林强
- 作品数：5 被引量：14H指数：2
- 供职机构：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所更多>>
- 发文基金：中国科学院知识创新工程国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：电子电信理学机械工程更多>>
- 离轴照明Schwarzschild投影物镜的计算机辅助装调方法被引量：8
- 2003年
- 介绍计算机辅助装调方法在离轴照明EUVL光学系统中的应用,阐述了一种基于奇异值分解(SVD)的牛顿迭代法来求解失调量。利用该方法对敏感矩阵进行分解,从中分析得到影响不同像差的结构参数的敏感性,并筛选出补偿器,求出相应失调量的大小。在此基础上进行多次模拟装调,证明各种情况都是收敛的,可以实现精密装调的目的。
- 林强金春水向鹏曹健林
- 关键词：EUVL极紫外投影光刻奇异值分解
- 均匀软X射线多层膜制备方法研究被引量：6
- 2003年
- 介绍了基于速度调制技术的均匀软X射线多层膜制备方法,并采用该方法在直径为150mm的平面硅基板上制备出Mo/Si多层膜,其中心波长为13.5nm,膜厚空间非均匀性优于1%,较转盘匀速溅射方法制备的多层膜膜厚空间均匀性提高了近6倍。
- 金春水林强马月英裴舒曹健林
- 关键词：软X射线多层膜磁控溅射均匀性
- 大口径均匀软X射线多层膜制备方法研究
- 本文介绍了基于速度调整技术的均匀软X射线多层膜制备方法,并利用改进后的磁控溅射镀膜装置,在φ150mm硅片上进行了13um Mo/Si多均匀层膜。
- 金春水马月英裴舒林强曹健林
- 关键词：软X射线多层膜磁控溅射均匀性
- 文献传递
- 偏心孔阑离轴照明EUVL微缩投影物镜的设计及模拟装调
- 2003年
- 针对极紫外投影光刻 ( Extreme Ultraviolet Lithography,简称 EUVL)工作波长短的特点及由此带来的一些问题 ,对 EUVL微缩投影物镜的结构参数进行分析选择 ,设计了离轴照明方式的 Schwarzschild微缩投影成像物镜。利用基于奇异值分解的牛顿迭代法对敏感矩阵进行分解 ,求出相应失调量的大小 。
- 林强金春水向鹏马月英裴舒曹健林
- 关键词：极紫外投影光刻EUVL投影物镜离轴照明牛顿迭代法计算机辅助装调
- EUVL微缩投影光学系统精密装调技术研究
- 在电子信息产业发展过程中，集成电路技术对现代化工业的发展和人们的生活起了极其重要的作用，而光刻技术是集成电路生产技术的核心和关键，倍受世界各国的关注。极紫外投影光刻(ExtremeUltravioletLithograp...
- 林强
- 关键词：极紫外投影光刻集成电路
- 文献传递
