氩气和氩气-乙炔混合气的辉光放电中,自偏压随着功率的平方根线性增加;随着气压增加线性降低。采用纳米压痕仪、Raman表征,研究结果表明,功率500W...
- 楚新蒲苟伟李国卿柳翠
- 文献传递
- 射频辉光放电自偏压对类金刚石碳膜结构和性能的影响被引量：2
- 2006年
- 采用高压探头示波器系统研究了射频辉光放电参数对自偏压的影响规律.结果发现自偏压随着射频功率平方根而线性增加,随纯Ar和Ar,C2H2混合气体气压的降低而降低,自偏压随C2H2的比率增大而增加,而且,射频输入功率在500和700 W下,由射频辉光放电所制备的类金刚石薄膜分别通过Raman光谱和纳米压痕技术测试,研究了这些薄膜的微观结构和机械性能.功率500 W制备的类金刚石薄膜(ID/IG为0.66)较700W制备的类金刚石薄膜(ID/IG为1.44)具有较高的硬度和sp3键含量,表明在500 W功率下制备的类金刚石薄膜中有高含量的sp3键.
- 楚信谱苟伟李国卿柳翠
- 关键词：射频放电类金刚石碳膜RAMAN光谱
- 90°弯管磁过滤阴极弧沉积类金刚石膜的特性分析被引量：1
- 2007年
- 利用动态机械热分析仪研究了四种镁硅合金的阻尼性能.研究表明:铸造镁硅合金具有良好的阻尼性能.并且体现出有别于纯镁的新阻尼特征,铸造镁硅合金具有较纯镁在更大应变振幅范围内的弛豫型内耗.由于Mg2Si对晶界的钉扎作用,界面阻尼峰出现在较纯镁更高的温度.少量钙的添加改善了Mg2Si析出的形态,但对阻尼性能的影响似乎不明显.
- 柳翠李国卿苟伟王丽阁张成武Sik-Chol KwonJong-Joo Rha
- 关键词：显微组织阻尼性能阻尼机理
- 射频辉光放电自偏压对类金刚石碳膜结构和性能的影响
- 采用高压探头示波器系统研究了射频辉光放电参数对自偏压的影响规律。结果发现自偏压随着射频功率平方根而线性增加,随纯Ar和Ar,C2H2混合气体气压的降低而降低,自偏压随C2H2的比率增大而增加,而且,射频输入功率在500和...
- 楚信谱苟伟李国卿柳翠
- 关键词：射频放电类金刚石碳膜RAMAN光谱
- 文献传递
- 钛离子注入类金刚石碳膜的结构与性能的研究被引量：15
- 2005年
- 使用金属离子注入的方法制备了 Ti掺杂的DLC膜。采用原子力显微镜观察了薄膜的表面形貌,Ti掺杂后 DLC 膜的表面粗糙度明显减小,表面光洁度增加,颗粒细化。拉曼光谱分析表明实验获得的薄膜是典型的DLC膜,掺杂Ti后的 DLC膜的拉曼光谱存在明显的肩峰,DLC膜化学结构中的sp2 组分增加,sp3 组分减少。透射电子显微镜分析表明Ti注入后有TiC纳米晶形成。掺入Ti的 DLC膜的硬度从 14GPa增加到 20GPa。Ti 掺杂后的 DLC 膜的摩擦系数(0.15)明显低于未掺杂的DLC膜的摩擦系数(0.21),Ti离子注入有助于提高薄膜的抗磨损性。
- 柳翠苟伟牟宗信李国卿
- 关键词：无机非金属材料类金刚石碳膜
- 脉冲辉光PECVD制备DLC薄膜的结构和性能研究被引量：7
- 2008年
- 类金刚石碳膜以其优异的性能,诸如高电阻率、高硬度、低摩擦系数、良好的光学特性等显示出良好的应用前景,越来越受到人们的关注。本文利用脉冲辉光PECVD在不同的脉冲电压下成功地制备了DLC薄膜。采用拉曼光谱仪、原子力显微镜、纳米压痕仪等设备对薄膜的相结构、表面形貌和力学性能进行了综合分析。
- 苟伟李剑锋楚信谱张礼平李国卿
- 关键词：脉冲放电类金刚石碳膜RAMAN光谱表面形貌
- 氮分压对电弧离子镀CrNx薄膜结构与性能的影响
- 采用电弧离子镀技术,在不同N分压下沉积了一系列Cr/CrNx薄膜。并使用X射线衍射技术(XRD)、努普硬度计和UMT型球-盘摩擦试验机分别测试了薄膜相结构、显微硬度和摩擦磨损性能。研究了N分压对薄膜相组成、硬度、摩擦磨损...
- 钟彬车德良苟伟李国卿陈玲玲
- 关键词：电弧离子镀显微硬度
- 文献传递
- PECVD系统的等离子体诊断及DLC膜的结构和性能研究
- 2008年
- 类金刚石碳膜以其优异的性能,诸如高电阻率、高硬度、低摩擦系数、良好的光学特性等显示出良好的应用前景,越来越受到人们的关注。本文首先利用朗谬耳探针对基底附近的等离子体特性进行了诊断,考察了离子电流密度与脉冲电压和工作气压的关系。然后在不同的气体比例下成功的制备出了DLC薄膜。采用拉曼光谱仪、原子力显微镜、纳米压痕仪等设备对薄膜的相结构、表面形貌和机械性能进行了综合分析,并研究了镀膜工艺与薄膜特性的关系。
- 楚信谱苟伟李剑锋张礼平吕世功李国卿
- 关键词：等离子体诊断PECVDDLC膜RAMAN光谱表面形貌
- 氮气含量对CrN_x薄膜相结构及摩擦磨损性能的影响被引量：25
- 2007年
- 采用电弧离子镀技术,在45钢基体上制备了不同氮气含量的CrNx薄膜。采用X射线衍射技术(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、努氏硬度计和UMT型球-盘摩擦试验机,分别测试了薄膜相结构、表面形貌、显微硬度和摩擦磨损性能。结果表明:CrNx薄膜主要由CrN和Cr2N相组成;随着N2含量的增加,薄膜中Cr2N(211)衍射峰强度逐渐减弱,CrN(220)衍射峰强度逐渐增强;薄膜表面颗粒逐渐减少,表面趋于平整,薄膜硬度出现两个峰值,对应于薄膜为单相Cr2N和CrN的相组成处;与钢基体相比,氮气含量为35%时,CrNx薄膜具有良好的表面质量、最佳的硬度、优良的耐磨损性能。
- 钟彬苟伟李国卿胡远荣
- 关键词：CRNX薄膜电弧离子镀表面形貌显微硬度
- 多弧离子镀沉积过程中等离子体参数对薄膜沉积的影响被引量：6
- 2006年
- 采用平面探针测试了衬底附近的电流密度,弧电流和衬底偏压的增加均有助于增加到达衬底附近的离子的数量。弧电流增加引起衬底的温升,衬底偏压对衬底温度影响较小。采用多弧离子镀技术沉积C r-N薄膜,衬底偏压对薄膜的硬度影响较小;弧电流增大,薄膜的硬度随之降低。XRD分析表明,弧电流较高时,不利于C r-N相的形成,薄膜中以C r的宏观液滴为主,薄膜硬度较低。
- 车德良钟彬苟伟李国卿陈玲玲
- 关键词：多弧离子镀偏压
