您的位置: 专家智库 > >

刘俊伯

作品数:93 被引量:15H指数:3
供职机构:中国科学院光电技术研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:机械工程电子电信理学自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 80篇专利
  • 11篇期刊文章
  • 2篇会议论文

领域

  • 17篇机械工程
  • 14篇电子电信
  • 11篇理学
  • 6篇自动化与计算...
  • 1篇轻工技术与工...
  • 1篇文化科学

主题

  • 51篇光刻
  • 23篇光刻机
  • 17篇掩模
  • 16篇物镜
  • 15篇数值孔径
  • 14篇投影光刻
  • 12篇光学
  • 11篇投影光刻机
  • 8篇投影物镜
  • 8篇莫尔条纹
  • 7篇透镜
  • 7篇纳米光刻
  • 7篇宽光谱
  • 7篇光刻物镜
  • 7篇光谱
  • 7篇感器
  • 7篇波像差
  • 7篇成像
  • 7篇传感
  • 7篇传感器

机构

  • 93篇中国科学院
  • 8篇中国科学院大...
  • 2篇许昌职业技术...
  • 1篇电子科技大学
  • 1篇华南理工大学

作者

  • 93篇刘俊伯
  • 68篇胡松
  • 34篇邓钦元
  • 34篇周毅
  • 29篇赵立新
  • 20篇杜婧
  • 19篇唐燕
  • 16篇全海洋
  • 15篇何渝
  • 14篇邓茜
  • 13篇王建
  • 12篇朱咸昌
  • 11篇杨勇
  • 8篇高洪涛
  • 8篇冯金花
  • 6篇陈昌龙
  • 4篇陈铭勇
  • 4篇朱江平
  • 3篇邸成良
  • 2篇唐小萍

传媒

  • 5篇光电工程
  • 3篇光学学报
  • 2篇中国激光
  • 1篇激光与光电子...

年份

  • 1篇2024
  • 13篇2023
  • 10篇2022
  • 2篇2021
  • 5篇2020
  • 6篇2019
  • 4篇2018
  • 14篇2017
  • 14篇2016
  • 15篇2015
  • 9篇2014
93 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
一种宽波段光纤-CCD耦合成像镜头
本发明公开了一种宽波段光纤‑CCD耦合成像镜头,其光学结构为物方远心,物像共轭总长为l=71.5mm;其中物方视场8mm×8mm,物方数值孔径NA=0.063。本镜头放大倍率β=‑0.4×,即缩小2.5倍成倒像于<Ima...
周毅刘俊伯邓钦元司新春胡松高洪涛
文献传递
基于塔尔博特自成像光刻机的照明系统设计与分析被引量:3
2017年
针对塔尔博特自成像光刻机对照明系统的特定需求,基于成像照明光学设计理论,引入非成像光学理论思想,建立照明系统的初始结构。利用光学设计软件Zemax对照明系统光学初始结构进行优化,并在Lighttools中对该照明系统进行建模和大规模分布式光线追迹。追迹结果表明,在照明面积60mm×60mm范围内,照明不均匀度约为1.83%,照明功率密度不小于1.15mW·mm^(-2)。对照明面在光轴方向上的位移容差进行分析,结果表明该照明系统可以满足塔尔博特自成像光刻的需求。
佟军民刘俊伯胡松
关键词:光学设计光刻照明系统容差分析
一种点阵激光器的双远心成像系统
本发明公开了一种点阵激光器的双远心成像系统,其采用了双远心、6片结构,工作波长为532nm。该系统光学共轭总长(物方到像方)L=168mm,像方工作距达到58mm。物方、像方远心度均控制在±0.5度以内。数值孔径达到NA...
司新春刘俊伯周毅邓钦元
文献传递
一种有限元仿真分析中的轴承简化方法
本发明公开了一种有限元仿真分析中的轴承简化方法,该方法采用一种三维间隙单元来对角接触轴承进行有限元分析的简化,在三维绘图软件solidworks中画出轴承的立体模型。在有限元前处理软件Hypermesh中导入轴承模型。将...
程依光刘俊伯胡松赵立新朱江平
文献传递
一种光刻物镜畸变检测调整误差分离装置及方法
本发明公开了一种光刻物镜畸变检测调整误差分离装置及方法,该装置包括照明系统、掩模、掩模台、温度与压强传感器、光刻物镜、夏克‑哈特曼传感器、传感器运动台、干涉仪和环境控制系统。沿所述照明系统激光照明方向依次是安装在掩模台上...
李天全海洋刘俊伯朱咸昌王建胡松杜婧周吉
一种用于纳米位移测量的修正方法
本发明公开了一种用于纳米位移测量的修正方法,该方法对光栅偏振调制纳米位移测量方法的计算模型进行了修正,通过高精度纳米位移台进行扫描标定,拟合计算确定修正模型的参数,再应用最优化算法得出位移量。本方法综合考虑了测量系统中的...
何渝冯金花刘俊伯谷林
文献传递
一种用于光刻系统的单倍双远心光刻投影物镜
本发明公开了一种用于光刻系统的单倍双远心光刻投影物镜,其采用了双远心结构,主要用于将光刻图案投射到所述投影物镜像平面内。该单倍双远心物镜包括从所述物平面沿光轴依次设置了共12片透镜,其中第1枚和第12枚透镜为负透镜,其余...
邓茜刘俊伯赵立新胡松司新春邓钦元周毅程依光
文献传递
一种用于桌面STEPPER光刻机的投影物镜
本发明公开了一种用于桌面STEPPER光刻机的投影物镜,其采用了双远心、14片结构,工作波长为i线(365nm)。该物镜光学共轭总长(物方到像方)L=500mm,物方、像方工作距均为60mm。物方有效视场为75mm×75...
刘俊伯程依光赵立新胡松
文献传递
一种适用于投影光刻机的实时检焦调焦方法
本发明提供一种适用于投影光刻机的实时检焦调焦方法,由光源(1)经准直透镜成为平行光束,通过投影光阑(3)成为一道狭缝。狭缝经成像镜组(4)成像于硅片(6)表面。从硅片表面反射的光束经成像镜组(10、11)成像在线阵CCD...
陈昌龙邸成良唐小萍胡松马平刘俊伯马驰飞何渝
文献传递
基于投影光刻技术的微透镜阵列加工方法
2023年
本文提出了一种基于投影光刻技术的微透镜阵列制备方法,成功制备多种口径、面形及表面粗糙度均良好的微透镜阵列。该方法采用0.2倍投影物镜,降低掩模板制造成本,实现不同口径微透镜阵列制备。采用掩模移动滤波技术,在降低掩模制备复杂性的同时,提高了微透镜阵列面形精度。本文对四种不同口径的微透镜阵列进行制备实验,分别为50μm、100μm、300μm、500μm,其表面形貌加工精度达到微米级,表面粗糙度达到纳米级。实验结果表明,该方法在微透镜阵列制造中具有很大的潜力,与传统方法相比,能够实现更低的线宽和更高的表面面形精度。
龚健文王建刘俊伯刘俊伯胡松
关键词:微透镜阵列
共10页<12345678910>
聚类工具0