陈宏宇
- 作品数：7 被引量：0H指数：0
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- 金刚石厚膜热沉基板的金属化工艺
- 本发明属金刚石厚膜热沉基板的金属化工艺、采用MnO<Sub>2</Sub>、Ni、Au三种浆料、顺序分三次丝网印刷在金刚石厚膜生长面上，每次印刷后都在400～550℃温度下预烧5～20分钟，最后在真空度10<Sup>-2...
- 王佳宇陈宏宇吕宪义白亦真金曾孙
- 文献传递
- 稀土化合物浆料对CVD金刚石厚膜表面刻蚀及金刚石厚膜板图形金属化的研究
- 陈宏宇
- 金刚石厚膜热沉基板的金属化工艺
- 本发明属金刚石厚膜热沉基板的金属化工艺,采用MnO<Sub>2</Sub>、Ni、Au三种浆料,顺序分三次丝网印刷在金刚石厚膜生长面上,每次印刷后都在400～550℃温度下预烧5～20分钟,最后在真空度10<Sup>-2...
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- 稀土化合物浆料及金刚石厚膜的表面刻蚀方法
- 本发明属金刚石厚膜的表面刻蚀方法。采用稀土化合物浆料,如以氧化铈和硝酸镧为原料的浆料,印刷于金刚石厚膜生长面,再经400～600℃烧结2～5小时,最后用浓硫酸清洗。浆料是将原料与溶剂混合研磨再加调和剂配制而成。本发明原料...
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- CVD金刚石厚膜的稀土化合物浆料刻蚀(英文)
- 2001年
- 与现有的金刚石膜抛光工艺相匹配的高效刻蚀技术，是目前研究的热点。自行研制的稀土 化合物浆料对 CVD金刚石厚膜进行了刻蚀研究，刻蚀过程在低于金刚石氧化点的温度下和大气 环境中完成。其刻蚀结果，用扫描电子显微镜给出。实验表明 ,该工艺采用廉价的稀土化合物为 原料，具有简单、安全、高效的特点。
- 王佳宇白亦真陈宏宇吕宪义金曾孙纪红
- 关键词：CVD刻蚀
- 稀土化合物浆料及金刚石厚膜的表面刻蚀方法
- 本发明属金刚石厚膜的表面刻蚀方法。采用稀土化合物浆料，如以氧化铈和硝酸镧为原料的浆料，印刷于金刚石厚膜生长面，再经400～600℃烧结2～5小时，最后用浓硫酸清洗。浆料是将原料与溶剂混合研磨再加调和剂配制而成。本发明原料...
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- 稀土化合物浆料对CVD金刚石厚膜表面刻蚀及金刚石厚膜基板上图形金属化的研究
- 该文利用稀土化合物浆料对CVD金刚石厚膜表面进行刻蚀.研究了不同刻蚀温度和刻蚀时间对刻蚀效果的影响.总结了刻蚀作用的主要过程.通过机械抛光对比实验,获得了较好的抛光结果.通过真空下的烧结实验、X射线衍射、XPS、热重法分...
- 陈宏宇
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