您的位置: 专家智库 > >

王汝冬

作品数:32 被引量:77H指数:7
供职机构:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所更多>>
发文基金:国家科技重大专项更多>>
相关领域:机械工程电子电信理学核科学技术更多>>

文献类型

  • 18篇专利
  • 14篇期刊文章

领域

  • 13篇机械工程
  • 4篇电子电信
  • 3篇理学
  • 1篇化学工程
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇航空宇航科学...
  • 1篇核科学技术
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 22篇光学
  • 12篇光学元件
  • 10篇镜框
  • 7篇有限元
  • 6篇有限元法
  • 6篇面形
  • 6篇光刻
  • 6篇反射镜
  • 5篇光刻物镜
  • 4篇投影光刻
  • 4篇投影光刻物镜
  • 4篇透镜
  • 4篇装夹
  • 4篇微分
  • 4篇物镜
  • 3篇工装
  • 3篇光学加工
  • 3篇光学检测
  • 2篇点支撑
  • 2篇压簧

机构

  • 32篇中国科学院长...
  • 1篇空军航空大学
  • 1篇中国科学院研...

作者

  • 32篇王汝冬
  • 26篇隋永新
  • 19篇田伟
  • 18篇杨怀江
  • 17篇王平
  • 16篇王立朋
  • 5篇张辉
  • 5篇李全松
  • 4篇赵磊
  • 3篇王东方
  • 3篇崔涛
  • 2篇张德福
  • 2篇苗二龙
  • 2篇彭石军
  • 2篇高松涛
  • 2篇郭抗
  • 2篇张永凯
  • 2篇方斌
  • 1篇王飞
  • 1篇冯睿

传媒

  • 4篇中国光学
  • 3篇光学学报
  • 2篇中国激光
  • 1篇光学精密工程
  • 1篇机械工程师
  • 1篇光学技术
  • 1篇激光与光电子...
  • 1篇机械与电子

年份

  • 1篇2020
  • 4篇2017
  • 2篇2016
  • 4篇2015
  • 3篇2014
  • 3篇2013
  • 5篇2012
  • 9篇2011
  • 1篇2010
32 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
193nm光刻投影物镜单镜支撑仿真分析及实验研究被引量:7
2012年
光刻是大规模集成电路制造过程中最为关键的工艺,光刻的分辨力主要取决于光刻投影物镜的光学性能。光刻投影物镜光学元件面形精度为纳米量级,其对光学元件的加工及物镜单镜支撑提出了极高的要求。为193nm光刻投影物镜高精度的单镜面形,设计了一种运动学单镜支撑结构。运用有限元法(FEM)分析光刻投影物镜单镜运动学支撑结构在重力下物镜镜片的面形变化量,经分析物镜镜片的峰值(PV)值为15.46nm,均方根(RMS)误差为3.62nm。为了验证有限元计算精度,建立了可去除参考面面形及被测面原始面形的方法。经过分析对比,仿真结果与实验结果面形的PV值为2.356nm,RMS误差为0.357nm。研究结果表明,所设计的基于运动学193nm光刻投影物镜单镜支撑结构能够满足193nm光刻投影物镜系统对于物镜机械支撑结构的要求。
田伟王平王汝冬王立朋隋永新
关键词:应用光学光学检测有限元法
一种用于反射镜光学元件的角度调整装置
本发明公开了一种用于反射镜光学元件的角度调整装置。该用于反射镜光学元件的角度调整装置包括:柔性支撑结构,柔性支撑镜框,角度调整螺钉,柔性支撑板;所述反射镜光学元件通过所述柔性支撑结构设置在所述柔性支撑镜框上;所述柔性支撑...
李全松张辉王东方王汝冬杨怀江隋永新
文献传递
振动对面形测量误差的影响分析被引量:13
2012年
振动会使高精度面形测量产生误差。建立了振动对干涉测量面形的误差模型,应用13步移相算法分析了在振幅为63nm时的误差情况。分析结果表明,当面形测量误差的敏感频率为12Hz时,振动引起的面形均方根(RMS)误差约为12nm。通过实验进行了验证,仿真分析结果和实验结果基本相同。实验分析了在12Hz时,振幅为5~63nm时,对应的测量面形RMS误差为1~7.1nm,振幅和RMS误差线性增大。为不同振动频率和振幅引起的面形RMS的误差分析和高精度面形测量的振动环境控制提供了一定的参考。
王汝冬田伟王平王立朋
关键词:误差分析振动面形误差
一种光学元件的五自由度微动调整机构
一种光学元件的五自由度微动调整机构属于精密调整技术领域,目的在于解决现有技术存在的难以保证加工精度、占用较大的调整空间以及可调节自由度少的问题。本发明的一种光学元件的五自由度微动调整机构包括光学元件、压框、镜框、镜座、倾...
王汝冬王东方李全松张辉崔涛隋永新
文献传递
Fizeau干涉仪主机的热稳定性设计与分析被引量:8
2011年
搭建了光-机-热耦合模型,用于分析Fizeau干涉仪光机系统的热稳定性,并研究了该系统的计算流程、环境温度和系统光学质量的随机性、系统光学质量与环境温度的关系等。首先,根据实验室温控条件,建立环境温度的随机分布模型,进行了光-机-热耦合分析并计算不同温度下光机结构的热分布和结构变形;然后,通过Zernike多项式拟合透镜表面面形和曲率半径,利用光学仿真软件分析变形后的光学系统;最后,对系统光学质量进行概率分析,评价了系统的热稳定性。分析结果表明,温度控制在(22±0.1)℃时,在2σ的置信水平下,Fizeau干涉仪的出射光波前的重复性可以达到0.016%λ,基本满足干涉仪主机光机系统的重复性要求。
王平王汝冬田伟王立朋隋永新杨怀江
高精度光学元件面形检测工装夹具
高精度光学元件面形检测工装夹具,特别涉及于深紫外投影光刻物镜系统光学元件纳米级面形检测的工装夹具。本发明目的在于解决深紫外投影光刻物镜系统光学元件纳米级面形检测与光学加工中面形精修工艺迭代过程中的高精度重复装卡问题,本发...
田伟王汝冬王平王立朋隋永新
文献传递
Φ300mm平面标准镜高精度支撑关键技术被引量:3
2015年
为保证大口径平面面形的高精度检测,必须对大口径平面标准镜自身的精度进行严格控制。在考虑标准镜自身重力的作用下,通过有限元方法仿真分析了不同粘胶位置以及不同镜框支撑方式下参考面面形的变化。根据分析结果,设计了口径300 mm的平面标准镜支撑方式,镜片采用12点粘胶与镜框固定,镜框下表面采用旋转补偿的方式寻找最优支撑方案。对加工完成的Φ300 mm平面标准镜进行了集成装配,装配结果显示支撑引入的参考面面形变化约为1.294 nm[均方根(RMS)值],与仿真分析结果吻合,并且满足大口径平面检测的检测需求。
方斌田伟王汝冬朱岩张永凯王飞
关键词:光学设计光学检测有限元法
深紫外投影光刻物镜的纳米级光学元件面形检测支撑工装
本发明提供一种深紫外投影光刻物镜的纳米级光学元件面形检测支撑工装,包括:光学元件;18个20°均布的弹片支撑单元;用于固定弹片支撑单的镜框;3个120°均布用于镜片精密调整用径向数显微分头调节器;3个用于镜框精密重复定位...
田伟王平王汝冬隋永新
文献传递
支撑高度可调式光学元件多点支撑结构
支撑高度可调式光学元件多点支撑结构,属于光机结构设计与装调领域,该结构包括光学元件、镜框和多个柔性支撑组件,所述多个柔性支撑组件均布固定在镜框内部圆周面上,所述光学元件设置在多个柔性支撑组件上;所述柔性支撑组件由柔性支撑...
赵磊杨怀江隋永新张德福王汝冬
文献传递
一种大承载光学元件倾斜调整机构
一种大承载光学元件的倾斜调整机构,属于光学技术领域,现有光学元件倾斜调整机构,应用在大型光学元件上时采用一般形式的弹簧螺杆倾斜调整架,调整分辨率不稳定的问题,本发明提供了一种大承载光学元件倾斜调整机构,包括:电动调节单元...
王汝冬田伟王平王立朋隋永新
共4页<1234>
聚类工具0