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文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇氮化镓
  • 1篇面粗糙度
  • 1篇晶体
  • 1篇GAN
  • 1篇表面粗糙度
  • 1篇衬底
  • 1篇衬底材料
  • 1篇粗糙度

机构

  • 1篇中国科学院
  • 1篇中国科学院长...

作者

  • 1篇高宏刚
  • 1篇曹健林
  • 1篇陈斌
  • 1篇谢伦
  • 1篇刘琳
  • 1篇王建明

传媒

  • 1篇光学精密工程

年份

  • 1篇1997
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
GaN 用衬底材料 LiGaO_2 晶体超精密抛光的初步实验被引量:7
1997年
主要介绍了作为发光半导体GaN衬底材料的LiGaO2单晶超精密抛光方法及初步结果。利用聚氨酯抛光盘配合SiO2悬浮液,采用机械化学抛光方法,已加工出表面粗糙度优于0.1mm,的超光滑表面。
谢伦高宏刚陈斌曹健林王建明刘琳
关键词:表面粗糙度晶体氮化镓
共1页<1>
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