刘毅楠
- 作品数：10 被引量：4H指数：1
- 供职机构：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金应用光学国家重点实验室开放基金国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：理学机械工程电子电信生物学更多>>
- 软 X 射线接触式显微术抗蚀膜显影条件分析
- 1997年
- 按照生物样品各分辨单元具有多种透过率的特点，设计了一个多衬度的台阶状蛋白质模型，模拟各台阶的真实成像条件，测量了各台阶所对应的抗蚀膜显影速率曲线，对显影条件作了定量分析，并将显影条件与分辨率紧密结合起来，找到了一种较好的定量确定显影条件的方法。
- 刘毅楠王占山李哲曹健林林宜平
- 关键词：生物样品
- 软X射线接触式显微术研究
- 1999年
- 按照生物样品各分辨单元具有多种透过率的特点，设计了一个多衬度的台阶状蛋白质模型，根据曝光量与衬度，信噪比，抗蚀膜性能的关系，确定了曝光量。同时模拟样品模型各台阶的真实成像条件，测量了各台阶所对应的抗蚀膜显影速率曲线，对显影条件作了定量分析。将曝光量，显影条件，与分辨率紧密结合起来，找到了一种较好的实验方法。
- 刘毅楠王占山李哲曹健林林宜平
- 关键词：软X射线显微术生物样品曝光量
- 用接触式显微术方法研究软X射线光刻胶特性
- 1998年
- 我们用Ｈｅｎｋｅ型软Ｘ射线源完成了栅网的接触式成像，采用Ｔａｌｙｓｔｅｐ台阶仪测量了不同曝光时间ＰＭＭＡ光刻胶的溶解速率。由测量曲线可知光刻胶在显影开始时速率较快，随着时间的增加，溶解速率逐渐趋缓，最后达到所有的曝光时间下的样品的溶解速率都相同。这与理论分析十分吻合。
- 王占山刘毅楠曹健林
- 关键词：显微术光刻胶X射线
- 高反射率13nmMo/Si多层膜
- 2001年
- 采用离子束溅射在不同的工艺参数下制备一系列单层 Mo膜、Si膜及多层膜 ,并用原子力显微镜分析单层膜表面粗糙度及两种材料间的界面扩散。当束流电压超过一定数值时 ,可避免单层膜的柱状生长 ;在 Mo- on- Si和 Si- on- Mo界面中 ,Mo- on- Si界面扩散对反射率的影响更大。采用 X射线衍射仪分析多层膜中 Mo、Si材料的晶体结构 ,均为多晶结构 ,其中 Mo为 ( 1 1 0 )晶向 ,Si为 ( 4 0 0 )晶向。根据上述分析优化工艺参数 ,获得的 1 3nm Mo/Si多层膜反射率达到 60 %。
- 刘毅楠马月英曹健林
- 关键词：软X射线多层膜原子力显微镜
- 用光学全息方法研制软X射线Bragg-Fresnel光学元件
- 1999年
- 介绍了软X射线Bragg Fresnel光学元件的特点 ,并以磁控溅射法制备多层膜 ,再采用光学全息方法在涂有光刻胶的多层膜表面上形成波带片图形 ,通过显影。
- 王占山马月英吕俊霞高宏刚刘毅楠裴舒曹健林徐向东洪义麟付绍军
- 关键词：软X射线光学元件多层膜
- 30.4nmSi/C多层膜反射镜的制备与测量被引量：1
- 2000年
- 采用离子束溅射镀膜装置制备了一种新的材料组合Si/C多层膜 ,用于 30 4nm波段的正入射多层膜反射镜。并用软X射线反射率计测得其反射比最大值为 0 14。有效地抑制了 15 0nm处的二级衍射峰。
- 刘毅楠马月英斐舒尼启良胡卫兵曹健林
- 关键词：软X射线多层膜离子束溅射反射镜
- 软X射线光学系统曲面镀膜膜厚测量方法
- 2000年
- 软 X射线光学系统需要在超光滑曲面上均匀镀膜。我们将超光滑曲面看作由若干个小平面拼接而成 ,通过小角衍射仪测量出各个小平面的周期膜厚 ,并拟和出整个曲面的镀膜速率。为提高控制精度 ,我们对同一片多层膜进行等精度多次测量 ,去除其中的粗大误差、系统误差 。
- 刘毅楠马月英裴舒胡卫兵曹健林
- 关键词：软X射线多层膜误差分析
- X射线布拉格-菲涅耳光学元件的实验研究被引量：2
- 1999年
- 用光学全息方法在涂有光刻胶的多层膜表面上形成布拉格－菲涅耳元件所需的波带片图形，通过离子束刻蚀方法将波带片图形转写到多层膜上，完成元件的制作，给出布拉格－菲涅耳光学元件测量结果。测量结果表明上述方法适于制作布拉格－菲涅耳元件。
- 王占山马月英吕俊霞高宏刚刘毅楠裴舒曹健林徐向东洪义麟付绍军
- 关键词：X射线光学元件多层膜波带片
- 高反射率13nmMo/Si多层膜
- 采用离子束溅射在不同的工艺参数下制备一系列单层Mo膜、Si膜及多层膜,并用原子力显微镜分析单层膜表面粗糙度及两种材料间的界面扩散.当束流电压超过一定数值时,可避免单层膜的柱状生长;在Mo-on-Si和Si-onMo界面中...
- 刘毅楠马月英曹健林
- 关键词：多层膜反射率
- 文献传递
- 软X射线多层膜若干基础问题研究
- 本文的主要工作在于摸索优化镀膜工艺的方法。我们采用离子束溅射镀膜装置在不同的工艺参数下，制备了一系列单层Mo膜、单层Si膜及Mo/Si多层膜，通过原子力显微镜、X射线衍射仪、X射线能谱分析等方法，比较、测量了薄膜表面粗糙...
- 刘毅楠
- 关键词：镀膜工艺离子束溅射工艺参数X射线
- 文献传递
