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文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇性能研究
  • 1篇摩擦学
  • 1篇摩擦学性能
  • 1篇溅射
  • 1篇MOS
  • 1篇MOS2
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 1篇江苏大学

作者

  • 1篇李长生
  • 1篇唐华
  • 1篇孙建
  • 1篇李学超
  • 1篇金岚
  • 1篇张叶

传媒

  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 1篇2009
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
磁控溅射MoS_2/WS_2复合薄膜的工艺与摩擦学性能研究被引量:8
2009年
采用MoS2/WS2复合靶材在不锈钢和硅基片上溅射MoS2/WS2纳米薄膜,通过多次实验,得到溅射MoS2/WS2薄膜的最佳工艺如下:溅射气压4.0Pa,靶基距为70mm,溅射功率为150W,溅射时间为3h。使用X-射线衍射仪,能谱仪,扫描电子显微镜对薄膜的成分和结构进行分析。采用HH-3000薄膜结合强度划痕试验仪,纳米压痕测试系统,UNT-3摩擦磨损试验机对薄膜进行机械性能和摩擦磨损性能分析,结果表明:在大气环境中,WS2/MoS2复合薄膜摩擦性能要优于纯MoS2薄膜。
孙建李长生金岚唐华张叶李学超
共1页<1>
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