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肖磊

作品数：14 被引量：0H指数：0
供职机构：京东方科技集团股份有限公司更多>>
相关领域：理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 14篇中文专利

领域

  • 1篇理学

主题

  • 6篇溅射
  • 4篇掩膜
  • 4篇真空镀膜
  • 4篇镂空
  • 4篇靶材
  • 2篇镀膜技术
  • 2篇掩膜板
  • 2篇液面
  • 2篇使用寿命
  • 2篇体积
  • 2篇通路
  • 2篇凸起
  • 2篇清洁装置
  • 2篇组件
  • 2篇显示技术
  • 2篇流体
  • 2篇膜层
  • 2篇均匀性
  • 2篇夹持
  • 2篇夹持机构

机构

  • 14篇京东方科技集...

作者

  • 14篇肖磊
  • 11篇陈一民
  • 6篇高雪伟
  • 3篇卜斌
  • 3篇邓世刚
  • 2篇李晓虎
  • 2篇李太亮
  • 2篇杜建华

年份

  • 2篇2019
  • 2篇2018
  • 2篇2017
  • 4篇2016
  • 2篇2014
  • 2篇2013
共 14 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
流体自动定量供给的控制方法及系统
本发明属于流体自动定量供给技术领域，公开了一种流体自动定量供给的控制方法及系统，其在流体自动定量供给过程中，通过计时向密封罐内通入气体使得密封罐内的压力达到设定值时所需的时间t，然后根据预定公式计算出继续向密封罐内通入气...
卜斌李太亮陈一民肖磊
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一种曝光机基台的清洗装置
本实用新型涉及设备清洗技术领域，公开了一种曝光机基台的清洗装置。包括：固定架，固定在曝光机上；安装于固定架上的清洗耙本体，清洗耙本体具有容纳清洗液的容腔以及连通容腔的开口；密封开口的塞盖；位于清洗耙本体的清洁面上的海绵，...
肖磊卜斌邓世刚陈一民
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掩膜组件、真空镀膜装置及其使用方法
本申请公开了一种掩膜组件、真空镀膜装置及其使用方法，属于镀膜技术领域。所述掩膜组件包括：掩膜本体和遮挡部，掩膜本体具有镂空区域，遮挡部设置在掩膜本体上，且位于镂空区域的边缘，遮挡部能够与掩膜本体发生相对位移，以改变镂空区...
田忠朋陈一民肖磊武捷高雪伟
一种清洁装置以及自动清洁系统
本发明实施例提供了一种清洁装置以及自动清洁系统，涉及显示技术领域，可去除物品表面的污染颗粒；该清洁装置包括离子清洁系统、传输轨道以及承载台；所述离子清洁系统包括腔体、设置在腔体上的吹气孔和吸气孔、设置在腔体内部且位于吹气...
李晓虎肖磊邓世刚陈一民
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一种刀具刃磨冷却设备
本实用新型涉及机械加工技术领域，公开了一种刀具刃磨冷却设备，以在保障刀具刃磨操作安全的同时提高刀具的刃磨效率，进而提高机加工效率。刀具刃磨冷却设备包括：水箱；与水箱连通的进水管路和回水管路；用于将水箱的水泵入进水管路的水...
肖磊
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磁控溅射装置、磁控溅射设备及磁控溅射的方法
一种磁控溅射装置、磁控溅射设备及磁控溅射的方法，该磁控溅射装置包括：靶材承载部，配置为在其上承载靶材；磁体承载部，配置为在其上承载磁体并可驱动所述磁体相对于所述靶材承载部沿预定路径做往复运动；限位传感器，配置为确定所述磁...
田忠朋高雪伟肖磊杜建华
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一种用于溅射成膜工艺的掩膜板及溅射装置
本发明实施例提供一种用于溅射成膜工艺的掩膜板及溅射装置，涉及溅射镀膜技术领域，在溅射镀膜过程中，可减少粉尘飘落到待镀膜基板上。该掩膜板包括掩膜板本体，所述掩膜板本体具有镂空区域，所述掩膜板本体的溅射面上设置有多个微凸起。...
田忠朋陈一民高雪伟武捷肖磊
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流体自动定量供给的控制方法及系统
本发明属于流体自动定量供给技术领域，公开了一种流体自动定量供给的控制方法及系统，其在流体自动定量供给过程中，通过计时向密封罐内通入气体使得密封罐内的压力达到设定值时所需的时间t，然后根据预定公式计算出继续向密封罐内通入气...
卜斌李太亮陈一民肖磊
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掩膜组件、真空镀膜装置及其使用方法
本申请公开了一种掩膜组件、真空镀膜装置及其使用方法，属于镀膜技术领域。所述掩膜组件包括：掩膜本体和遮挡部，掩膜本体具有镂空区域，遮挡部设置在掩膜本体上，且位于镂空区域的边缘，遮挡部能够与掩膜本体发生相对位移，以改变镂空区...
田忠朋陈一民肖磊武捷高雪伟
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夹持设备及其工作方法、磁控溅射装置
本发明公开了一种夹持设备及其工作方法、磁控溅射装置，所述夹持设备包括升降机构和多个夹持机构，所述夹持机构固定设置在所述升降机构上，所述夹持机构设置在溅射腔室的周围；所述升降机构用于带动所述夹持机构上升或者下降，以使所述夹...
肖磊陈一民田忠朋
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