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文献类型

  • 2篇专利
  • 1篇期刊文章
  • 1篇会议论文
  • 1篇科技成果

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 3篇氧化物
  • 2篇氧化钆
  • 2篇氧化铕
  • 2篇萃淋树脂
  • 2篇晶体
  • 2篇还原度
  • 2篇激光
  • 2篇激光晶体
  • 2篇光谱
  • 2篇光谱研究
  • 1篇氧化钇
  • 1篇配合物
  • 1篇卟啉
  • 1篇稀土
  • 1篇稀土化合物
  • 1篇稀土氧化物
  • 1篇金属
  • 1篇金属配合物
  • 1篇化合物
  • 1篇过渡金属

机构

  • 5篇中国科学院

作者

  • 5篇高桂芬
  • 4篇张静筠
  • 2篇王淑彬
  • 1篇谷淑珍
  • 1篇李华明
  • 1篇舒火明
  • 1篇金日镇
  • 1篇刘永盛
  • 1篇刘朋军
  • 1篇刘晓播
  • 1篇那天海

传媒

  • 1篇人工晶体学报
  • 1篇中国稀土学会...

年份

  • 1篇2004
  • 1篇1998
  • 1篇1997
  • 1篇1996
  • 1篇1994
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
从高纯氧化钆中除去氧化铕的方法
一种从高纯氧化钆中除去氧化铕的方法,属于物质的分离和纯制技术,采用金属Zn还原度柱与P507萃淋树脂硅球吸附,淋洗柱串联进行,还原柱中的Zn粒床以1∶3的HCl处理30秒后,洗至中性,然后使20mg/ml浓度的GdCl<...
张静筠高桂芬王淑彬
文献传递
限定有害杂质极限含量的超高纯氧化钇的研制被引量:1
1997年
高纯氧化钇(Y2O3)作为YA系列激光晶体的重要原材料具有广泛的应用前景。限定有害杂质并使其低于极限含量的超高纯Y2O3的研究是提高YAG、YAP、YVO4等激光晶体质量、发展其他微电子、光电子材料的迫切需求,也是当前国内外十分关注的研究课题。研制在超净的工作环境下,采用改进的离子交换技术,并设法克服由于使用超细树脂而产生的阻力大、流速低,周期长的缺点。通过改变设备的长径比例和体积比例,实现大体积低浓度条件下的除杂工艺,并与络合、沉淀等多种方法联用的综合化学法,逐步去除Y2O3中的稀土和非稀土杂质,使其达到设定的极限含量,即14种稀土元素杂质含量总和<1μg/g,其中1.06μmNd3+激光输出产生光吸收的有害稀土杂质元素Sm和Dy的含量分别<0.08和0.09μg/g;同时使20多种非稀土杂质极限含量总和<5μg/g。其中Si的极限含量<1.5μg/g,Fe<0.03μg/g,Ca<0.6μg/g,Cl<0.7μg/g,其他杂质极限含量分别<0.1μg/g。采用火花源质谱法分析检测Y2O3中稀土和非稀土杂质含量,结果分别列入表1和表2。表1Y2O3中稀土杂质含量(μg)Y2O3稀土元素(μg)LaCePr?
张静筠高桂芬宋连仁那天海刘晓播张文士
关键词:氧化钇激光晶体
用于高质量激光晶体的超高纯稀土氧化物
张静筠高桂芬
关键词:稀土化合物晶体氧化物激光晶体
氧络过渡金属卟啉配合物的研究
舒火明李华明金日镇周立人彭明生刘朋军谷淑珍高桂芬郑敬河刘永盛
该成果设计、合成并表征了一系列铬(锰)卟啉,研究了其催化氧化碳氢化合物的反应,阐述了过渡金属卟啉的组成、分子结构与其催化氧化活性的关系。系统地研究了高价氧络铬、锰卟啉配合物的制备、表征和氧化碳氢化合物的反应,考察了不同轴...
关键词:
关键词:过渡金属配合物卟啉催化氧化
从高纯氧化钆中除去氧化铕的方法
一种从高纯氧化钆中除去氧化铕的方法,属于物质的分离和纯制技术,采用金属Zn还原度柱与P507萃淋树脂硅球吸附,淋洗柱串联进行,还原柱中的Zn粒床以1∶3的HCl处理30秒后,洗至中性,然后使20mg/ml浓度的GdCl<...
张静筠高桂芬王淑彬
文献传递
共1页<1>
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