张鸣
- 作品数：400 被引量：280H指数：10
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- 相关领域：机械工程电子电信自动化与计算机技术文化科学更多>>
- 扫描干涉光刻系统光路结构误差分析与验证被引量：2
- 2020年
- 扫描干涉光刻(SBIL)是实现大面积高精度全息光栅制作的新技术,为实现纳米级干涉条纹精度,左右两侧曝光光路的对称性十分关键,为准确计算曝光光路空间对称性与光学元件结构及安装误差之间的关系,提出了一种基于三维空间向量映射法的SBIL结构误差的计算评估方法,确定了曝光光束在空间传输或反射时各元件结构误差对光路对称性及干涉条纹直线度误差的影响,为验证上述模型,设计了基于压电陶瓷(PZT)条纹锁定的模拟系统,并通过数值仿真验证了上述模型,确定了该系统下实现纳米级条纹误差时各元件的结构与安装误差需求,搭建实验光路验证了在不同误差情况下干涉条纹误差情况,该模型计算相对简洁且易于实现,可指导SBIL结构与安装精度的设计与分配。
- 张敏骏张鸣朱煜
- 一种六自由度定位装置
- 一种六自由度定位装置，涉及一种超精密六自由度运动定位设备。该定位装置包括一个定位单元、两个沿X轴运动的直线电机、一个沿Y轴运动的音圈电机、三个沿Z轴运动的音圈电机、两个沿Y轴运动的直线电机、两个沿X轴微动的音圈电机和四个...
- 张鸣朱煜汪劲松李鑫宋玉晶刘羽杨开明尹文生胡金春徐登峰穆海华
- 文献传递
- 一种模块化动铁式六自由度磁浮运动平台
- 一种模块化动铁式六自由度磁浮运动平台，主要应用于半导体光刻设备中。该运动平台包括基座、至少一个磁浮平面电机模块和一个体感控制器；每个磁浮平面电机模块由一个磁浮平面电机动子和一个磁浮平面电机定子组成，可实现微动工作台在水平...
- 张鸣朱煜刘召成荣杨开明徐登峰张利秦慧超赵彦坡胡清平田丽叶伟楠张金尹文生穆海华胡金春
- 文献传递
- 一种平面电机动子位移的测量方法
- 一种平面电机动子位移的测量方法，所述测量方法包括：在平面电机动子上布置四个磁感应强度传感器，由所布置的四个传感器的采样信号处理后得到信号B<Sub>sx</Sub>、B<Sub>cx</Sub>、B<Sub>sy</Su...
- 朱煜胡金春徐登峰孙玉婷尹文生张鸣杨开明穆海华
- 文献传递
- 一种采用过渡承接装置的光刻机硅片台双台交换系统
- 一种采用过渡承接装置的光刻机硅片台双台交换系统，属于半导体制造装备技术领域。本发明含有运行于预处理工位的硅片台和运行于曝光工位的硅片台；在预处理工位和曝光工位上分别设有一个H型驱动单元，所述的H型驱动单元由双侧X向直线电...
- 朱煜张鸣汪劲松徐登峰尹文生胡金春杨开明李广闵伟段广洪
- 文献传递
- 干涉条纹相位锁定系统被引量：3
- 2017年
- 干涉曝光系统中干涉条纹的相位漂移会导致曝光对比度降低,为了有效抑制相位漂移,利用声光调制器对干涉光频率进行实时调制。分析了条纹漂移的特点,指出了主要干扰源是0~5 Hz的空气扰动。应用数值分析法得到了条纹漂移量与曝光对比度的关系曲线,并以此为依据提出了条纹锁定精度的目标值。针对所要达到的锁定精度,给出了系统硬件的选型方法,搭建了基于RTX的干涉条纹相位锁定系统。利用闭环辨识的方法得到了系统的参数模型,完成了反馈控制器的设计,最终实现了实时锁定条纹相位的功能。实验结果表明,在400Hz的控制频率下,干涉锁定系统能够有效抑制0~5Hz的低频扰动,干涉条纹相位漂移的3σ值可以控制在±0.04个条纹周期内,满足干涉光刻的曝光对比度要求。
- 鲁森杨开明朱煜王磊杰张鸣
- 关键词：相位锁定声光调制器RTX
- 基于超导磁悬浮的光刻机工件台平衡定位系统
- 本发明公开了一种基于超导磁悬浮的光刻机工件台平衡定位系统，包括平衡质量块、承片台模块、超导磁悬浮模块、漂移管理模块和机架，超导磁悬浮模块包括超导体和超导体磁钢阵列；漂移管理模块包括漂移管理线圈和漂移管理磁钢阵列；承片台模...
- 张鸣朱煜赵家琦成荣王磊杰
- 一种五自由度外差光栅干涉测量系统
- 本发明为一种五自由度外差光栅干涉测量系统，包括单频激光器、声光调制器，单频激光器出射单频激光，所述单频激光经光纤耦合、分束后入射至声光调制器得到两路不同频率的线偏振光，一路作为参考光，一路作为测量光；干涉仪镜组和测量光栅...
- 朱煜张鸣王磊杰叶伟楠杨富中夏一洲李鑫
- 文献传递
- 一种利用弹簧夹子的晶圆夹持装置
- 一种利用弹簧夹子的晶圆夹持装置，该装置包括薄片V型托盘、晶圆夹子和凸起支撑。晶圆夹子包括支架、连杆、弹簧及滑块。当抓取晶圆时，晶圆边缘与滑块的斜面部分接触，其重力分力使滑块沿连杆向支架方向移动，并使弹簧压缩，晶圆夹在晶圆...
- 杨开明朱煜李鑫汪劲松尹文生胡金春张鸣徐登峰穆海华崔乐卿余东东
- 文献传递
- 光刻机掩模台六自由度位移测量系统
- 本发明公开一种光刻机掩模台六自由度位移测量系统，包括：光栅安装板，固定在光刻机的掩模台上，第一平面光栅和第二平面光栅，相对固定在光栅安装板的两侧，第一平面光栅包括相互垂直的栅线，且栅线方向是在掩模台的平移平面的x轴和y轴...
- 王磊杰朱煜郭子文张鸣叶伟楠成荣
