您的位置: 专家智库 > >

周金运

作品数:119 被引量:140H指数:6
供职机构:广东工业大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金广州市科技计划项目广东省科技计划工业攻关项目更多>>
相关领域:电子电信理学机械工程自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 70篇期刊文章
  • 47篇专利

领域

  • 39篇电子电信
  • 24篇理学
  • 18篇机械工程
  • 15篇自动化与计算...
  • 5篇文化科学
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 39篇光刻
  • 31篇激光
  • 25篇光学
  • 12篇光子
  • 11篇投影光刻
  • 11篇激光器
  • 11篇光电
  • 11篇光刻系统
  • 9篇图像
  • 8篇光学设计
  • 7篇单光子
  • 7篇单光子探测
  • 7篇物镜
  • 7篇焦深
  • 7篇光纤
  • 7篇光学系统
  • 6篇折变
  • 6篇数字光刻
  • 6篇相机
  • 6篇仿射

机构

  • 113篇广东工业大学
  • 7篇华南师范大学
  • 7篇中国科学院
  • 5篇香港科技大学
  • 2篇广东工贸职业...
  • 2篇华南农业大学
  • 2篇中北大学
  • 1篇哈尔滨工业大...
  • 1篇吉林大学
  • 1篇郑州铁路职业...
  • 1篇中山大学

作者

  • 117篇周金运
  • 49篇雷亮
  • 24篇林清华
  • 14篇裴文彦
  • 14篇胡义华
  • 8篇陈丽
  • 7篇张为俊
  • 7篇高晓明
  • 7篇彭孝东
  • 7篇李文静
  • 7篇温坤华
  • 6篇王博
  • 6篇廖常俊
  • 6篇刘颂豪
  • 6篇刘子强
  • 5篇张鹏飞
  • 5篇杨世和
  • 5篇王小涓
  • 5篇王新星
  • 4篇冉坐

传媒

  • 11篇量子电子学报
  • 7篇光电工程
  • 4篇光子学报
  • 4篇广东工业大学...
  • 4篇现代电子技术
  • 3篇应用光学
  • 3篇半导体光电
  • 2篇传感器世界
  • 2篇红外与激光工...
  • 2篇激光与光电子...
  • 2篇中国激光
  • 2篇光学学报
  • 2篇应用激光
  • 2篇物理化学学报
  • 2篇量子电子学
  • 1篇光电子.激光
  • 1篇光电子技术与...
  • 1篇Chines...
  • 1篇电子学报
  • 1篇光学技术

年份

  • 1篇2024
  • 5篇2023
  • 3篇2022
  • 5篇2021
  • 1篇2020
  • 5篇2019
  • 14篇2018
  • 6篇2017
  • 5篇2016
  • 3篇2015
  • 3篇2014
  • 4篇2013
  • 10篇2012
  • 1篇2011
  • 3篇2010
  • 9篇2009
  • 2篇2008
  • 6篇2007
  • 1篇2006
  • 2篇2005
119 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
一种超表面平台
本发明公开了一种超表面平台,超表面平台包括依次设置的衬底、金膜和台阶形结构模块;台阶形结构模块包括第一台阶形结构子模块和第二台阶形结构子模块;在金膜的两端对称设置第一台阶形结构子模块和第二台阶形结构子模块;第一台阶形结构...
许涵蕾周金运苏锦越方泽舟蒙自明
基于405nm LED光源DMD无掩模光刻SU-8的特征尺寸研究
2023年
SU-8光刻胶具有良好的机械性能、耐化学腐蚀性和高的热稳定性,已成为制作高纵横比聚二甲基硅氧烷(PDMS)微流控芯片阳模的首选材料。本文突破了SU-8光致抗蚀剂在365 nm-400 nm波长范围内感光区的限制,通过多次曝光积累曝光强度,达到SU-8光阻的曝光强度。我们介绍了一种使用DMD数字无掩模光刻的倾斜扫描在相同位置重复曝光(ISPRE)来制造SU-8模具的方法。与传统方法的不同之处在于,所提出的具有405 nm紫外(UV)发光二极管(LED)的曝光光源不是大多数制造工艺使用波长为365nm的高功率UV光源。在本实验中,讨论了SU-8光刻胶的不同特征尺寸。结果表明,该方法可以得到最小5 µm特征尺寸的SU-8模具。
陈启明宋显文傅仁轩周金运胡益铭
关键词:SU-8PDMSDMD无掩模光刻特征尺寸
用于光刻的准分子激光束整形及其研究进展被引量:6
2007年
阐述了在光刻应用中准分子激光束整形的原因和整形前后光束能量空间分布结果,并对建立准分子激光束整形的理论模型——高斯-谢尔模型(GSM)的方法进行了介绍。总结和分析了微透镜阵列和衍射相位光栅等光束均质器用于光刻激光束整形的优缺点,包括它们的整形能力、能量损失、干涉效应以及波前和振幅均匀化控制等;同时对主要整形器件的原理、特性和进展情况进行了简要综述。
林清华宋超王鲁宾周金运
关键词:激光技术光刻微透镜阵列
复合物o-C_6H_4F_2·Ar的电子S_1态的内部van der Waals振动
1999年
报道了复合物o—C6H4F2·Ar的电子S1态内部vanderWaalss(edW)振动的实验和理论研究。在超声束中,利用双光子共振电离光谱和飞行时间质谱技术,揭示了S1←S0电子态跃迁涉及内部wdW振动的3个谱带(+16.1、+41.5、+50.5cm-1)。光谱分析表明,谱线+16.1cm-1是Ar沿o—C6H4F2分子对称面内的振动模的基频跃迁;谱线+41.5cm-1是Ar沿垂直于环面的振动模的基频跃迁;谱线+50.5cm-1是Ar沿垂直于对称面的振动模的第一泛频跃迁。用三维线性谐振子波函数作为基和势函数取为Lenard—Jones势,进行了复合物o—C6H4F2·Ar的wdW振动能级理论计算,所获得的结果支持了光谱归属.对比p—C6H4F2·Ar和o—C6H4F2·Ar中的Ar原子vdW振动发现,2个F原子在环面上的相对位置对Ar沿垂直于环面的振动力常数影响不大,但对Ar沿平行于环面的两种振动有较大的影响。
胡义华詹业宏周金运李佐周王小涓陆文云杨世和
关键词:光谱振动团簇
一种基于通用振镜与视觉测速的飞行打标系统和控制方法
本发明公开一种基于通用振镜与视觉测速的飞行打标系统和控制方法,包括激光器、激光打标控制卡、上位机、数据控制器以及设置于传送带上方的数字相机和扫描振镜;数据控制器分别与扫描振镜、激光打标控制卡、数字相机连接,激光打标控制卡...
王崎颜润明邓凯元祝大植刘树成雷亮周金运
文献传递
印刷电路板激光投影成像照明系统均匀性分析被引量:4
2009年
针对351 nm波长的XeF准分子激光器,自行设计了用于高精度、高产率、大面积且常规抗蚀剂曝光的印刷电路板(PCB)激光投影成像照明系统。根据准分子激光的部分相干平顶高斯光束(PCFGB)理论模型,对微透镜阵列器(MLA)均束的衍射特性进行了理论分析。由PCFGB分布函数、稳定光强输出的衍射角和菲涅耳-基尔霍夫衍射积分公式,定量分析衍射效应对MLA均束的影响。理论计算表明,微透镜边缘发生菲涅耳衍射和微透镜产生的多光束干涉都能引起光振幅调制,只不过衍射产生的尖峰更明显地出现在光束边缘。同时,由数值积分得到的PCFGB曲线,发现9×9 MLA均束器既能保证多个微透镜产生光束叠加的均匀性,又最大程度地减少了衍射和多光束干涉效应。通过采取加正六边形光阑的方法,不仅能满足大面积无缝扫描光刻的需要,而且能剪裁由衍射引起的光束边缘尖峰。由ZEMAX光学设计软件模拟其效果,显示其加工窗不大于士2%。
裴文彦周金运梁国均林清华
关键词:激光技术印刷电路板
一种增强激光束均匀化的均束器
本实用新型是一种增强激光束均匀化的均束器。包括有微透镜阵列器(1)及聚焦透镜(3),其中透镜阵列器(1)与聚焦透镜(3)之间设置有能发生Raman-Nath声光衍射的声光器件(2)。本实用新型利用微透镜阵列器先分割光束,...
周金运林清华裴文彦
文献传递
一种用于光固化三维成型的光学系统
本实用新型涉及光固化三维成型技术领域,公开了一种用于光固化三维成型的光学系统,包括由下至上依次间隔设置的光源、超构表面元件、液晶屏和容器,容器的底面为透光面,超构表面元件包括介质衬底和若干超构模块,若干超构模块分布在介质...
潘浩贤周金运王博温坤华雷亮蒙自明
文献传递
一种新型投影曝光调焦方法被引量:1
2013年
为研究大面积激光投影光刻的调焦,利用Zemax光学设计软件模拟离焦对光程差(OPD)和调制传递函数(MTF)的影响,分析二者对投影曝光图形质量的影响,给出系统最大的离焦量值。提出一种利用显微镜的调焦方法,分析此方法的调焦误差主要来自于显微镜景深,根据景深表达式和系统最大离焦量值,选择一款景深不大于系统最大离焦量的显微镜来构建调焦系统,并基于该调焦系统进行光刻实验。实验结果表明:利用该方法对投影成像光刻进行调焦,无论是否离焦,边缘视场与中心视场的MTF均有差异,分辨率也有差异,但这种差异不影响光刻图形的质量。
冉坐周金运雷亮周亚梅邓亚飞
关键词:投影光刻调制传递函数调焦
一种大面积数字光刻光学系统
本发明涉及一种大面积数字光刻光学系统。包括照明光学系统、数字微反射镜拼接中继系统和投影光学系统,照明光学系统包括半导体激光器、聚焦透镜、光纤均束器、扩束准直透镜组、平面反射镜;数字微反射镜拼接中继系统包括数字微反射镜、三...
刘海勇周金运刘丽霞雷亮
文献传递
共12页<12345678910>
聚类工具0