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王玉
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西南师范大学
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合作作者
陈志谦
西南师范大学
刘存业
西南师范大学
陈建勇
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赵保刚
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2002
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CVD生长金刚石膜正电子寿命分析
通过热丝化学汽相沉积(CVD)技术工艺在Si(100)基底上制备的金刚石膜,使用美国ORTEC公司制造的正电子湮没寿命谱仪进行了测量分析,并采用PATFIT-88程序作了解谱计算.研究发现,在金刚石膜中微观缺陷的产生取决...
刘存业
陈志谦
赵保刚
王玉
陈建勇
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金刚石膜
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