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文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 3篇一般工业技术

主题

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  • 1篇ECR
  • 1篇MOS
  • 1篇MOS2

机构

  • 3篇江苏大学

作者

  • 3篇李长生
  • 3篇孙建
  • 3篇金岚
  • 2篇张晔
  • 2篇李学超
  • 1篇田明霞
  • 1篇唐华
  • 1篇张叶

传媒

  • 2篇真空科学与技...
  • 1篇机械工程材料

年份

  • 2篇2009
  • 1篇2008
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
磁控溅射法制备铁磁形状记忆合金Ni-Mn-Ga薄膜的力学性能研究被引量:6
2009年
Ni-Mn-Ga是一种磁致伸缩材料、它兼具形状记忆效应和磁致伸缩效应等多种功能特点,具有响应频率高,变相量大的优点。而PbZrTiO3(PZT)是一种压电陶瓷,具有力-电转换的功能,而且也具有较高的响应频率。为实现磁-力-电的快速转换,本文使用ECR磁控溅射方法在PZT压电陶瓷片上制备出了Ni-Mn-Ga薄膜。并研究了不同溅射功率和热处理条件对薄膜的组织形貌、成分、表面粗糙度及薄膜硬度的影响。SEM断面形貌显示Ni-Mn-Ga薄膜为柱状生长模式;AFM三维形貌显示Ni-Mn-Ga薄膜生长致密,表面粗糙度随着溅射功率的增大而增大;Ni-Mn-Ga薄膜的硬度和弹性模量随退火温度的升高而增大。
金岚李长生张晔孙建李学超
关键词:NI-MN-GA形状记忆合金ECR
磁控溅射MoS_2/WS_2复合薄膜的工艺与摩擦学性能研究被引量:8
2009年
采用MoS2/WS2复合靶材在不锈钢和硅基片上溅射MoS2/WS2纳米薄膜,通过多次实验,得到溅射MoS2/WS2薄膜的最佳工艺如下:溅射气压4.0Pa,靶基距为70mm,溅射功率为150W,溅射时间为3h。使用X-射线衍射仪,能谱仪,扫描电子显微镜对薄膜的成分和结构进行分析。采用HH-3000薄膜结合强度划痕试验仪,纳米压痕测试系统,UNT-3摩擦磨损试验机对薄膜进行机械性能和摩擦磨损性能分析,结果表明:在大气环境中,WS2/MoS2复合薄膜摩擦性能要优于纯MoS2薄膜。
孙建李长生金岚唐华张叶李学超
钛铝系金属间化合物薄膜的制备和摩擦性能被引量:2
2008年
应用射频磁控溅射方法沉积钛铝系金属间化合物薄膜;用X射线衍射仪(XRD)、配有能谱仪(EDS)的扫描电子显微镜(SEM)和UMT-2型摩擦试验机对薄膜的相组成、形貌和摩擦性能进行了分析。结果表明:该薄膜是由TiAl、TiAl3、Al2O3和TiO2相组成;薄膜表面晶粒均匀细小;对于不同钛、铝含量的薄膜,当铝含量(原子分数)为45%时具有最低的摩擦因数;摩擦因数随着载荷、转速和摩擦时间的增加而减小。
田明霞李长生张晔金岚孙建
关键词:射频磁控溅射
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