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龚桦

作品数：28 被引量：16H指数：2
供职机构：清华大学研究院更多>>
发文基金：国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划深圳市水务发展中长期战略研究项目更多>>
相关领域：电子电信金属学及工艺机械工程医药卫生更多>>

合作作者

文献类型

  • 26篇专利
  • 2篇期刊文章

领域

  • 3篇金属学及工艺
  • 3篇电子电信
  • 2篇机械工程
  • 1篇化学工程
  • 1篇医药卫生

主题

  • 20篇抛光
  • 14篇化学机械抛光
  • 14篇机械抛光
  • 12篇溶胶
  • 12篇晶片
  • 12篇硅溶胶
  • 10篇抛光液
  • 10篇硅晶
  • 10篇硅晶片
  • 9篇氧化硅
  • 9篇二氧化硅
  • 9篇二氧化硅溶胶
  • 6篇抛光垫
  • 5篇桥联
  • 5篇磨粒
  • 5篇化合物
  • 4篇阳离子
  • 4篇阳离子交换
  • 4篇阳离子交换树...
  • 4篇树脂

机构

  • 28篇清华大学
  • 28篇清华大学研究...
  • 26篇深圳市力合材...
  • 1篇深圳大学

作者

  • 28篇龚桦
  • 13篇顾忠华
  • 12篇潘国顺
  • 3篇王宁
  • 2篇高源
  • 1篇邹春莉
  • 1篇汤皎宁
  • 1篇周艳
  • 1篇史晓磊

传媒

  • 1篇光学精密工程
  • 1篇润滑与密封

年份

  • 5篇2017
  • 4篇2016
  • 8篇2015
  • 4篇2014
  • 2篇2013
  • 5篇2012
共 28 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
一种硅晶片抛光组合物及其制备方法
本发明公开了化学机械抛光(CMP)领域的一种硅晶片抛光组合物及其制备方法。抛光组合物含有磨料、碱性化合物、水溶性聚合物和去离子水，还包括聚合物桥联剂和摩擦系数调节剂。其中抛光组合物中水溶性聚合物含量为0.001～5wt％...
潘国顺顾忠华龚桦邹春莉
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一种适用于晶片边缘抛光的组合物及其制备方法
本发明一种适用于晶片边缘抛光的组合物及制备方法，涉及化学机械抛光技术领域，该组合物的组分及配比为，酸性二氧化硅溶胶1～50wt，羧基磷酸化合物0.01～1wt，唑类化合物0.01～1wt，酸性化合物0.01～1wt％，碱...
潘国顺顾忠华龚桦邹春莉罗桂海王鑫陈高攀
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一种适用于低下压力的集成电路铜抛光液
本发明涉及一种适用于低下压力的集成电路铜抛光液，属于微电子辅助材料及超精密加工工艺技术领域。本发明的抛光液包含磨粒、氧化剂和去离子水、含复合抑制剂、复合络合剂和硅溶胶桥联剂。本发明能够在低下压力(1psi以下)条件下实现...
潘国顺顾忠华龚桦邹春莉罗桂海王鑫陈高攀
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一种能够延长抛光垫使用寿命的硅晶片精抛光液
本发明涉及一种能够延长抛光垫使用寿命的硅晶片精抛光液，本发明属于化学机械抛光领域，本发明抛光液包括二氧化硅溶胶、碱性化合物、去离子水余量，还包括聚阴离子纤维素、小分子无机非金属桥联剂、水溶性聚合物和胍基化合物。本发明的抛...
潘国顺顾忠华龚桦邹春莉罗桂海王鑫陈高攀
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一种铜化学机械抛光组合物
本发明公开了属于微电子辅助材料及超精密加工工艺技术领域的一种铜化学机械抛光组合物。该铜化学机械抛光组合物，包括磨粒、氧化剂、络合剂、抛光促进剂和pH调节剂，其特征在于：还包括长链缓蚀剂和表面活性剂。本发明抛光组合物可以显...
顾忠华龚桦王宁潘国顺
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一种高纯硅溶胶的纯化方法
本发明公开了属于化学机械抛光技术领域的一种高纯硅溶胶的纯化方法。适用于超大规模集成电路化学机械抛光中二氧化硅溶胶的纯化。本发明纯化过程为：将再生后的强酸型阳离子交换树脂和强碱型阴离子交换树脂混合均匀，将待纯化硅溶胶加入到...
顾忠华高源龚桦邹春莉潘国顺
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一种能够延长抛光垫使用寿命的硅晶片精抛光液
本发明涉及一种能够延长抛光垫使用寿命的硅晶片精抛光液，本发明属于化学机械抛光领域，本发明抛光液包括二氧化硅溶胶、碱性化合物、去离子水余量，还包括聚阴离子纤维素、小分子无机非金属桥联剂、水溶性聚合物和胍基化合物。本发明的抛...
潘国顺顾忠华龚桦邹春莉罗桂海王鑫陈高攀
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一种硅溶胶的处理方法
本发明涉及一种硅溶胶的处理方法，属于微电子辅助材料及超精密加工工艺技术领域。该方法包括以下步骤：将强酸型阳离子交换树脂及强碱型阴离子交换树脂分别进行再生处理后混合得到强酸强碱混合树脂；将普通硅溶胶和强酸强碱混合树脂放到一...
顾忠华潘国顺龚桦邹春莉罗桂海王鑫陈高攀
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一种用于硅晶片抛光的抛光组合物及其制备方法
本发明公开了属于化学机械抛光技术领域的一种用于硅晶片抛光的抛光组合物及其制备方法。该抛光组合物由功能化二氧化硅溶胶、硅酸改性剂、抛光垫保护剂、碱性化合物、表面活性剂和去离子水组成，其中，按重量百分比，磨料为0.05～50...
潘国顺顾忠华龚桦李拓
一种铜化学机械抛光组合物
本发明公开了属于微电子辅助材料及超精密加工工艺技术领域的一种铜化学机械抛光组合物。该铜化学机械抛光组合物，包括磨粒、氧化剂、络合剂、抛光促进剂和pH调节剂，其特征在于：还包括长链缓蚀剂和表面活性剂。本发明抛光组合物可以显...
顾忠华龚桦王宁潘国顺
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