冯铁民
- 作品数：5 被引量：3H指数：1
- 供职机构：中国核工业集团公司核工业西南物理研究院更多>>
- 相关领域：金属学及工艺核科学技术更多>>
- PSII-IM装置用100kV高压脉冲调制器的研制
- 通过对PSII装置的工作原理的简单介绍及对PSII-IM装置负载模型的分析、 计算，推导出了该装置等离子体负载与其等离子体参数的关系式，从而得出了该装置的等离子体负载的特性曲线，为该电源的设计及调试提供了重要参考。并对在...
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- PSII的计算机监控系统
- 实现装置工艺参数的可重复性，并有效掏设备运行过程中由射频源、微波源、金属源和高压脉冲电源产生的种种上电磁干扰对设备性能及人身安全的影响，开发了一套计算机控制系统以负责对设备的远程监控，该系统由一台康拓KT8500工控机及...
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- 关键词：离子注入计算机控制
- 全方位离子注入及增强沉积工业机及应用
- 本文报告了为深圳国家“八六三”计划材料表面工程技术研究开发应用中心研制开发的新一代全方位离子注入及增强沉积工业机。该机的真空室由不锈钢制成,外侧分层覆盖有永磁体、冷却水管、软铁、铅皮及装饰不锈钢板,用于冷却、在真空室内形...
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- 关键词：全方位离子注入
- 全方位离子注入及增强沉积工业机和应用被引量：3
- 2002年
- 报道了等离子体源离子注入 (PSII)或等离子体浸没离子注入 (PIII)及增强沉积工业机的实验结果及应用。该机真空室直径 90 0mm ,高 10 5 0mm ,立式放置 ,抽气系统由分子泵及机械泵构成并且实现了PLC控制 ,本底真空小于 4× 10 - 4Pa。等离子体由热阴极放电或三个高效磁过滤式金属等离子体源产生 ,因此可实现全方位离子注入或增强沉积成膜。该机的负高压脉冲最高幅值为 80kV ,最大脉冲电流为 6 0A ,重复频率为 5 0— 5 0 0Hz ,脉冲上升沿小于 2 μs,并且可根据需要产生脉冲串。其等离子体密度约为 10 8— 10 10 ·cm- 3,膜沉积速率为 0 .1— 0 .5nm/s。
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- 关键词：全方位离子注入表面改性金属材料
