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林密旋

作品数：1 被引量：4H指数：1
供职机构：厦门大学化学化工学院化学系更多>>
发文基金：国家高技术研究发展计划福建省自然科学基金更多>>
相关领域：金属学及工艺更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 1篇约束刻蚀剂层...
  • 1篇微加工
  • 1篇刻蚀
  • 1篇L-胱氨酸
  • 1篇表面化学
  • 1篇GAAS

机构

  • 1篇哈尔滨工业大...
  • 1篇厦门大学

作者

  • 1篇孙立宁
  • 1篇张力
  • 1篇何辉忠
  • 1篇马信洲
  • 1篇丁庆勇
  • 1篇曲东升
  • 1篇林密旋
  • 1篇汤儆

传媒

  • 1篇物理化学学报

年份

  • 1篇2006
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
微圆盘电极技术测定表面化学微加工时的约束刻蚀剂浓度分布被引量：4
2006年
利用微圆盘电极技术,测定了KBr、L-胱氨酸和硫酸组成的刻蚀溶液体系中Pt电极表面电化学氧化产生的刻蚀剂Br2浓度分布,为约束刻蚀剂层技术(CELT)中刻蚀体系的选择和优化提供更直观的依据.GaAs表面CELT微加工实验证明了用微圆盘电极测得的表面刻蚀剂的浓度分布趋势与微加工实验所得到的结果一致.
汤儆马信洲何辉忠张力林密旋曲东升丁庆勇孙立宁
关键词：约束刻蚀剂层技术L-胱氨酸GAAS
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共1页<1>
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