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陈一民

作品数：22 被引量：0H指数：0
供职机构：京东方科技集团股份有限公司更多>>
相关领域：自动化与计算机技术理学电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 22篇中文专利

领域

  • 2篇自动化与计算...
  • 1篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 4篇掩膜
  • 4篇真空镀膜
  • 4篇镂空
  • 4篇显示装置
  • 4篇溅射
  • 3篇显示面板
  • 3篇面板
  • 2篇电极
  • 2篇跌倒
  • 2篇镀膜技术
  • 2篇掩膜板
  • 2篇液面
  • 2篇运动信息
  • 2篇指纹
  • 2篇指纹识别
  • 2篇指纹识别功能
  • 2篇声表面波
  • 2篇水性
  • 2篇体积
  • 2篇通路

机构

  • 22篇京东方科技集...

作者

  • 22篇陈一民
  • 11篇肖磊
  • 4篇李太亮
  • 4篇高雪伟
  • 3篇卜斌
  • 3篇赵德江
  • 3篇邓世刚
  • 2篇曹占锋
  • 2篇李晓虎
  • 2篇高浩然
  • 2篇李正亮
  • 2篇任庆荣
  • 2篇姚琪
  • 2篇刘英伟
  • 2篇宁策
  • 2篇黄国东
  • 2篇胡合合
  • 2篇关红涛
  • 1篇冯长海
  • 1篇张丽蕾

年份

  • 2篇2024
  • 1篇2022
  • 1篇2021
  • 1篇2020
  • 3篇2019
  • 3篇2018
  • 4篇2017
  • 4篇2016
  • 1篇2014
  • 2篇2013
共 22 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
一种机器人防跌倒装置及方法
本发明提供了一种机器人防跌倒装置及方法。所述装置包括若干个传感器、中央控制模块和负载，其中，所述传感器，设置在机器人上，用于获取所述机器人的运动信息，所述运动信息包括加速度信息和/或角速度信息；所述中央控制模块，用于依据...
关红涛李太亮黄国东陈一民
文献传递
一种阵列基板及其制造方法
本发明公开了一种阵列基板及其制造方法，该阵列基板包括：衬底基板，设置于所述衬底基板上的像素界定层，所述像素界定层设置有包括底壁和侧壁的开口区域，在所述开口区域内，所述底壁的边缘设置有多个表面为亲水性的亲水诱导柱。本发明所...
赵德江陈一民
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一种阵列基板、其制作方法、显示面板及显示装置
本发明公开一种阵列基板，包括衬底基板；形成在所述衬底基板上的压电感应层；形成在所述压电感应层上的声表面波激发电极和声表面波接收电极以及；形成在所述压电感应层上的光敏电阻层，光敏电阻层位于声表面波激发电极和声表面波接收电极...
刘英伟姚琪梁志伟曹占锋任庆荣陈一民
文献传递
一种用于溅射成膜工艺的掩膜板及溅射装置
本发明实施例提供一种用于溅射成膜工艺的掩膜板及溅射装置，涉及溅射镀膜技术领域，在溅射镀膜过程中，可减少粉尘飘落到待镀膜基板上。该掩膜板包括掩膜板本体，所述掩膜板本体具有镂空区域，所述掩膜板本体的溅射面上设置有多个微凸起。...
田忠朋陈一民高雪伟武捷肖磊
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喷液装置和打印设备
本实用新型涉及显示器制备技术领域，公开了一种喷液装置和打印设备，用以提高液体的流动性，减少液体沉淀堵塞喷嘴现象的发生，提高打印效果。喷液装置，包括：储液腔；与储液腔连通的喷嘴；与储液腔连通的循环管路，循环管路和储液腔形成...
赵德江陈一民冯长海
文献传递
一种机器人防跌倒装置及方法
本发明提供了一种机器人防跌倒装置及方法。所述装置包括若干个传感器、中央控制模块和负载，其中，所述传感器，设置在机器人上，用于获取所述机器人的运动信息，所述运动信息包括加速度信息和/或角速度信息；所述中央控制模块，用于依据...
关红涛李太亮黄国东陈一民
一种阵列基板及其制造方法
本发明公开了一种阵列基板及其制造方法，该阵列基板包括：衬底基板，设置于所述衬底基板上的像素界定层，所述像素界定层设置有包括底壁和侧壁的开口区域，在所述开口区域内，所述底壁的边缘设置有多个表面为亲水性的亲水诱导柱。本发明所...
赵德江陈一民
线路板、发光基板、背光模组、显示面板及显示装置
一种线路板(10)包括：衬底(1)和设置于衬底(1)一侧的应力中性层(2)，其中，应力中性层(2)包括：至少一个第一金属层(21)和至少一个第二金属层(22)，至少一个第二金属层(22)与至少一个第一金属层(21)层叠设...
姚念琦田忠朋宁策李正亮胡合合黄杰贺家煜李菲菲赵坤陈一民
一种曝光机基台的清洗装置
本实用新型涉及设备清洗技术领域，公开了一种曝光机基台的清洗装置。包括：固定架，固定在曝光机上；安装于固定架上的清洗耙本体，清洗耙本体具有容纳清洗液的容腔以及连通容腔的开口；密封开口的塞盖；位于清洗耙本体的清洁面上的海绵，...
肖磊卜斌邓世刚陈一民
文献传递
掩膜组件、真空镀膜装置及其使用方法
本申请公开了一种掩膜组件、真空镀膜装置及其使用方法，属于镀膜技术领域。所述掩膜组件包括：掩膜本体和遮挡部，掩膜本体具有镂空区域，遮挡部设置在掩膜本体上，且位于镂空区域的边缘，遮挡部能够与掩膜本体发生相对位移，以改变镂空区...
田忠朋陈一民肖磊武捷高雪伟
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