孔明
- 作品数：37 被引量：124H指数：7
- 供职机构：上海交通大学材料科学与工程学院金属基复合材料国家重点实验室更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金上海市科委纳米专项基金国家科技支撑计划更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术电子电信金属学及工艺更多>>
- VN/(Ti,Al)N纳米多层膜的共格生长与超硬效应被引量：3
- 2006年
- 采用反应磁控溅射技术制备了一系列具有不同调制周期的VN/(Ti,Al)N纳米多层膜.利用高分辨透射电子显微镜、X-射线衍射仪和微力学探针表征了纳米多层膜的微结构和力学性能,从而研究其微结构与力学性能之间的关系.结果表明,小调制周期时,VN/(Ti,Al)N纳米多层膜沿薄膜生长方向呈现出具有面心立方(111)晶面择优取向的共格外延生长结构.由于存在晶格错配,在共格界面作用下,VN和(Ti,Al)N调制层分别受到拉、压应力,在多层膜中产生以调制周期为周期的交变应力场.这种应力场大大阻碍了薄膜中位错穿过界面的运动,从而导致薄膜产生硬度和弹性模量异常升高的超硬效应,并在调制周期为5.6 nm时,达到硬度和弹性模量的最高值38.4GPa和421 GPa.进一步增加调制周期,两调制层之间产生非共格界面,破坏了薄膜中的交变应力场,薄膜的硬度和弹性模量也随之降低.
- 孔明董云杉戴嘉维张慧娟李戈扬
- 关键词：晶体生长力学性能
- Ti-Si-N纳米晶复合膜微结构的TEM观察被引量：1
- 2005年
- 董云杉孔明李戈扬
- 关键词：TI-SI-N微结构纳米晶TEM观察SI3N4TIN
- 反应溅射Ti-Al-Si-N纳米晶复合薄膜的微结构与力学性能被引量：1
- 2005年
- 采用 Ar、N2 和 SiH4 混合气体反应溅射制备了一系列不同 Si 含量的 Ti- Al- Si- N 薄膜,并采用EDS、AES、XRD、TEM和微力学探针研究了薄膜的微结构和力学性能。结果表明通过控制混合气体中SiH4 分压可以方便地获得不同 Si 含量的 Ti- Al -Si N纳米晶复合薄膜。当 Si 含量达到 3. 5% (原子分数)时,薄膜中出现 TiSix 界面相,造成(Ti,Al)N 晶粒细化,使薄膜力学性能得到提高,硬度和弹性模量的最高值分别为 36.0GPa和 400GPa。进一步提高 Si 含量,薄膜的力学性能逐渐降低。
- 董云杉孔明胡晓萍李戈扬顾明元
- 关键词：反应溅射微结构力学性能
- 用于切削工具的TiN/AlON纳米多层涂层反应磁控溅射制备方法
- 本发明涉及的是一种用于切削工具技术领域的TiN/AlON纳米多层涂层反应磁控溅射制备方法。分别采用直流阴极控制的Ti靶和射频阴极控制的Al<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>靶，通过在Ar气和N<Sub>2...
- 孔明李戈扬戴嘉维黄碧龙吴莹
- 文献传递
- Zr-Si-N纳米晶复合膜的生长结构
- 孔明董云杉李戈扬
- 文献传递
- AlN/SiO_2纳米多层膜的超硬效应与高温抗氧化性被引量：4
- 2008年
- 采用反应磁控溅射法制备了一系列不同SiO_2层厚的AlN/SiO_2纳米多层膜,利用X射线衍射仪、高分辨透射电子显微镜、扫描电子显微镜和微力学探针表征了多层膜的微结构和力学性能,研究了多层膜微结构与力学性能随SiO_2层厚的变化,考察了AlN/SiO_2纳米多层膜的高温抗氧化性.结果表明,受AlN层晶体结构的模板作用,溅射条件下以非晶态存在的SiO_2层在厚度<0.6nm时被强制晶化为与AlN相同的六方结构赝晶体,并与AlN形成共格外延生长结构,多层膜相应产生硬度升高的超硬效应.SiO_2随自身层厚的进一步增加又转变为以非晶态生长,致使多层膜的外延生长结构受到破坏,其硬度也随之降低.高温退火研究表明,高硬度的AlN/SiO_2纳米多层膜的抗氧化温度为800℃,与AlN单层膜相当.SiO_2层的加入尽管能使多层膜获得较高硬度,但是并不能提高其抗氧化温度.
- 吴莹赵文济孔明黄碧龙李戈扬
- 关键词：超硬效应抗氧化性
- 薄膜截面的TEM样品制备被引量：6
- 2006年
- 针对用于透射电镜观察的截面样品制备较为困难的问题,以不锈钢基底上沉积的VN／SiO2超晶格薄膜为例,介绍了薄膜截面TEM样品的制备方法与过程。
- 戴嘉维孔明
- 关键词：超晶格
- Ti-Si-N纳米晶复合膜微结构的TEM观察
- 董云杉孔明李戈扬
- 文献传递
- 反应磁控溅射TiN/AlON纳米多层膜的微结构与显微硬度被引量：4
- 2008年
- 采用Ti靶和Al_2O_3靶在Ar、N_2混合气氛中进行反应磁控溅射的方法,制备了一系列不同AlON层厚度的TiN/AlON纳米多层膜,利用EDS、XRD、HRTEM和微力学探针研究了AlON的形成条件以及AlON调制层厚的改变对多层膜生长方式和显微硬度的影响.结果表明,在Ar、N_2混合气氛中对Al_2O_3进行溅射,N原子会部分取代Al_2O_3中的O原子,形成非晶态的AlON化合物.在TiN/AlON纳米多层膜中,由于TiN晶体层的模板效应,AlON层在厚度小于0.6 nm时被强制晶化并与TiN形成共格外延生长结构,多层膜显示出最高硬吱达40.5 GPa的超硬效应;进一步增加AlON的层厚,其生长模式由晶态向非晶态转变,破坏了多层膜的共格外延生长结构,多层膜的硬度随之降低.
- 黄碧龙吴昕蔚孔明李戈扬
- 关键词：非晶晶化显微硬度反应磁控溅射
- 反应磁控溅射TiN/SiO<Sub>2</Sub>硬质纳米多层涂层的制备方法
- 一种反应磁控溅射TiN/SiO<Sub>2</Sub>硬质纳米多层涂层的制备方法，属于工模具涂层制备技术领域。本发明采用多靶磁控溅射涂层制备设备，在低气压的Ar和N<Sub>2</Sub>混合气氛中，由独立的射频阴极分别...
- 孔明李戈扬刘艳戴嘉维
- 文献传递
